JP2005057062A - Method of manufacturing electromagnetic-wave shielding body - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an electromagnetic-wave shielding body which has a sufficient aperture ratio by narrowing a pattern without spoiling the visibility of a transparent board, and is improved simultaneously in both translucency and shielding properties. <P>SOLUTION: A black layer 34 is formed on the transparent glass 30A of high rigidity by drying out a black ink applied on the glass 30A, a conductive layer 35 having a prescribed pattern is formed on the black layer 34 by printing a conductive ink on the black layer 34, the exposed region 36 of the non-patterned part of the black layer exposing out of the conductive layer 35, is removed through a solvent 37 dissolving the black layer but undissolving the conductive layer, and then the conductive layer 35 is turned conductive through a thermal treatment to serve as an electromagnetic-wave shielding layer 31. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPという)、フィールドエミッションディスプレイ(以下、FEDという)等の表示画面から放射される電磁波をシールドする電磁波シールド体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an electromagnetic wave shield that shields electromagnetic waves radiated from a display screen such as a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) or a field emission display (hereinafter referred to as FED).

カラーテレビには様々なタイプがあるが、近年、図5に示すカラーのPDP1が注目されている。このPDP1は、発光部であるパネル本体(図示せず)と、このパネル本体の前面に装着されてパネル本体を保護すると共に、電磁波の遮蔽等の機能を持つ前面パネル3とを備え、周囲にフレーム2が装着され、視野角、応答速度、鮮明性に優れるという特徴を有している。   There are various types of color televisions. In recent years, the color PDP 1 shown in FIG. The PDP 1 includes a panel main body (not shown) that is a light emitting unit, and a front panel 3 that is mounted on the front surface of the panel main body to protect the panel main body and has a function of shielding electromagnetic waves. The frame 2 is attached and has a feature that it is excellent in viewing angle, response speed, and sharpness.

前面パネル3は、図6に示すように、透明基板30の表面に電磁波シールド層31と無反射処理層32とが順次積層され、透明基板30の裏面には近赤外線吸収層33が形成されている。透明基板30には、電磁波をシールドして周囲の電子・電気機器や人体等に対する悪影響を抑制防止する電磁波シールド層31が形成されるが、この電磁波シールド層31を形成する場合には、例えば透明基板30の表面に導電インクによりスクリーン印刷して網層をパターン形成し、この網層に透明の保護層をスクリーン印刷する方法が採用される(特許文献1参照)。
特開平9−283977号公報
As shown in FIG. 6, the front panel 3 has an electromagnetic wave shielding layer 31 and an antireflection treatment layer 32 sequentially laminated on the surface of the transparent substrate 30, and a near infrared absorption layer 33 is formed on the back surface of the transparent substrate 30. Yes. The transparent substrate 30 is formed with an electromagnetic wave shielding layer 31 that shields electromagnetic waves and suppresses adverse effects on surrounding electronic / electrical devices, human bodies, and the like. A method is employed in which a screen layer is formed by screen printing with a conductive ink on the surface of the substrate 30 and a transparent protective layer is screen-printed on the screen layer (see Patent Document 1).
JP-A-9-283777

従来の電磁波シールド層31は、以上にように透明基板30に網層が導電インクにより単にスクリーン印刷されるが、これではパターンの形成に伴い、パターンによる乱反射で電磁波シールド体40が全体として曇るので、電磁波シールド体40にもとめられる重要な視認性を損なうという大きな問題がある、また近年、パターンは30μm以下の狭い幅が求められているが、単なるスクリーン印刷では100μm以上の幅になり、十分な開口率を得ることができない。さらに、十分な開口率を確保しようとすると、シールド性に悪影響を及ぼし、透光性とシールド性とを両立させることができない恐れが少なくない。   As described above, in the conventional electromagnetic wave shielding layer 31, the net layer is simply screen-printed with the conductive ink on the transparent substrate 30. However, as the pattern is formed, the electromagnetic wave shielding body 40 is clouded as a whole due to irregular reflection due to the pattern. There is a big problem of impairing the important visibility held by the electromagnetic wave shield 40. In recent years, a narrow width of 30 μm or less is required for the pattern, but a simple screen printing has a width of 100 μm or more, which is sufficient. The aperture ratio cannot be obtained. Furthermore, if a sufficient aperture ratio is to be ensured, the shielding performance is adversely affected, and there is a high possibility that both the translucency and the shielding performance cannot be achieved.

本発明は上記に鑑みてなされたもので、透明基板の視認性を損なうことが無く、パターンを狭くして十分な開口率を得ることができ、しかも透光性とシールド性とを両立させることのできる電磁波シールド体の製造方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above, and it is possible to obtain a sufficient aperture ratio by narrowing the pattern without impairing the visibility of the transparent substrate, and at the same time satisfy both the light-transmitting property and the shielding property. It aims at providing the manufacturing method of the electromagnetic wave shield body which can do.

本発明においては、上記課題を解決するための、電磁波シールド体の製造方法であり、透明基板の片面に、樹脂バインダー(A)と黒色を呈する着色剤を含む黒色インクとにより黒色層を形成し、この上に、前記黒色インクに含まれる樹脂バインダー(A)とは異なる樹脂バインダー(B)と導電性付与フィラーとを含む導電インクにより導電層を所望のパターンに形成した後、樹脂バインダー(A)は溶解するが樹脂バインダー(B)は溶解しない溶媒により、露出した黒色層を溶解除去することを特徴としている。   In this invention, it is a manufacturing method of the electromagnetic wave shield body for solving the said subject, A black layer is formed in the single side | surface of a transparent substrate with the black ink containing the resin binder (A) and the coloring agent which exhibits black. Then, after forming a conductive layer in a desired pattern with a conductive ink containing a resin binder (B) different from the resin binder (A) contained in the black ink and a conductivity-imparting filler, a resin binder (A ) Is dissolved, but the exposed black layer is dissolved and removed with a solvent that does not dissolve the resin binder (B).

また、前記樹脂バインダー(A)が水溶性(酸性水、アルカリ性水を含む)であり、前記樹脂バインダー(B)が非水溶性であることを特徴とし、さらに、導電層の形成がスクリーン印刷法によるものであることを特徴とするものである。   The resin binder (A) is water-soluble (including acidic water and alkaline water), the resin binder (B) is water-insoluble, and the conductive layer is formed by a screen printing method. It is characterized by that.

ここで特許請求の範囲における透明基板としては、強化ガラスや半強化ガラスの他、歪みの問題を生じなければ、例えばアクリル基板等が使用される。この透明基板には、電磁波シールド層の他、無反射処理層や近赤外線吸収層を適宜形成することができる。電磁波シールド層、黒色層、導電層は、最終的には格子形、ストライプ形、その他幾何学模様等にパターン形成される。黒色層の導電性の有無については特に問うものではない。また、導電層のパターン形成には、主にスクリーン印刷法を用いるが、オフセット印刷法等を用いることもできる。さらに、本発明に係る電磁波シールド体は、PDPの前面パネルの一部として使用されるが、なんらこれに限定されるものではない。例えば、FED等の他の機器に使用することができる。PDPには、DC型、AC型、ハイブリッド型等があるが、特に限定されるものではない。   Here, as the transparent substrate in the claims, for example, an acrylic substrate or the like is used in addition to the tempered glass and the semi-tempered glass as long as the problem of distortion does not occur. In addition to the electromagnetic wave shielding layer, an antireflection treatment layer and a near infrared absorption layer can be appropriately formed on the transparent substrate. The electromagnetic wave shielding layer, the black layer, and the conductive layer are finally patterned into a lattice shape, a stripe shape, and other geometric patterns. There is no particular question as to whether the black layer is electrically conductive. Moreover, although the screen printing method is mainly used for pattern formation of the conductive layer, an offset printing method or the like can also be used. Furthermore, the electromagnetic wave shield according to the present invention is used as a part of the front panel of the PDP, but is not limited to this. For example, it can be used for other devices such as an FED. The PDP includes a DC type, an AC type, and a hybrid type, but is not particularly limited.

本発明によれば、透明基板の視認性を損なうことなく、パターンを狭くして良好な開口率を得ることができ、しかも、透光性と電磁波シールド性とを両立させることができるという効果がある。   According to the present invention, it is possible to obtain a good aperture ratio by narrowing the pattern without impairing the visibility of the transparent substrate, and to achieve both the light-transmitting property and the electromagnetic wave shielding property. is there.

以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における電磁波シールド体の製造方法は図1ないし図4に示すように、剛性を有する透明ガラス30Aに、黒色インクを塗布乾燥させて黒色層34を形成し、この黒色層34上に、導電層35を導電インクにより印刷してパターン形成し、黒色層34は溶解するが導電層35は溶解しない溶媒37により、導電層35から露出した黒色層の非パターン部である露出領域36を除去した後、熱処理を加えて導電層35を導電化し、電磁波シールド層31とするようにしている。   Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. A method for manufacturing an electromagnetic wave shielding body in the present embodiment applies a black ink to a transparent transparent glass 30A as shown in FIGS. A black layer 34 is formed by drying, and a conductive layer 35 is printed on the black layer 34 with a conductive ink to form a pattern. The conductive layer 35 is dissolved by a solvent 37 that dissolves the black layer 34 but does not dissolve the conductive layer 35. After removing the exposed region 36 which is a non-pattern part of the black layer exposed from 35, heat treatment is performed to make the conductive layer 35 conductive, thereby forming the electromagnetic wave shield layer 31.

透明ガラス30Aは、例えば強化されて耐熱性や透光性に優れる平面略矩形のガラス板からなる。この透明ガラス30Aは、例えば平坦なソーダライムガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が使用される。透明ガラスの厚さは、特に限定されるものではないが、重量、視認性や透光性の観点から薄い方が好ましいが、機械的強度を考慮し、0.05〜5mm、好ましくは1.5〜3mm程度の厚さに形成される。   The transparent glass 30A is made of, for example, a substantially rectangular glass plate that is reinforced and has excellent heat resistance and translucency. As this transparent glass 30A, for example, flat soda lime glass, low alkali glass, non-alkali glass, quartz glass, or the like is used. The thickness of the transparent glass is not particularly limited, but it is preferably thinner from the viewpoints of weight, visibility, and translucency. However, considering the mechanical strength, 0.05 to 5 mm, preferably 1. It is formed to a thickness of about 5 to 3 mm.

黒色層34は、樹脂バインダー(A)と黒色の顔料、染料等の着色剤を含む黒色インクからなり、適宜の溶剤により粘度調整され、硬化剤、架橋剤、重合禁止剤、レベリング剤、分散剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤等が必要に応じて添加され、透明ガラス30Aの片側全面に塗布形成される。   The black layer 34 is composed of a black ink containing a resin binder (A) and a colorant such as a black pigment or dye, and the viscosity is adjusted by an appropriate solvent, and a curing agent, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a leveling agent, and a dispersant. An antifoaming agent, a thickening agent, a suspending agent, an anti-aging agent, an ultraviolet absorber and the like are added as necessary, and are formed on the entire surface of one side of the transparent glass 30A.

ここで用いられる樹脂バインダー(A)は、後述する導電インクを構成する樹脂バインダー(B)を溶解しない適宜の溶媒に溶解するものとする必要がある。作業性、無害性を考慮すると、黒色層34の露出領域36を除去するための溶媒として酸性、中性、アルカリ性、温水を含む水系のものを使用することが好ましく、このような水溶性の樹脂バインダー(A)としては、ポリビニルアルコール、酸価80〜500mgKOH程度の酸ポリマー等が例示される。   The resin binder (A) used here needs to be dissolved in an appropriate solvent that does not dissolve the resin binder (B) constituting the conductive ink described later. In consideration of workability and harmlessness, it is preferable to use an aqueous, acidic, neutral, alkaline, or hot water-based resin as a solvent for removing the exposed region 36 of the black layer 34, and such a water-soluble resin. Examples of the binder (A) include polyvinyl alcohol and an acid polymer having an acid value of about 80 to 500 mgKOH.

黒色層を構成する成分として、導電層との密着性向上、機械的特性向上、耐久性向上、信頼性向上を目的とし、露出領域除去用の溶媒には不溶の樹脂成分を、全体としての除去性を損なわない程度に添加することは可能であり、この際の添加量は、溶解性の樹脂100質量部に対し、0.1〜30質量部、好ましくは0.5〜20質量部、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。   As a component constituting the black layer, the resin component insoluble in the solvent for removing the exposed area is removed as a whole for the purpose of improving adhesion to the conductive layer, improving mechanical properties, improving durability, and improving reliability. It is possible to add to the extent which does not impair property, The addition amount in this case is 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of soluble resin, Preferably it is 0.5-20 mass parts, Preferably it is the range of 1-10 mass parts.

導電層35は、黒色インクに含まれる樹脂バインダー(A)とは異なる樹脂バインダー(B)と導電性付与フィラーとを含む導電インクを黒色層34上にスクリーン印刷することにより形成される。導電性付与フィラーは入手の容易性、コスト、導電性、耐酸化性に優れる銀粒子を用いることが好ましい。導電インクは加工法に応じ、溶剤等の添加により最適な性状に調整される。   The conductive layer 35 is formed by screen-printing a conductive ink containing a resin binder (B) different from the resin binder (A) contained in the black ink and a conductivity-imparting filler on the black layer 34. As the conductivity-imparting filler, it is preferable to use silver particles having excellent availability, cost, conductivity, and oxidation resistance. The conductive ink is adjusted to the optimum properties by adding a solvent or the like according to the processing method.

導電インクに用いられる銀粒子は、平均粒径が0.05〜1μm、好ましくは0.07〜0.8μmのものを使用する。これは、平均粒径が0.05μm未満の場合は、凝集しやすくなり、この凝集を抑えるために多量の分散剤の添加を必要とし、この分散剤が導電性に悪影響を与える恐れが大きいためであり、1μmを超える場合には銀粒子の脱落やはみ出しにより、パターンエッジの直線性に与える影響が大きくなり、微細なパターンを得ることが困難となるからである。   Silver particles used for the conductive ink have an average particle diameter of 0.05 to 1 μm, preferably 0.07 to 0.8 μm. This is because when the average particle size is less than 0.05 μm, it tends to agglomerate, and it is necessary to add a large amount of a dispersant to suppress this agglomeration, and this dispersant is likely to adversely affect the conductivity. This is because if the particle diameter exceeds 1 μm, the drop of silver particles or the protrusion of the silver particles greatly affects the linearity of the pattern edge, making it difficult to obtain a fine pattern.

導電インクを構成する樹脂バインダー(B)としては、黒色層の露出領域除去用の溶媒には不溶の樹脂を用いる必要がある。特に、前述の理由により、黒色インクに用いた樹脂バインダーが水溶性のものであれば、比較的極性の少ない樹脂を選択すれば、非水溶性のものとすることは容易である。黒色層との密着性の向上を目的として、非溶解性を損なわない程度に溶解性樹脂を添加することは可能であり、この際の添加量は、非溶解性の樹脂100質量部に対し、0.1〜30質量部、好ましくは0.5〜20質量部、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
さらに、黒色層と導電層との密着性を向上させるために、一部双方が溶解する同種の溶媒を有するような組み合わせとすることが好ましく、このようにするためには、具体的には、黒色インクの樹脂バインダー(A)として酸価100mgKOHのアルカリ可溶性であるアクリル基含有酸ポリマーを選択した場合、このものはメトキシブチルアセテート、酢酸カルビトール等の極性溶剤に溶解可能であり、導電インクに使用する樹脂バインダー(B)としては、非水溶性であり上述の極性溶剤に溶解可能なポリビニルブチラールを選択する組み合わせが例示される。
As the resin binder (B) constituting the conductive ink, it is necessary to use an insoluble resin in the solvent for removing the exposed region of the black layer. In particular, if the resin binder used in the black ink is water-soluble for the reasons described above, it is easy to make it water-insoluble by selecting a resin with relatively little polarity. For the purpose of improving the adhesion with the black layer, it is possible to add a soluble resin to such an extent that the insolubility is not impaired, and the amount added in this case is 100 parts by mass of the insoluble resin, It is 0.1-30 mass parts, Preferably it is 0.5-20 mass parts, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
Furthermore, in order to improve the adhesion between the black layer and the conductive layer, it is preferable to have a combination having the same type of solvent in which both of them are dissolved. In order to do so, specifically, When an acrylic group-containing acid polymer having an acid value of 100 mgKOH is selected as the resin binder (A) for the black ink, it can be dissolved in a polar solvent such as methoxybutyl acetate and carbitol acetate, Examples of the resin binder (B) to be used include a combination of selecting water-insoluble polyvinyl butyral that is soluble in the above-described polar solvent.

上記において、電磁波シールド体40を製造する場合には、まず、所定の厚さの透明ガラス30Aを用意し(図1参照)、この透明ガラス30Aの片側全面に黒色インクを塗布乾燥させて黒色層34を形成し、この全黒色層34上に、銀インクをスクリーン印刷して導電層35をパターン形成する(図2参照)。黒色層34の形成に際しては、例えばロールコータやカーテンコータ等を用いることができる。   In the above, when the electromagnetic wave shield 40 is manufactured, first, a transparent glass 30A having a predetermined thickness is prepared (see FIG. 1), and black ink is applied and dried on the entire surface of one side of the transparent glass 30A. 34 is formed, and silver ink is screen-printed on the entire black layer 34 to pattern the conductive layer 35 (see FIG. 2). In forming the black layer 34, for example, a roll coater or a curtain coater can be used.

黒色層34は、乾燥後に1〜5μmの厚さとなることが好ましい。これは、黒色層の厚さが1μm未満の場合、銀インクの溶剤吸収能力が不足し、導電パターンの幅方向に対する広がり、換言すれば、パターンのだれを生じやすくなるからである。逆に5μmを超えると、黒色層の露出領域を除去する工程において、導電パターンで覆われた黒色層が横方向から侵食されやすくなり、著しくはパターンの欠損を生じ、露出領域のみを安定的に除去することが困難となる恐れがあるからである。このように、黒色層34には、銀インクの溶剤を吸収し、パターンの幅方向に対する広がり、すなわちパターンのだれを有効に防止するよう機能する。   The black layer 34 preferably has a thickness of 1 to 5 μm after drying. This is because, when the thickness of the black layer is less than 1 μm, the solvent absorption capability of the silver ink is insufficient, and the conductive pattern spreads in the width direction, in other words, the pattern is liable to occur. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the black layer covered with the conductive pattern is easily eroded from the lateral direction in the process of removing the exposed area of the black layer, and the pattern is significantly lost, and only the exposed area is stably stabilized. This is because it may be difficult to remove. As described above, the black layer 34 functions to absorb the solvent of the silver ink and effectively prevent the pattern from spreading in the width direction, that is, the sagging of the pattern.

次いで、導電層35から露出した黒色層34の露出領域36をスプレーやディッピング等の方法による所定の除去溶媒37で除去(図3参照)し、黒色層34が導電層35同様にパターン形成された中間体を形成する。こうして中間体を形成したら、この中間体をオーブン等に投入して200〜600℃の温度で熱処理し、この熱処理を所定の時間維持して導電層35を収縮させるとともに導電化し、その後所定温度に冷却、オーブンから取り出し、透光性の電磁波シールド体40を得ることができる(図4参照)。   Next, the exposed region 36 of the black layer 34 exposed from the conductive layer 35 was removed with a predetermined removal solvent 37 by a method such as spraying or dipping (see FIG. 3), and the black layer 34 was patterned in the same manner as the conductive layer 35. Form an intermediate. When the intermediate is formed in this way, the intermediate is put in an oven or the like and heat-treated at a temperature of 200 to 600 ° C., and the heat treatment is maintained for a predetermined time to contract and make the conductive layer 35 conductive. By cooling and taking out from the oven, a translucent electromagnetic wave shield 40 can be obtained (see FIG. 4).

電磁波シールド層31におけるパターンの線幅は、2〜40μmが好ましい。これは、線幅が2μm未満の場合には電磁波シールド特性が劣化し、また、パターンの断線を招く恐れがあるという理由に基づき、逆に、線幅が40μmを超える場合には、透光性を維持するために線間隔を広げる必要があり、透光性とシールド特性の両立が困難となるとともに、パターン自体が肉眼で認識可能となり、表示体の視認性を劣化させる恐れがあるからである。   The line width of the pattern in the electromagnetic wave shielding layer 31 is preferably 2 to 40 μm. This is because, when the line width is less than 2 μm, the electromagnetic wave shielding characteristics deteriorate, and there is a possibility that the pattern may be disconnected. Conversely, when the line width exceeds 40 μm, the translucency is obtained. This is because it is necessary to widen the line spacing in order to maintain the transparency, and it becomes difficult to achieve both transparency and shielding characteristics, and the pattern itself can be recognized with the naked eye, which may deteriorate the visibility of the display body. .

電磁波シールド体40を製造したら、透明ガラス30Aの裏面に近赤外線吸収層33を透明の接着剤により接着し、電磁波シールド層31に無反射処理層32を透明の接着剤により接着し、前面パネル3を得ることができる。無反射処理層32は、必要なければ、適宜省略することができる。また、近赤外線吸収層33と無反射処理層32が形成されたフィルム材を貼り付けることも可能である。   When the electromagnetic wave shielding body 40 is manufactured, the near-infrared absorbing layer 33 is adhered to the back surface of the transparent glass 30A with a transparent adhesive, and the non-reflective treatment layer 32 is adhered to the electromagnetic wave shielding layer 31 with a transparent adhesive. Can be obtained. The antireflection treatment layer 32 can be omitted as appropriate if not necessary. Moreover, it is also possible to affix the film material in which the near-infrared absorption layer 33 and the antireflection process layer 32 were formed.

上記によれば、透明ガラス30Aに導電層35を直接形成するのではなく、透明ガラス30Aと導電層35との間に、光線を吸収する無彩色の黒色層34を介在させるので、電磁波シールド体40が乱反射により曇ることがない。したがって、電磁波シールド体40に求められる視認性を著しく向上させることができる。また、導電層35から露出した黒色層34の露出領域36を除去し、電磁波シールド層31をパターン形成するので、パターン化された黒色層34と導電層35とを高精度に位置決めして重ねる必要が全くない。この結果、パターン線幅を40μm、好ましくは30μm、より好ましくは20μm程度に狭めることができ、従来法では不可能だったパターンの線幅を狭めることができる。   According to the above, the conductive layer 35 is not directly formed on the transparent glass 30A, but the achromatic black layer 34 that absorbs the light is interposed between the transparent glass 30A and the conductive layer 35. 40 is not clouded by irregular reflection. Therefore, the visibility required for the electromagnetic wave shield 40 can be remarkably improved. Further, since the exposed region 36 of the black layer 34 exposed from the conductive layer 35 is removed and the electromagnetic wave shielding layer 31 is patterned, it is necessary to position and overlap the patterned black layer 34 and the conductive layer 35 with high accuracy. There is no. As a result, the pattern line width can be reduced to 40 μm, preferably 30 μm, and more preferably about 20 μm, and the line width of the pattern, which was impossible with the conventional method, can be reduced.

また、導電性の高い銀からなる導電層35を形成するので、良好なシールド性を得ることができ、しかも空気雰囲気中での熱処理が可能になる。また、導電層35をフォトリソ法ではなく、生産性の高いスクリーン印刷法により形成するので、必要な部分にのみ導電層35を形成することができ、これにより材料の無駄を省くことが可能になる。さらに、黒色層34と導電層35からなる中間体を熱処理するので黒色層として熱硬化性の樹脂バインダーを用いた場合架橋により信頼性が向上し、しかも、導電層35の導電性の向上が大いに期待できる。   In addition, since the conductive layer 35 made of highly conductive silver is formed, good shielding properties can be obtained, and heat treatment in an air atmosphere is possible. In addition, since the conductive layer 35 is formed not by a photolithography method but by a highly productive screen printing method, it is possible to form the conductive layer 35 only in a necessary portion, thereby eliminating waste of materials. . Further, since the intermediate composed of the black layer 34 and the conductive layer 35 is heat-treated, when a thermosetting resin binder is used as the black layer, the reliability is improved by crosslinking, and the conductivity of the conductive layer 35 is greatly improved. I can expect.

(実施例1)
アクリル基含有スチレン−無水マレイン酸共重合体系のアルカリ可溶性樹脂(酸価105mgKOH)とポリエチレングリコールジメタクリレート(架橋性モノマー)とからなる組成物(配合比5:1)を樹脂バインダー(A)とし、樹脂バインダー(A)100質量部に、架橋剤として日本油脂製「パーヘキサ 25B」を3質量部、黒色着色剤として黒鉛化カーボンを10質量部、粘度調整用溶剤としてメトキシブチルアセテートを300質量部添加して黒色インクを作製し、厚さ2.5mm、縦582mm×横982mmの半強化ソーダライムガラスの片側全面にロールコータを用いて厚さ3μm(乾燥後)の黒色層を形成した。
(Example 1)
A composition (blending ratio 5: 1) comprising an alkali-soluble resin (acid value 105 mgKOH) of an acrylic group-containing styrene-maleic anhydride copolymer system and polyethylene glycol dimethacrylate (crosslinkable monomer) is used as a resin binder (A), To 100 parts by mass of resin binder (A), 3 parts by mass of “Perhexa 25B” manufactured by NOF Corporation as a crosslinking agent, 10 parts by mass of graphitized carbon as a black colorant, and 300 parts by mass of methoxybutyl acetate as a solvent for adjusting viscosity A black ink was prepared, and a black layer having a thickness of 3 μm (after drying) was formed on the entire surface of one side of a semi-tempered soda lime glass having a thickness of 2.5 mm, a length of 582 mm and a width of 982 mm using a roll coater.

ポリビニルブチラール「エスレック BM−SZ」(積水化学社製、商品名)を樹脂バインダー(B)とし、樹脂バインダー(B)100質量部に、重量平均粒子径0.3μmの略球形銀粉末を1500質量部、粘度調整用溶剤としてメトキシブチルアセテート400質量部を添加し、導電インクを作製し、スクリーン印刷法により、上記黒色層上に導電層を形成後、100℃のオーブンにて30分間乾燥を行なった。尚、印刷に使用したスクリーンは、SUS#380のメッシュを使用し、乳剤厚さ10μmで、530mm×930mmの矩形領域に、線幅20μm、ピッチ300μm、バイアス15°の格子状の開口パターンを有し、この外側全周に幅25mmのアース用電極部を形成するための開口部(内部の格子パターンと連通)を有するものとした。   Polyvinyl butyral “S-REC BM-SZ” (trade name, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) is used as a resin binder (B), and about 100 parts by mass of resin binder (B), approximately spherical silver powder having a weight average particle diameter of 0.3 μm is 1500 mass. Part, 400 parts by mass of methoxybutyl acetate as a viscosity adjusting solvent was prepared to produce a conductive ink, and after forming a conductive layer on the black layer by screen printing, drying was performed in an oven at 100 ° C. for 30 minutes. It was. The screen used for printing uses a mesh of SUS # 380, has an emulsion thickness of 10 μm, and has a grid-like opening pattern with a line width of 20 μm, a pitch of 300 μm, and a bias of 15 ° in a rectangular area of 530 mm × 930 mm. In addition, an opening (in communication with the internal lattice pattern) for forming a grounding electrode portion having a width of 25 mm is provided on the entire outer periphery.

次いで、2.38%のTMAH水溶液を用いて、スプレー法により黒層の露出領域を除去し、250℃のオーブンで60分間加熱処理して、本発明の製造方法により電磁波シールド体を得た。
得られた電磁波シールド体を、縦20cm×横20cmに切り出し、アドバンテスト法によって、周波数0.1MHz〜1GHzの範囲の電磁波減衰率(dB)を測定して、上記周波数範囲での電磁波シールド効果を評価したところ、全領域にわたって50dBを超える非常に優れた電磁波シールド性を示した。更に、得られた電磁波シールド体について、可視光線(波長400〜700nm)の分光透過率を測定したところ、全領域にわたって80%を超える非常に優れる透光性を示していることがわかった。電磁波シールドパターンを内側にして、PDPの前面パネルとして、パネル本体前面に5mmの空隙を設けて設置したのち、表示画像の視認性を目視にて評価したところ、ムラやメッシュが全く見られない上、コントラストが著しく高く、きわめて良好な画像が得られた。
Next, the exposed region of the black layer was removed by a spray method using a 2.38% TMAH aqueous solution, and heat treatment was performed in an oven at 250 ° C. for 60 minutes to obtain an electromagnetic wave shield by the production method of the present invention.
The obtained electromagnetic shielding body was cut into a length of 20 cm and a width of 20 cm, and the electromagnetic wave attenuation rate (dB) in the frequency range of 0.1 MHz to 1 GHz was measured by the Advantest method to evaluate the electromagnetic shielding effect in the frequency range. As a result, the electromagnetic wave shielding property exceeding 50 dB over the entire region was shown. Furthermore, when the spectral transmittance of visible light (wavelength of 400 to 700 nm) was measured for the obtained electromagnetic wave shield, it was found that it exhibited very excellent translucency exceeding 80% over the entire region. When the visibility of the display image was evaluated by visual inspection after installing the 5 mm gap on the front of the panel body as the front panel of the PDP with the electromagnetic shielding pattern inside, there was no unevenness or mesh at all. The contrast was remarkably high and a very good image was obtained.

(比較例1)
実施例1では形成した黒色層を形成せず、透明ガラスに直接実施例1で使用した導電インク、装置を用いて、同様の条件にて導電層を形成し、熱処理するという製造方法により電磁波シールド体を得た。
(Comparative Example 1)
In Example 1, the formed black layer is not formed, and the electromagnetic wave shielding is performed by a manufacturing method in which the conductive layer is formed directly on the transparent glass using the conductive ink and apparatus used in Example 1 under the same conditions and heat-treated. Got the body.

電磁波シールド性は、全領域にわたり40dB以上で良好であったが、パターンは著しく広がり、透光性は40%以下、視認性は、全面にわたってムラやメッシュが見られ非常に劣悪なものとなった。   The electromagnetic wave shielding property was good at 40 dB or more over the entire region, but the pattern was remarkably widened, the translucency was 40% or less, and the visibility was very poor because unevenness and mesh were seen over the entire surface. .

本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における透明ガラスを示す模式断面説明図である。It is a schematic cross section explanatory drawing which shows the transparent glass in embodiment of the manufacturing method of the electromagnetic wave shield which concerns on this invention. 本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における透明ガラスに黒色層を形成し、この全黒色層上に導電層をパターン形成する状態を示す模式断面説明図である。It is a schematic cross-section explanatory drawing which shows the state which forms a black layer in the transparent glass in embodiment of the manufacturing method of the electromagnetic wave shield which concerns on this invention, and forms a conductive layer on this all black layer. 本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における黒色層の露出領域を溶媒で除去する状態を示す模式断面説明図である。It is a schematic cross section explanatory drawing which shows the state which removes the exposed area | region of the black layer in a solvent in embodiment of the manufacturing method of the electromagnetic wave shield which concerns on this invention. 本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における電磁波シールド層が導電パターン化された電磁波シールド体を示す模式断面説明図である。It is a schematic cross-section explanatory drawing which shows the electromagnetic wave shield body by which the electromagnetic wave shield layer in embodiment of the manufacturing method of the electromagnetic wave shield body which concerns on this invention was made into the conductive pattern. プラズマディスプレイを示す全体斜視説明図である。It is a whole perspective explanatory view showing a plasma display. 前面パネルを示す模式断面説明図である。It is a schematic cross-section explanatory drawing which shows a front panel.

符号の説明Explanation of symbols

1 PDP
2 フレーム
3 前面パネル
30 透明基板
30A 透明ガラス(透明基板)
31 電磁波シールド層
32 無反射処理層
33 近赤外線吸収層
34 黒色層
35 導電層
36 露出領域
37 溶媒
38 スプレー
40 電磁波シールド体
1 PDP
2 Frame 3 Front panel 30 Transparent substrate 30A Transparent glass (transparent substrate)
31 Electromagnetic wave shielding layer 32 Non-reflective treatment layer 33 Near infrared absorption layer 34 Black layer 35 Conductive layer 36 Exposed area 37 Solvent 38 Spray 40 Electromagnetic wave shield

Claims (3)

透明基板の片面に、樹脂バインダー(A)と黒色を呈する着色剤を含む黒色インクとにより黒色層を形成し、この上に、前記黒色インクに含まれる樹脂バインダー(A)とは異なる樹脂バインダー(B)と導電性付与フィラーとを含む導電インクにより導電層を所望のパターンに形成した後、樹脂バインダー(A)は溶解するが樹脂バインダー(B)は溶解しない溶媒により、露出した黒色層を溶解除去することを特徴とする電磁波シールド体の製造方法。 A black layer is formed on one side of the transparent substrate with the resin binder (A) and a black ink containing a black colorant, and a resin binder (A) different from the resin binder (A) contained in the black ink is formed thereon. After the conductive layer is formed into a desired pattern with a conductive ink containing B) and a conductivity-imparting filler, the exposed black layer is dissolved with a solvent that dissolves the resin binder (A) but not the resin binder (B). A method for producing an electromagnetic wave shielding body, comprising removing the electromagnetic wave shielding body. 前記樹脂バインダー(A)が水溶性であり、前記樹脂バインダー(B)が非水溶性であることを特徴とする請求項1記載の電磁波シールド体の製造方法。 2. The method for producing an electromagnetic wave shielding body according to claim 1, wherein the resin binder (A) is water-soluble and the resin binder (B) is water-insoluble. 導電層の形成がスクリーン印刷法によるものであることを特徴とする請求項1または2記載の電磁波シールド体の製造方法。 The method for producing an electromagnetic wave shielding body according to claim 1 or 2, wherein the conductive layer is formed by a screen printing method.
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