JP2017179210A - Fluorine elastomer composition, molded article, sealant, and plasma treatment device and semiconductor manufacturing device containing sealant - Google Patents

Fluorine elastomer composition, molded article, sealant, and plasma treatment device and semiconductor manufacturing device containing sealant Download PDF

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Kojiro Otani
浩二郎 大谷
翔伍 尾原
Shogo Ohara
翔伍 尾原
窪山 剛
Takeshi Kuboyama
剛 窪山
智也 清水
Tomoya Shimizu
智也 清水
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fluorine elastomer composition capable of enhancing plasma resistance of a fluorine elastomer and reducing fastening force or maintaining it substantially equally.SOLUTION: There is provided a fluorine elastomer composition containing at least a fluorine elastomer and yttrium oxide.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は耐プラズマ性及び固着力が弱いことが要求される部位に使用される成型品及びシール材、該成型品及びシール材を形成するための組成物、並びに、シール材を含むプラズマ処理装置及び半導体製造装置に関する。   The present invention relates to a molded product and a sealing material used in a site where plasma resistance and adhesion strength are required to be weak, a composition for forming the molded product and the sealing material, and a plasma processing apparatus including the sealing material. And a semiconductor manufacturing apparatus.

プラズマ雰囲気や薬品雰囲気等の環境下で使用される装置に用いるシール材等の成型品には、様々な化学種に対して高い安定性が求められており、主にフッ素系エラストマーからなる成型品が使用される(特許文献1参照)。これらの装置では、近年効率化等の理由から高濃度で化学反応性の高いガス、薬液等が使用されるようになっており、これまで広く用いられているフッ素系エラストマーからなる成型品では、劣化が激しく使用できないという問題が起こっている。   Molded products such as sealing materials used in equipment used in environments such as plasma atmospheres and chemical atmospheres are required to have high stability against various chemical species. Molded products mainly composed of fluoroelastomers Is used (see Patent Document 1). In these devices, gas, chemical solution, etc. with high concentration and high chemical reactivity have recently been used for reasons such as efficiency improvement, and in molded products made of fluorine-based elastomers that have been widely used so far, There is a problem that it cannot be used due to severe deterioration.

フッ素系エラストマーの中でもパーフルオロエラストマーは特に優れた耐プラズマ性、耐薬品性を示すことから、上記の厳しい環境下で使用される装置に多用されている(特許文献2参照)。   Among fluoroelastomers, perfluoroelastomer exhibits particularly excellent plasma resistance and chemical resistance, and is therefore widely used in devices used in the above severe environments (see Patent Document 2).

また、半導体製造装置の分野においては、一般的にエラストマーシール材は固着力が強く、相手面に強固に固着するため、装置稼働を妨げ、またメンテナンス効率を低下させる原因となっている。そのため、含フッ素系エラストマー基材を、数平均分子量(Mn)が200以上30,000以下であり、重合性二重結合を分子内に1個のみ含有するシリコーンモノマー、重合開始剤および溶剤を含む溶液に接触させ、その後、特定の減圧下で重合開始剤の分解温度以上で熱処理することにより該モノマーを重合させ、含フッ素エラストマー基材表面とその近傍を改質した表面改質含フッ素系エラストマーを製造すると、固着力が弱く、耐プラズマ性のシール材が得られることが知られている(特許文献3参照)。   Also, in the field of semiconductor manufacturing equipment, elastomer sealing materials generally have a strong adhering force and are firmly attached to the mating surface, thereby hindering the operation of the equipment and reducing maintenance efficiency. Therefore, the fluorine-containing elastomer base material includes a silicone monomer having a number average molecular weight (Mn) of 200 or more and 30,000 or less and containing only one polymerizable double bond in the molecule, a polymerization initiator, and a solvent. A surface-modified fluorine-containing elastomer in which the monomer is polymerized by contacting with a solution and then heat-treating at or above the decomposition temperature of the polymerization initiator under a specific reduced pressure, thereby modifying the surface of the fluorine-containing elastomer substrate and its vicinity. Is known to produce a plasma-resistant sealing material (see Patent Document 3).

特開2000−119468号公報JP 2000-119468 A 特開2000−044930号公報JP 2000-044930 A 特開2002−348394号公報JP 2002-348394 A

しかしながら、プラズマ処理装置や半導体製造装置にシール材を装着した場合、プラズマはシール材の表面に照射されることから、シール材は表面から劣化する。したがって、特許文献3に記載されているシール材は、経時変化に弱いという問題がある。更に、特許文献3に記載されている発明は、特殊な製造方法により表面改質含フッ素系エラストマーを製造している。そのため、従来から市販されているフッ素エラストマーを用いることはできないので、汎用性に問題がある。シール材に汎用されているフッ素エラストマーに添加・混練することで、少なくともフッ素エラストマーの耐プラズマ性が向上し、且つ固着力を低下又はほぼ同等に維持できる添加剤があると、汎用のフッ素エラストマーの機能を向上できる。しかしながら、現在のところ、そのような添加剤は知られていない。   However, when a sealing material is attached to a plasma processing apparatus or a semiconductor manufacturing apparatus, since the plasma is irradiated on the surface of the sealing material, the sealing material deteriorates from the surface. Therefore, the sealing material described in Patent Document 3 has a problem that it is vulnerable to changes over time. Furthermore, the invention described in Patent Document 3 manufactures a surface-modified fluorine-containing elastomer by a special manufacturing method. Therefore, since there is no way to use a commercially available fluoroelastomer, there is a problem in versatility. If there is an additive that can improve the plasma resistance of the fluoroelastomer and reduce or maintain almost the same level by adding and kneading it to a fluoroelastomer that is widely used as a sealing material, Function can be improved. However, currently no such additive is known.

本発明は、上記問題を解決する為になされてものであり、鋭意研究を行ったところ、驚くべきことに、フッ素エラストマーに酸化イットリウムを添加すると、フッ素エラストマーの耐プラズマ性が向上し、且つ固着力を低下又はほぼ同等に維持できること(以下、酸化イットリウムの添加前と比較して、フッ素エラストマーの固着力を低下又はほぼ同等に維持できることを「非固着化」と記載することがある。)を新たに見出し、本発明を完成した。   The present invention has been made in order to solve the above problems, and as a result of extensive research, it has surprisingly been found that the addition of yttrium oxide to a fluoroelastomer improves the plasma resistance of the fluoroelastomer and improves the solidity. That the adhesion can be reduced or maintained approximately equivalently (hereinafter, that the adhesion of the fluoroelastomer can be reduced or substantially equivalent to that before addition of yttrium oxide is sometimes referred to as “non-adhesion”). The headline was newly found and the present invention was completed.

すなわち、本発明の目的は、耐プラズマ性が向上し、且つ非固着化できるフッ素エラストマー組成物、該組成物の成型品、シール材、並びに該シール材を含むプラズマ処理装置及び半導体製造装置を提供することである。   That is, an object of the present invention is to provide a fluoroelastomer composition that has improved plasma resistance and can be non-fixed, a molded product of the composition, a sealing material, and a plasma processing apparatus and a semiconductor manufacturing apparatus including the sealing material. It is to be.

本発明は、以下に示す、フッ素エラストマー組成物、成型品、シール材、該シール材を含むプラズマ処理装置及び半導体製造装置に関する。   The present invention relates to a fluoroelastomer composition, a molded article, a sealing material, a plasma processing apparatus including the sealing material, and a semiconductor manufacturing apparatus described below.

(1)フッ素エラストマー、及び、酸化イットリウム、
を少なくとも含む、フッ素エラストマー組成物。
(2)前記フッ素エラストマーが、パーフルオロエラストマーである、
上記(1)に記載のフッ素エラストマー組成物。
(3)前記フッ素エラストマーが、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン系共重合体、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体、テトラフロロエチレン/プロピレン系共重合体、これらの共重合体にエチレンまたはパーフロロアルキルビニルエーテルを共重合させたもの、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体とテトラフロロエチレン/エチレン交互共重合体またはポリビニリデンフロライドとのブロック共重合体から選ばれる少なくとも1種のエラストマーである、
上記(1)に記載のフッ素エラストマー組成物。
(4)前記フッ素エラストマーが、
パーフルオロエラストマー、及び、
ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン系共重合体、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体、テトラフロロエチレン/プロピレン系共重合体、これらの共重合体にエチレンまたはパーフロロアルキルビニルエーテルを共重合させたもの、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体とテトラフロロエチレン/エチレン交互共重合体またはポリビニリデンフロライドとのブロック共重合体、から選ばれる少なくとも1種のエラストマー、
を含む上記(1)に記載のフッ素エラストマー組成物。
(5)シリコーンゴムを更に含む、
上記(1)〜(4)の何れか一に記載のフッ素エラストマー組成物。
(6)前記フッ素エラストマー組成物が、耐ラジカル性及び非固着化用である、
上記(1)〜(5)の何れか一に記載のフッ素エラストマー組成物。
(7)前記フッ素エラストマーが架橋している、
上記(1)〜(6)の何れか一に記載のフッ素エラストマー組成物。
(8)上記(7)に記載のフッ素エラストマー組成物を含む成型品。
(9)上記(7)に記載のフッ素エラストマー組成物を含むシール材。
(10)上記(9)に記載のシール材を含むプラズマ処理装置。
(11)上記(9)に記載のシール材を含む半導体製造装置。
(1) Fluoroelastomer and yttrium oxide,
A fluoroelastomer composition comprising at least
(2) The fluoroelastomer is a perfluoroelastomer.
The fluorine elastomer composition according to (1) above.
(3) The fluoroelastomer is a vinylidene fluoride / hexafluoropropene copolymer, a vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer, a tetrafluoroethylene / propylene copolymer, or a copolymer thereof. Block copolymer of vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer and tetrafluoroethylene / ethylene alternating copolymer or polyvinylidene fluoride copolymerized with ethylene or perfluoroalkyl vinyl ether At least one elastomer selected from coalescence,
The fluorine elastomer composition according to (1) above.
(4) The fluorine elastomer is
Perfluoroelastomer, and
Vinylidene fluoride / hexafluoropropene copolymer, vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer, tetrafluoroethylene / propylene copolymer, ethylene or perfluoroalkyl vinyl ether in these copolymers And a block copolymer of vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer and tetrafluoroethylene / ethylene alternating copolymer or polyvinylidene fluoride. Of elastomer,
The fluorine elastomer composition according to the above (1), comprising:
(5) further comprising silicone rubber,
The fluorine elastomer composition according to any one of (1) to (4) above.
(6) The fluoroelastomer composition is for radical resistance and non-sticking.
The fluorine elastomer composition according to any one of (1) to (5) above.
(7) The fluoroelastomer is crosslinked.
The fluorine elastomer composition according to any one of (1) to (6) above.
(8) A molded product comprising the fluoroelastomer composition according to (7) above.
(9) A sealing material comprising the fluoroelastomer composition according to (7) above.
(10) A plasma processing apparatus including the sealing material according to (9).
(11) A semiconductor manufacturing apparatus including the sealing material according to (9).

本発明のフッ素エラストマー組成物は、酸化イットリウムを添加することで、フッ素エラストマーの耐プラズマ性を向上させ、且つ非固着化できる。したがって、本発明のフッ素エラストマー組成物は、シール材等に用いることができる。   The fluoroelastomer composition of the present invention can improve the plasma resistance of the fluoroelastomer and can be non-adhered by adding yttrium oxide. Therefore, the fluoroelastomer composition of the present invention can be used for a sealing material or the like.

図1は、実施例1及び比較例1〜6の耐プラズマ性能の評価結果を表すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the evaluation results of the plasma resistance performance of Example 1 and Comparative Examples 1-6. 図2は、実施例1及び比較例1〜6の固着力の評価結果を表すグラフである。FIG. 2 is a graph showing the evaluation results of the adhesion strength of Example 1 and Comparative Examples 1-6. 図3は、酸化イットリウムの添加量と耐プラズマ性能の評価結果を表すグラフである。FIG. 3 is a graph showing the evaluation results of the addition amount of yttrium oxide and the plasma resistance performance. 図4は、実施例2〜3及び比較例7〜10の固着力の評価結果を表すグラフである。FIG. 4 is a graph showing the evaluation results of the adhesion strength of Examples 2-3 and Comparative Examples 7-10.

以下に、本発明のフッ素エラストマー組成物、成型品、シール材、該シール材を含むプラズマ処理装置及び半導体製造装置について詳しく説明する。なお、本発明において、「組成物」とは、フッ素エラストマーが架橋済み(部分的に架橋した状態を含む)、未架橋の何れの場合も含む。「シール材」とは、本発明のフッ素エラストマー組成物(以下、単に「組成物」と記載することがある。)を装置等のシールに適した形状に成型した後、架橋・硬化させたものを意味する。また、「成型品」とは、シールに適した形状に加え、シール以外の用途に適した形状を含めたものを意味する。   Hereinafter, the fluorine elastomer composition, molded product, sealing material, plasma processing apparatus and semiconductor manufacturing apparatus including the sealing material of the present invention will be described in detail. In the present invention, the “composition” includes both cases where the fluoroelastomer has been crosslinked (including a partially crosslinked state) and uncrosslinked. “Sealing material” refers to a material obtained by molding the fluoroelastomer composition of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “composition”) into a shape suitable for sealing of an apparatus or the like, and then crosslinking and curing the composition. Means. The “molded product” means a product including a shape suitable for a seal and a shape suitable for an application other than the seal.

本発明の組成物に用いられるフッ素エラストマーは、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン系共重合体、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体、テトラフロロエチレン/プロピレン系共重合体、等が挙げられる。また、これらの共重合体にエチレンやパーフロロアルキルビニルエーテルを更に共重合させたものでもよい。また、フッ素ゴム(ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体)とフッ素樹脂(テトラフロロエチレン/エチレン交互共重合体及びポリビニリデンフロライド)とのブロック共重合体であるフッ素系熱可塑性エラストマーも使用可能である。また、これらのフッ素エラストマーを混合することも可能である(以下、本段落に記載したフッ素エラストマーを「フッ素エラストマー(A)」と記載することがある。)。上記のフッ素エラストマー(A)は、公知の方法により合成してもよいが、市販されているものを用いてもよい。   The fluoroelastomer used in the composition of the present invention is a vinylidene fluoride / hexafluoropropene copolymer, a vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer, a tetrafluoroethylene / propylene copolymer, Etc. These copolymers may be further copolymerized with ethylene or perfluoroalkyl vinyl ether. In addition, a fluorine-based copolymer which is a block copolymer of fluororubber (vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer) and a fluororesin (tetrafluoroethylene / ethylene alternating copolymer and polyvinylidene fluoride). Thermoplastic elastomers can also be used. These fluorine elastomers can also be mixed (hereinafter, the fluorine elastomer described in this paragraph may be referred to as “fluorine elastomer (A)”). Although said fluorine elastomer (A) may be synthesize | combined by a well-known method, what is marketed may be used.

また、フッ素エラストマーとしては、パーフルオロエラストマーを用いることもできる。パーフルオロエラストマーは、耐薬品性、耐プラズマ性が非常に優れているものの、一般的なフッ素エラストマー(A)と比較して非常に高価である。そのため、パーフルオロエラストマーのみでO−リング等のシール材を形成することもあるが、パーフルオロエラストマーは、フッ素エラストマー(A)に添加・混合することで、フッ素エラストマー(A)の耐プラズマ性を向上させる目的でも使用される(例えば、特許第4778782号公報参照)。そのため、パーフルオロエラストマー単独で形成したシール材の耐プラズマ性を更に向上させ、且つ非固着化しようとする試みはなかった。後述する実施例に示すとおり、酸化イットリウムを添加することで、パーフルオロエラストマー自体の耐プラズマ性を更に向上させ、且つ非固着化できることは、本発明者らが新たに見出したものである。   Moreover, a perfluoroelastomer can also be used as a fluorine elastomer. A perfluoroelastomer is very expensive compared to a general fluoroelastomer (A), although it has excellent chemical resistance and plasma resistance. For this reason, a sealing material such as an O-ring may be formed only with perfluoroelastomer, but perfluoroelastomer can be added to and mixed with fluoroelastomer (A) to improve the plasma resistance of fluoroelastomer (A). It is also used for the purpose of improving (see, for example, Japanese Patent No. 47788782). Therefore, there has been no attempt to further improve the plasma resistance of the sealing material formed of perfluoroelastomer alone and to make it non-sticking. As shown in Examples described later, the present inventors have newly found that by adding yttrium oxide, the plasma resistance of the perfluoroelastomer itself can be further improved and non-adhered.

パーフルオロエラストマーとしては、パーフルオロオレフィンと、パーフルオロ(アルキルビニル)エーテル、パーフルオロ(アルコキシビニル)エーテル、及びその混合物からなる群より選択されたパーフルオロビニルエーテルと、硬化部位モノマーとの共重合単位を含有するパーフルオロエラストマー、等が挙げられる。   The perfluoroelastomer is a copolymer unit of a perfluorovinyl ether selected from the group consisting of perfluoroolefin, perfluoro (alkyl vinyl) ether, perfluoro (alkoxy vinyl) ether, and a mixture thereof, and a curing site monomer. Perfluoroelastomers containing, and the like.

硬化部位モノマーとしては、ヨウ素や臭素を含む硬化部位モノマーやシアノ基を含む硬化部位モノマーが挙げられる。ヨウ素や臭素を含む硬化部位モノマーとしては、CF=CF(CFI、CF=CF(CFBr、I(CFI等が挙げられる。またシアノ基を含む硬化部位モノマーの例としては、シアノ基含有パーフルオロビニルエーテルが挙げられ、例えば、CF=CFO(CFOCF(CF)CN(n:2〜4)、CF=CFO(CFCN(n:2〜12)、CF=CFO[CFCF(CF)O](CFCN(n:2、m:1〜5)、CF=CFO[CFCF(CF)O](CFCN(n:1〜4、m:1〜2)、CF=CFO[CFCF(CF)O]CFCF(CF)CN(n:0〜4)等が挙げられる。パーフルオロエラストマーは、公知の方法により合成してもよいが、市販されているものを用いてもよい。 Examples of the curing site monomer include a curing site monomer containing iodine and bromine and a curing site monomer containing a cyano group. Examples of the curing site monomer containing iodine or bromine include CF 2 ═CF (CF 2 ) n I, CF 2 ═CF (CF 2 ) n Br, I (CF 2 ) n I, and the like. Examples of the cured site monomer containing a cyano group include cyano group-containing perfluorovinyl ether. For example, CF 2 = CFO (CF 2 ) n OCF (CF 3 ) CN (n: 2 to 4), CF 2 = CFO (CF 2 ) n CN (n: 2 to 12), CF 2 = CFO [CF 2 CF (CF 3 ) O] m (CF 2 ) n CN (n: 2, m: 1 to 5), CF 2 = CFO [CF 2 CF ( CF 3) O] m (CF 2) n CN (n: 1~4, m: 1~2), CF 2 = CFO [CF 2 CF (CF 3) O] n CF 2 CF (CF 3 ) CN (n: 0 to 4) and the like. The perfluoroelastomer may be synthesized by a known method, but a commercially available one may be used.

フッ素エラストマーは、耐薬品性、耐プラズマ性が非常に優れたパーフルオロエラストマーのみを用いてもよいし、フッ素エラストマー(A)のみを用いてもよい。また、パーフルオロエラストマーとフッ素ラストマー(A)を混合して用いてもよい。混合する場合は、後述する実施例に示すとおり、パーフルオロエラストマーの配合割合が多い程、耐プラズマ性が向上することから、所期の耐プラズマ性、非固着化を考慮しながら適宜配合量を決めればよい。   As the fluoroelastomer, only a perfluoroelastomer having excellent chemical resistance and plasma resistance may be used, or only the fluoroelastomer (A) may be used. Further, a mixture of perfluoroelastomer and fluorine lastomer (A) may be used. In the case of mixing, as shown in the examples described later, the greater the blending ratio of the perfluoroelastomer, the more the plasma resistance is improved. Just decide.

また、組成物には、必要に応じてシリコーンゴムを添加してもよい。シリコーンゴムとしては、メチルビニルシリコーンゴム、メチルビニルフェニルシリコーンゴム、フロロシリコーンゴム、等が挙げられる。また、これらのシリコーンゴムを混合してもよい。   Moreover, you may add a silicone rubber to a composition as needed. Examples of the silicone rubber include methyl vinyl silicone rubber, methyl vinyl phenyl silicone rubber, fluoro silicone rubber, and the like. These silicone rubbers may be mixed.

酸化イットリウム(Y23)は、フッ素エラストマーに混練して分散できるものであれば特に制限はなく、市販されている酸化イットリウムを用いることができる。なお、市販されている酸化イットリウムは、粒径が約10nm〜7μmのものが知られている。組成物を製造する際に、混練機を用いて酸化イットリウムとフッ素エラストマーを混練する場合、酸化イットリウムの粒径が大きすぎると混練機のローラーを損傷する場合がある。そのため、製造の観点からは、酸化イットリウムの粒径は、約10nm〜3μmが好ましく、約10nm〜1μmがより好ましい。 Yttrium oxide (Y 2 O 3 ) is not particularly limited as long as it can be kneaded and dispersed in a fluorine elastomer, and commercially available yttrium oxide can be used. In addition, the commercially available yttrium oxide has a particle diameter of about 10 nm to 7 μm. When kneading yttrium oxide and fluoroelastomer using a kneader when producing the composition, if the particle size of yttrium oxide is too large, the rollers of the kneader may be damaged. Therefore, from the viewpoint of production, the particle diameter of yttrium oxide is preferably about 10 nm to 3 μm, more preferably about 10 nm to 1 μm.

なお、酸化イットリウムを樹脂に添加すると耐プラズマ性が向上することは知られている(特開2011−159653号公報)。しかしながら、前記公報には感光性レジストに酸化イットリウムを添加すると耐プラズマ性が向上することが記載されているに過ぎず、フッ素エラストマーに酸化イットリウムを添加することで、耐プラズマ性が向上し、且つ非固着化できることは、本発明者らが新たに見出したことである。後述する実施例に示すとおり、酸化イットリウムを添加するほど耐プラズマ性は向上するので、添加量の下限は特に制限は無く、例えば、0.5phr以上、1phr以上、5phr以上等、適宜決めればよい。なお、酸化イットリウムの添加量が多すぎるとゴム弾性が無くなるので、80phr以下、50phr以下、25phr以下とすればよい。   It is known that plasma resistance is improved when yttrium oxide is added to a resin (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-159653). However, the above publication only describes that adding yttrium oxide to a photosensitive resist improves plasma resistance, and adding yttrium oxide to a fluoroelastomer improves plasma resistance, and The fact that they can be non-fixed is a new finding by the present inventors. As shown in the examples described later, the plasma resistance improves as yttrium oxide is added, so the lower limit of the addition amount is not particularly limited. . Note that if the amount of yttrium oxide added is too large, the rubber elasticity is lost.

また、本発明の組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、カーボンブラック、炭酸カルシウム、シリカ、珪酸塩鉱物(例えば、マイカ、タルク等)、硫酸バリウム、アルミナ及び、有機補強材等の充填材、又は老化防止剤等を含んでもよい。   In addition, the composition of the present invention includes carbon black, calcium carbonate, silica, silicate minerals (for example, mica, talc, etc.), barium sulfate, alumina, and organic reinforcing materials as long as the effects of the present invention are not impaired. A filler, an anti-aging agent, or the like may be included.

組成物は、未架橋であっても、架橋済みであってもよい。未架橋の組成物の場合は、未架橋のフッ素エラストマー及び酸化イットリウム、更に、必要に応じて充填材、老化防止剤等を加えて混練すればよい。混練には、オープンロール、ニーダー、バンバリーミキサー、2軸押出し機等の公知の混練機を用いればよいが、これらに限定されるものではない。未架橋の組成物からシール材等の成型品を製造する場合は、未架橋の組成物に架橋剤等を添加して更に混練後、架橋すればよい。なお、未架橋の組成物は予め架橋剤等を含んでいてもよい。架橋構造については特に制限は無く、例えば、過酸化物架橋の構造が挙げられる。   The composition may be uncrosslinked or crosslinked. In the case of an uncrosslinked composition, an uncrosslinked fluoroelastomer and yttrium oxide and, if necessary, a filler, an antiaging agent, etc. may be added and kneaded. For kneading, a known kneader such as an open roll, a kneader, a Banbury mixer, or a twin screw extruder may be used, but is not limited thereto. When a molded product such as a sealing material is produced from an uncrosslinked composition, a crosslinking agent or the like may be added to the uncrosslinked composition and further kneaded and then crosslinked. The uncrosslinked composition may contain a crosslinking agent or the like in advance. There is no restriction | limiting in particular about a crosslinked structure, For example, the structure of a peroxide bridge | crosslinking is mentioned.

架橋剤は、フッ素エラストマーを架橋することができれば特に制限は無く、例えば、有機過酸化物により架橋すればよい。有機過酸化物架橋剤としては、フッ素系エラストマー架橋用の公知のものを用いることができ、例えば、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキシジイソプロピルベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)へキサン、等が挙げられる。   The cross-linking agent is not particularly limited as long as it can cross-link the fluoroelastomer. For example, the cross-linking agent may be cross-linked with an organic peroxide. As the organic peroxide crosslinking agent, known ones for crosslinking a fluorine-based elastomer can be used. For example, dicumyl peroxide, di-t-butylperoxydiisopropylbenzene, 2,5-dimethyl-2,5 -Di (t-butylperoxy) hexane, etc. are mentioned.

共架橋剤としては、フッ素系エラストマー架橋用の公知のものを用いることができる。例えば、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルトリメリレート、N,N’−m−フェニレンジマレイミド、トリメチロールプロパントリメタクリレート、等が挙げられる。その他、アクリレート系、メタクリレート系モノマー、等も用いることができる。   As the co-crosslinking agent, a known one for crosslinking a fluorine-based elastomer can be used. For example, triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, triallyl trimellylate, N, N'-m-phenylene dimaleimide, trimethylolpropane trimethacrylate, and the like can be mentioned. In addition, acrylate-based and methacrylate-based monomers can also be used.

架橋済みの組成物の場合は、未架橋のフッ素エラストマー、酸化イットリウム、架橋剤及び共架橋剤、更に、必要に応じて充填材、老化防止剤等を混練し、次いで架橋することで提供できる。架橋後の組成物は、切削等により、所期の形状に成型することができる。   In the case of a crosslinked composition, it can be provided by kneading an uncrosslinked fluoroelastomer, yttrium oxide, a crosslinking agent and a co-crosslinking agent, and further, if necessary, a filler, an anti-aging agent, etc., and then crosslinking. The composition after crosslinking can be formed into an expected shape by cutting or the like.

また、シール材等の所期の形状の成型品を効率よく製造する場合は、先ず、未架橋のフッ素エラストマー、酸化イットリウム、架橋剤及び共架橋剤、更に、必要に応じて充填材、老化防止剤等を混練して未架橋の組成物を作製する。そして、未架橋の組成物を所望形状の金型に所定量充填し、架橋すればよい。架橋は、加熱プレスをすればよく、また、必要に応じて、オーブンで150℃〜250℃、1時間〜32時間の二次架橋を施してもよい。   In order to efficiently produce molded products of the desired shape such as sealing materials, first, uncrosslinked fluoroelastomer, yttrium oxide, crosslinking agent and co-crosslinking agent, and further, if necessary, filler, anti-aging An uncrosslinked composition is prepared by kneading an agent or the like. Then, a predetermined amount of uncrosslinked composition may be filled in a mold having a desired shape and crosslinked. The crosslinking may be performed by hot pressing, and if necessary, secondary crosslinking may be performed in an oven at 150 ° C. to 250 ° C. for 1 hour to 32 hours.

また、加熱プレスに代え、電離放射線を用いることもできる。電離放射線の種類としては、直接または間接に空気を電離する能力を持つ電磁波または粒子線であればよい。例えば、α線、β線、γ線、重陽子線、陽子線、中性子線、X線、電子線が挙げられるが、これらに限定されない。また、これら放射線を組み合わせて使用しても良い。   Further, ionizing radiation can be used instead of the heating press. The type of ionizing radiation may be an electromagnetic wave or particle beam having the ability to ionize air directly or indirectly. Examples include, but are not limited to, α rays, β rays, γ rays, deuteron rays, proton rays, neutron rays, X rays, and electron rays. Moreover, you may use combining these radiation.

シール材の形状は、例えば、シート状、棒状、リング状、各種の複雑なブロック形状等、その用途に応じて任意の形状が挙げられる。また、成型品の形状は、上記のシール材の形状に加え、容器状、板状、プラズマ処理が必要な物品のホルダー等が挙げられる。例えば、プラズマ処理が必要な物品をチャンバー内に置く際に、当該物品を保持し且つプラズマ処理が必要な部分は露出し、プラズマ処理が不要な部分は被覆するような形状のホルダーを作製することで、チャンバー内で所望の物品をプラズマ処理することができる。酸化イットリウムを添加することで成型品が非固着化するので、プラズマ処理後の物品の分離が従来と比較して容易になる。   Examples of the shape of the sealing material include a sheet shape, a rod shape, a ring shape, various complicated block shapes, and the like, depending on the application. In addition to the shape of the sealing material, the shape of the molded product includes a container shape, a plate shape, a holder for an article that requires plasma treatment, and the like. For example, when placing an article requiring plasma treatment in a chamber, a holder is formed that holds the article and exposes the part that requires plasma treatment and covers the part that does not require plasma treatment. Thus, the desired article can be plasma treated in the chamber. By adding yttrium oxide, the molded product becomes non-fixed, so that the separation of the article after the plasma treatment becomes easier as compared with the conventional case.

本発明の組成物は上記の特性を有することから、本発明の組成物を用いた成型品は高温、真空といった厳しい環境下での使用に好適である。したがって、プラズマに曝されるプラズマ処理装置や半導体製造装置に、成型品として組み込むことができる。なお、プラズマガスの種類は不問であり、例えば、プラズマ処理装置ではO、CF、O+CF、H、CHF、CHF、CH、Cl、C、BCl、NF、NH等が一般的であるが、本発明の成型品は何れのプラズマに対しても優れた耐性を有する。 Since the composition of the present invention has the above-mentioned characteristics, a molded article using the composition of the present invention is suitable for use under severe environments such as high temperature and vacuum. Therefore, it can be incorporated as a molded product in a plasma processing apparatus or semiconductor manufacturing apparatus exposed to plasma. The type of plasma gas is not limited. For example, in a plasma processing apparatus, O 2 , CF 4 , O 2 + CF 4 , H 2 , CHF 3 , CH 3 F, CH 2 F 2 , Cl 2 , C 2 F 6 , BCl 3 , NF 3 , NH 3 and the like are common, but the molded product of the present invention has excellent resistance to any plasma.

以下に実施例を掲げ、本発明を具体的に説明するが、この実施例は単に本発明の説明のため、その具体的な態様の参考のために提供されているものである。これらの例示は本発明の特定の具体的な態様を説明するためのものであるが、本願で開示する発明の範囲を限定したり、あるいは制限することを表すものではない。   The present invention will be described in detail with reference to the following examples, which are provided merely for the purpose of illustrating the present invention and for reference to specific embodiments thereof. These exemplifications are for explaining specific specific embodiments of the present invention, but are not intended to limit or limit the scope of the invention disclosed in the present application.

《実施例1、比較例1〜6》
(1)各種添加剤を添加したシール材の製造
<原料>
原料には、以下の製品を用いた。
・パーフルオロエラストマー:スリーエムジャパン社製
・共架橋剤:日本化成社製、TAIC
・架橋剤:日本油脂社製、パーヘキサ25B
・各種添加剤
酸化イットリウム(Y):信越化学社製、粒径約20nm
酸化アルミニウム(Al):CIK社製
シリコンカーバイド(SiC):エネテック総研社製
ポリテトラフルオロエチレン(PTFE):スリーエムジャパン社製
窒化アルミニウム(AlN):トクヤマ社製
カーボン:Cancarb社製
<< Example 1, Comparative Examples 1-6 >>
(1) Manufacture of sealing materials with various additives <Raw materials>
The following products were used as raw materials.
・ Perfluoroelastomer: manufactured by 3M Japan ・ Co-crosslinking agent: manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd., TAIC
・ Cross-linking agent: manufactured by Nippon Oil & Fats, Perhexa 25B
Various additives Yttrium oxide (Y 2 O 3 ): Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., particle size of about 20 nm
Aluminum oxide (Al 2 O 3 ): manufactured by CIK Silicon carbide (SiC): manufactured by Enetech Soken Co., Ltd. Polytetrafluoroethylene (PTFE): manufactured by 3M Japan Co., Ltd. Aluminum nitride (AlN): manufactured by Tokuyama Corporation Carbon: manufactured by Cancarb

<未架橋の組成物の作製>
2軸オープンロール(入江鉄工所社製)に、上記原料を表1に示す配合となるように投入し混練することで、未架橋の組成物を作製した。
<Preparation of uncrosslinked composition>
An uncrosslinked composition was prepared by charging the kneaded material into a biaxial open roll (manufactured by Irie Iron Works Co., Ltd.) so as to have the composition shown in Table 1 and kneading.

<成型温度、成型時間>
先ず、MDR装置(Flexsys社製、RHEOMETER MDR 2000)に、上記未架橋の組成物を適量投入した。そして、150℃、1時間で試験を実施し、成型時間の指標となるTc90のデータを得た。
<Molding temperature and molding time>
First, an appropriate amount of the above-mentioned uncrosslinked composition was charged into an MDR apparatus (manufactured by Flexsys, RHEOMETER MDR 2000). And the test was implemented at 150 degreeC and 1 hour, and the data of Tc90 used as the parameter | index of molding time were obtained.

<成型、2次架橋(Oリングの製造)>
150℃に加熱したOリング成型用金型(AS568−214サイズ)に未架橋の組成物を適量投入した。次に、MDRで算出したTc90を基に決定した時間の1.2倍の時間にて各種添加剤を添加したサンプルを成型した。成型終了後、金型から成型体を取り出し、不要なバリを取り除いた。そして、180℃のオーブン中で4時間二次架橋を実施し、架橋した組成物を用いたシール材を製造した。
<Molding, secondary cross-linking (O-ring production)>
An appropriate amount of an uncrosslinked composition was charged into an O-ring mold (AS568-214 size) heated to 150 ° C. Next, a sample to which various additives were added was molded at a time 1.2 times the time determined based on Tc90 calculated by MDR. After molding, the molded body was taken out from the mold, and unnecessary burrs were removed. And secondary crosslinking was implemented for 4 hours in 180 degreeC oven, and the sealing material using the bridge | crosslinked composition was manufactured.

(2)耐プラズマ性の評価
製造したシール材に以下の条件でプラズマを曝露し、曝露前後でのシール材の質量減少率で耐プラズマ性を評価した。
・装置:サムコ社製RIE−200IP
・シール材:φ3.53×30mm(AS568−214サイズのカット品)
・ガス:O/CF=16/16
・処理圧力:2.66Pa
・出力:900W
・曝露時間:10min
・重量減少率(重量%)=〔(プラズマ曝露前の重量−プラズマ曝露直後の重量)/(プラズマ曝露前の重量)〕×100
(2) Evaluation of plasma resistance Plasma was exposed to the manufactured sealing material under the following conditions, and the plasma resistance was evaluated by the mass reduction rate of the sealing material before and after the exposure.
・ Device: RIE-200IP manufactured by Samco
・ Sealant: φ3.53 × 30mm (AS568-214 size cut product)
Gas: O 2 / CF 4 = 16/16
・ Processing pressure: 2.66 Pa
・ Output: 900W
・ Exposure time: 10 min
Weight reduction rate (% by weight) = [(weight before plasma exposure−weight immediately after plasma exposure) / (weight before plasma exposure)] × 100

図1は、実施例1及び比較例1〜6の耐プラズマ性の評価結果を表すグラフである。図1から明らかなように、酸化イットリウムと酸化アルミニウムを添加すると、耐プラズマ性が高いとされているパーフルオロエラストマーの耐プラズマ性を更に向上できることが明らかとなった。   FIG. 1 is a graph showing the evaluation results of the plasma resistance of Example 1 and Comparative Examples 1-6. As is apparent from FIG. 1, it has been clarified that the addition of yttrium oxide and aluminum oxide can further improve the plasma resistance of the perfluoroelastomer, which is said to have high plasma resistance.

(3)固着力の評価
製造したシール材の固着力を以下の手順で評価した。
(ア)シール材(AS568−214サイズ)を25%圧縮できるSUS304製のあり溝部材に嵌め込んだ。
(イ)シール材を嵌め込んだ部材にA5052アルマイト製の板を密着させ、ボルトで締め付けることでシール材を押し潰した。その状態で、オーブンに投入し、200℃で22時間加熱した。
(ウ)加熱終了後、オーブンから取出し、空気中で23℃±2℃まで冷却した。
(エ)あり溝が形成された部材を土台に固定し、A5052アルマイト製の板を引き剥がす力をオートグラフ(株式会社島津製作所、AG50kN)で測定した。なお、測定は、23℃±2℃、引張速度10±1mm/minの条件で行った。
(3) Evaluation of adhesion strength The adhesion strength of the produced sealing material was evaluated by the following procedure.
(A) The sealing material (AS568-214 size) was fitted into a dovetail groove member made of SUS304 that can be compressed by 25%.
(A) A 5052 alumite plate was brought into close contact with the member fitted with the sealing material, and the sealing material was crushed by tightening with a bolt. In that state, it was put into an oven and heated at 200 ° C. for 22 hours.
(C) After completion of heating, it was taken out from the oven and cooled in air to 23 ° C. ± 2 ° C.
(D) The member in which the groove was formed was fixed to the base, and the force to peel off the A5052 alumite plate was measured with an autograph (Shimadzu Corporation, AG 50 kN). The measurement was performed under the conditions of 23 ° C. ± 2 ° C. and a tensile speed of 10 ± 1 mm / min.

図2は、実施例1及び比較例1〜6の固着力の評価結果を表すグラフである。図2から明らかなように、パーフルオロエラストマーに添加することで、製造したシール材の非固着化が見られたのは酸化イットリウムのみであった。その他の添加剤は、逆にシール材の固着力が強くなった。以上の結果より、酸化アルミニウム等、パーフルオロエラストマーに添加することで耐プラズマ性を向上できる添加剤は複数明らかとなったが、耐プラズマ性が向上し、且つ非固着化できるのは酸化イットリウムのみであることが明らかとなった。   FIG. 2 is a graph showing the evaluation results of the adhesion strength of Example 1 and Comparative Examples 1-6. As is clear from FIG. 2, only the yttrium oxide was found to be non-adherent in the produced sealing material by adding to the perfluoroelastomer. The other additives, on the contrary, increased the adhesive strength of the sealing material. From the above results, a plurality of additives such as aluminum oxide that can be improved in plasma resistance by adding to perfluoroelastomer have been clarified. However, only yttrium oxide can improve plasma resistance and can be non-fixed. It became clear that.

(4)酸化イットリウムの添加量と耐プラズマ性の評価
上記実施例1の酸化イットリウムの添加量を変えたシール材を作製し、上記と同様の手順で耐プラズマ性を評価した。
図3は酸化イットリウムの添加量と耐プラズマ性の評価結果を表すグラフである。図3に示すように、酸化イットリウムの添加量を増加することで、耐プラズマ性が向上することが明らかとなった。
(4) Evaluation of addition amount of yttrium oxide and plasma resistance The sealing material which changed the addition amount of the yttrium oxide of the said Example 1 was produced, and plasma resistance was evaluated in the procedure similar to the above.
FIG. 3 is a graph showing the amount of yttrium oxide added and the evaluation results of plasma resistance. As shown in FIG. 3, it became clear that plasma resistance is improved by increasing the amount of yttrium oxide added.

《実施例2〜3、比較例7〜10》
(1)各種フッ素エラストマーに添加した際の固着力の評価
次に、フッ素エラストマーとして、フッ素エラストマー(A)のみを用いた場合、及び、フッ素エラストマー(A)+パーフルオロエラストマーを用いた場合の固着力を評価した。評価は、下記表2に示す配合比の原料を用いた以外は、実施例1及び比較例1〜6と同様の手順でシール材を作製し、固着力の評価を行った。なお、フッ素エラストマーは、ソルベイ社製P959を用いた。
<< Examples 2-3, Comparative Examples 7-10 >>
(1) Evaluation of Adhesive Strength when Added to Various Fluoroelastomers Next, when only the fluoroelastomer (A) is used as the fluoroelastomer and when the fluoroelastomer (A) + perfluoroelastomer is used, The wearing power was evaluated. Evaluation was performed by producing a sealing material in the same procedure as in Example 1 and Comparative Examples 1 to 6 except that raw materials having a blending ratio shown in Table 2 below were used, and evaluating the fixing force. In addition, Solvay P959 was used for the fluorine elastomer.

図4は、実施例2〜3及び比較例7〜10の評価結果を表すグラフである。なお、対比のため、実施例1及び比較例1〜2の評価結果も併せてグラフに示す。
図4から明らかなように、フッ素エラストマー(A)+パーフルオロエラストマーに酸化イットリウムを添加した場合(実施例2)、及びフッ素エラストマー(A)に酸化イットリウムを添加した場合(実施例3)は、酸化イットリウムを添加しなかった比較例8及び10とほぼ同様の固着力であった。一方、比較例2と同様に、耐ラジカル性は酸化イットリウムより優れていた酸化アルミニウムをフッ素エラストマー(A)+パーフルオロエラストマーに添加した場合(比較例7)、及びフッ素エラストマー(A)に添加した場合(比較例9)は、添加前よりシール材の固着力は強くなった。
FIG. 4 is a graph showing the evaluation results of Examples 2-3 and Comparative Examples 7-10. For comparison, the evaluation results of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 are also shown in the graph.
As is clear from FIG. 4, when yttrium oxide is added to the fluoroelastomer (A) + perfluoroelastomer (Example 2) and when yttrium oxide is added to the fluoroelastomer (A) (Example 3), The adhesion strength was almost the same as in Comparative Examples 8 and 10 in which yttrium oxide was not added. On the other hand, in the same manner as in Comparative Example 2, the radical resistance was better than that of yttrium oxide when aluminum oxide was added to the fluoroelastomer (A) + perfluoroelastomer (Comparative Example 7) and to the fluoroelastomer (A). In the case (Comparative Example 9), the adhesive strength of the sealing material was stronger than before the addition.

以上の結果より、各種添加剤の中で、酸化イットリウムのみが、フッ素エラストマーに添加することで耐プラズマ性を向上させるのみでなく、非固着化できることが明らかとなった。   From the above results, it has been clarified that, among various additives, only yttrium oxide can not only improve the plasma resistance but also be non-adhered when added to the fluoroelastomer.

本発明の組成物は、酸化イットリウムを添加することで、フッ素エラストマーの耐プラズマ性が向上し、且つ非固着化している。したがって、本発明の組成物を用いてシール材等の成型品を製造すると、プラズマ処理装置や半導体製造装置等のメンテナンス等の操作性が向上するので、半導体産業等にとって有用である。
In the composition of the present invention, the addition of yttrium oxide improves the plasma resistance of the fluoroelastomer and makes it non-sticking. Therefore, when a molded product such as a sealing material is produced using the composition of the present invention, operability such as maintenance of a plasma processing apparatus, a semiconductor manufacturing apparatus and the like is improved, and thus is useful for the semiconductor industry and the like.

Claims (11)

フッ素エラストマー、及び、酸化イットリウム、
を少なくとも含む、フッ素エラストマー組成物。
Fluorine elastomer and yttrium oxide,
A fluoroelastomer composition comprising at least
前記フッ素エラストマーが、パーフルオロエラストマーである、
請求項1に記載のフッ素エラストマー組成物。
The fluoroelastomer is a perfluoroelastomer,
The fluorine elastomer composition according to claim 1.
前記フッ素エラストマーが、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン系共重合体、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体、テトラフロロエチレン/プロピレン系共重合体、これらの共重合体にエチレンまたはパーフロロアルキルビニルエーテルを共重合させたもの、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体とテトラフロロエチレン/エチレン交互共重合体またはポリビニリデンフロライドとのブロック共重合体から選ばれる少なくとも1種のエラストマーである、
請求項1に記載のフッ素エラストマー組成物。
The fluoroelastomer is a vinylidene fluoride / hexafluoropropene copolymer, a vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer, a tetrafluoroethylene / propylene copolymer, ethylene in these copolymers Or a copolymer of perfluoroalkyl vinyl ether, selected from a block copolymer of vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer and tetrafluoroethylene / ethylene alternating copolymer or polyvinylidene fluoride At least one elastomer,
The fluorine elastomer composition according to claim 1.
前記フッ素エラストマーが、
パーフルオロエラストマー、及び、
ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン系共重合体、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体、テトラフロロエチレン/プロピレン系共重合体、これらの共重合体にエチレンまたはパーフロロアルキルビニルエーテルを共重合させたもの、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体とテトラフロロエチレン/エチレン交互共重合体またはポリビニリデンフロライドとのブロック共重合体、から選ばれる少なくとも1種のエラストマー、
を含む請求項1に記載のフッ素エラストマー組成物。
The fluorine elastomer is
Perfluoroelastomer, and
Vinylidene fluoride / hexafluoropropene copolymer, vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer, tetrafluoroethylene / propylene copolymer, ethylene or perfluoroalkyl vinyl ether in these copolymers And a block copolymer of vinylidene fluoride / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene copolymer and tetrafluoroethylene / ethylene alternating copolymer or polyvinylidene fluoride. Of elastomer,
The fluorine elastomer composition according to claim 1, comprising:
シリコーンゴムを更に含む、
請求項1〜4の何れか一項に記載のフッ素エラストマー組成物。
Further comprising silicone rubber,
The fluorine-elastomer composition as described in any one of Claims 1-4.
前記フッ素エラストマー組成物が、耐ラジカル性及び非固着化用である、
請求項1〜5の何れか一項に記載のフッ素エラストマー組成物。
The fluorine elastomer composition is for radical resistance and non-sticking,
The fluorine-elastomer composition as described in any one of Claims 1-5.
前記フッ素エラストマーが架橋している、
請求項1〜6の何れか一項に記載のフッ素エラストマー組成物。
The fluoroelastomer is cross-linked,
The fluorine elastomer composition according to any one of claims 1 to 6.
請求項7に記載のフッ素エラストマー組成物を含む成型品。   A molded article comprising the fluoroelastomer composition according to claim 7. 請求項7に記載のフッ素エラストマー組成物を含むシール材。   A sealing material comprising the fluoroelastomer composition according to claim 7. 請求項9に記載のシール材を含むプラズマ処理装置。   A plasma processing apparatus comprising the sealing material according to claim 9. 請求項9に記載のシール材を含む半導体製造装置。
The semiconductor manufacturing apparatus containing the sealing material of Claim 9.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111073057A (en) * 2019-12-23 2020-04-28 广州市白云化工实业有限公司 Heat-resistant additive, silicone rubber material and preparation method of silicone rubber material
KR102400335B1 (en) * 2021-11-04 2022-05-23 주식회사 엠앤이 A sealing material for a semiconductor manufacturing apparatus with improved plasma resistance in an oxygen atmosphere and a fluorine atmosphere plasma process
KR20220114545A (en) 2019-12-11 2022-08-17 미츠비시 덴센 고교 가부시키가이샤 Sealing material for semiconductor manufacturing equipment
US20240067796A1 (en) * 2022-08-24 2024-02-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Fluorine-containing elastomer composition and method for making cured fluorine-containing elastomer composition

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220114545A (en) 2019-12-11 2022-08-17 미츠비시 덴센 고교 가부시키가이샤 Sealing material for semiconductor manufacturing equipment
CN111073057A (en) * 2019-12-23 2020-04-28 广州市白云化工实业有限公司 Heat-resistant additive, silicone rubber material and preparation method of silicone rubber material
CN111073057B (en) * 2019-12-23 2021-10-12 广州市白云化工实业有限公司 Heat-resistant additive, silicone rubber material and preparation method of silicone rubber material
KR102400335B1 (en) * 2021-11-04 2022-05-23 주식회사 엠앤이 A sealing material for a semiconductor manufacturing apparatus with improved plasma resistance in an oxygen atmosphere and a fluorine atmosphere plasma process
US20240067796A1 (en) * 2022-08-24 2024-02-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Fluorine-containing elastomer composition and method for making cured fluorine-containing elastomer composition

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