JP2003103951A - 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】現像処理しない無処理型、または機上現像タイ
プとして用いる場合には、現像処理なしでも感度が高
く、良好な機上現像性を有し感度が高く、高耐刷性を示
し、印刷の際の汚れにくさやインキ払い性が良好であ
り、従来のサーマルポジタイプやサーマルネガタイプと
して用いる場合には、熱を効率よく画像形成に利用する
ことができ、感度が高く、高耐刷性を示し、非画像部の
汚れが生じにくい感熱性の平版印刷版原版およびそれに
好適に用いられる平版印刷版用支持体を提供する。 【解決手段】粗面化処理を施された金属基体上に膜厚方
向の熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）である
親水性皮膜を形成してなる平版印刷版用支持体、およ
び、その上に赤外線レーザー露光により書き込み可能な
記録層を設けてなる平版印刷版原版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用支持
体および平版印刷版原版に関し、現像不要のコンピュー
タ・ツウ・プレートシステム用に好適に用いられる感熱
性平版印刷版原版、詳しくは、デジタル信号に基づいた
赤外線走査露光による画像記録が可能であり、露光後に
現像液を用いるなどの従来の現像工程を経ることなく、
そのまま印刷機に装着して印刷することができる感熱性
平版印刷版原版およびそれに用いられる平版印刷版用支
持体に関する。また、露光後に現像液を用いる従来の現
像工程を経た後、印刷できる感熱性平版印刷版原版およ
びそれに用いられる平版印刷版用支持体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用平版印刷版原版については、多
数の研究がなされている。その中で、より一層の工程合
理化と廃液処理問題の解決とを目指すものとして、露光
後、そのまま印刷機に装着して印刷することができる平
版印刷版原版について、多数の研究がなされ、種々の提
案がなされている。有望な技術の一つとしては、親水性
バインダーポリマー中に疎水性熱可塑性ポリマー粒子を
分散させた親水層を画像形成感熱層とする感熱性平版印
刷版原版が挙げられる。この平版印刷版原版は、感熱層
に熱を加えると疎水性熱可塑性ポリマー粒子が融着し、
親水性感熱層表面が親油性画像部に変換するという原理
を利用している。

【０００３】このような疎水性熱可塑性ポリマー粒子の
熱融着を利用する平版印刷版原版において、処理工程を
少なくする方法の一つとして、露光後の平版印刷版原版
を現像液で処理することなく印刷機のシリンダーに装着
し、シリンダーを回転させながらインキおよび／または
湿し水を供給することによって、平版印刷版原版の非画
像部を除去する、機上現像と呼ばれる方法や現像処理し
ない無処理型平版印刷版原版がある。この方法において
は、平版印刷版原版を露光した後、そのまま印刷機に装
着し、通常の印刷工程の中で現像処理したり、現像処理
することなしに印刷が完了する。このような機上現像、
無処理型に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶
剤に可溶な感熱層を有し、しかも、明室に置かれた印刷
機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有するこ
とが必要とされる。

【０００４】例えば、特許第２９３８３９７号明細書に
は、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を分散させた感熱層を親水性支持体上に設け
た平版印刷版原版が記載されている。この特許明細書に
は、前記平版印刷版原版を赤外線レーザー露光して熱可
塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体させて画像形
成した後、印刷機シリンダー上に版を取り付け、インキ
および／または湿し水を供給することにより、機上現像
できることが記載されている。また、特開平９−１２７
６８３号公報および国際公開第９９／１０１８６号パン
フレットには、熱可塑性微粒子を熱により合体させた
後、機上現像により平版印刷版を作製することが記載さ
れている。

【０００５】しかしながら、このような熱による微粒子
の合体で画像を形成する平版印刷版原版は、良好な機上
現像性を示すものの、金属支持体に熱が逃げるため感度
が低いという問題や、微粒子の合体が不十分である場
合、感熱層の画像部の強度が弱くなるために、耐刷性が
不十分となるという問題があった。この対策としては、
アルミニウム支持体と感熱層との間に水不溶性有機ポリ
マーを設ける方法が提案されているが（例えば、特開２
０００−２３９８３号公報）、感度は高くなるものの、
汚れるという問題点があった。

【０００６】ところで、感熱層中に存在する赤外線吸収
剤がその光熱変換作用を発現し露光により発熱し、その
熱により感熱層の露光部分がアルカリ可溶化しポジ画像
を形成するいわゆるサーマルタイプのポジ型平版印刷版
原版や、その熱によりラジカル発生剤や酸発生剤がラジ
カルや酸を発生させ、それによりラジカル重合反応や酸
架橋反応が進行して不溶化しネガ型画像を形成するサー
マルタイプのネガ型平版印刷版原版などの、機上現像し
ない従来のサーマルタイプの平版印刷版原版において
も、以下のような問題がある。

【０００７】即ち、このようなサーマルタイプの画像形
成においては、レーザー光照射によって感熱層中で光熱
変換物質により熱が発生してその熱が画像形成反応を引
き起こすのであるが、粗面化され陽極酸化皮膜を形成さ
れたアルミニウム支持体では、支持体の熱伝導率が感熱
層に比べ極めて高いため、感熱層と支持体との界面付近
で発生した熱は、画像形成に十分使用されないうちに支
持体内部に拡散してしまい、その結果、感熱層支持体界
面では次のようなことが起こる。

【０００８】まず、ポジ型感熱層においては、熱が支持
体内部に拡散してアルカリ可溶化反応が不十分となる
と、本来の非画像部分に残膜が発生してしまうという低
感度の問題があり、これはポジ型感熱層の本質的問題と
なっている。また、このようなサーマルポジタイプの平
版印刷版原版においては、光熱変換機能を有する赤外線
吸収剤が必須であるが、これらは分子量が比較的大きい
ため溶解性が低く、また、陽極酸化により生じたミクロ
な開口部に吸着して除去しにくいため、アルカリ現像液
による現像工程において、残膜が発生しやすいという問
題もある。

【０００９】一方、ネガ型感熱層においては、熱が支持
体内部に拡散して感熱層支持体界面付近での感熱層の現
像液不溶化が不十分になると、本来画像部となるべき部
分で画像が十分にできずに現像時に流れてしまったり、
たとえ画像様に形成できたとしても印刷時に容易に画像
がはく離してしまったりするという問題がある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した先
行技術の欠点を克服した感熱性平版印刷版原版およびそ
れに好適に用いられる平版印刷版用支持体を提供するこ
とを目的とする。即ち、機上現像タイプとして用いる場
合には、良好な機上現像性を有し、感度が高く、高耐刷
性を示し、印刷の際の汚れにくさやインキ払い性が良好
であり、従来のサーマルポジタイプやサーマルネガタイ
プとして用いる場合には、熱を効率よく画像形成に利用
することができ、感度が高く、高耐刷性を示し、非画像
部の汚れが生じにくい感熱性の平版印刷版原版およびそ
れに好適に用いられる平版印刷版用支持体を提供するこ
とを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、特定の範囲の熱伝導率を有する親水性皮膜を金属
基体上および／または特定の表面処理がされたアルミニ
ウムの基板上に設けた後、赤外線レーザー露光により書
き込み可能な記録層を設けることにより、上記目的を達
成できることを見出し、本発明を完成した。即ち、本発
明は、以下の発明およびこれらの任意の組合せの発明を
提供する。

【００１２】粗面化処理を施された金属基体上に膜厚方
向の熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）である
親水性皮膜を形成してなる平版印刷版用支持体。

【００１３】前記親水性皮膜の膜厚が、０．１〜５μｍ
であるのが好ましい。

【００１４】前記平版印刷版用支持体上に、赤外線レー
ザー露光により書き込み可能な記録層を設けてなる平版
印刷版原版。

【００１５】塩酸を含有する水溶液を用いて電気化学的
粗面化処理され、熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫ
である親水性皮膜を有する平版印刷版用支持体上に、赤
外線レーザー露光により書き込み可能な記録層を有する
平版印刷版原版。

【００１６】塩酸を含有する水溶液を用いて電気化学的
粗面化処理され、密度が１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³
及び／又は空隙率が２０〜７０％である親水性皮膜を有
する平版印刷版用支持体上に、赤外線レーザー露光によ
り書き込み可能な記録層を有する平版印刷版原版。

【００１７】粗面化形状の小ピットの平均開口径が０．
０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開口径に対す
る比が０．１〜０．５であり、熱伝導率が０．０５〜
０．５Ｗ／ｍＫである親水性皮膜を有する平版印刷版用
支持体上に、赤外線レーザー露光により書き込み可能な
記録層を有する平版印刷版原版。

【００１８】粗面化形状の小ピットの平均開口径が０．
０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開口径に対す
る比が０．１〜０．５であり、密度が１０００〜３２０
０ｋｇ／ｍ³ 及び／又は空隙率が２０〜７０％である親
水性皮膜を有する平版印刷版用支持体上に、赤外線レー
ザー露光により書き込み可能な記録層を有する平版印刷
版原版。

【００１９】平版印刷版用支持体の大きなうねりの平均
開口径が３〜２０μｍであるのが好ましい。

【００２０】親水性皮膜が陽極酸化皮膜であるのが好ま
しい。

【００２１】陽極酸化皮膜量が３．２ｇ／ｍ² 以上であ
るのが好ましい。

【００２２】陽極酸化皮膜の表層のポア径が４０ｎｍ以
下であるのが好ましい。

【００２３】陽極酸化皮膜が封孔処理されているのが好
ましい。

【００２４】陽極酸化皮膜上に平均粒径８〜８００ｎｍ
からなる粒子の層を設けるのが好ましい。

【００２５】陽極酸化皮膜が２段階以上の陽極酸化処理
により形成されるのが好ましい。

【００２６】１段階目で硫酸を含有する電解液で陽極酸
化を行い、２段階目以降にリン酸を含有する電解液で陽
極酸化してもよい。

【００２７】前記記録層が、（ａ）熱反応性官能基を有
する微粒子ポリマー、または、（ｂ）熱反応性官能基を
有する化合物を内包するマイクロカプセルを含有する感
熱層であるのが好ましい態様の一つである。

【００２８】前記平版印刷版原版を、レーザー光によっ
て露光しそのまま印刷機に取り付けて印刷するか、また
は、印刷機に取り付けた後にレーザー光によって露光し
そのまま印刷することを特徴とする平版印刷版の製版お
よび印刷方法。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。 ［平版印刷版用支持体］ ＜金属基体＞本発明の平版印刷版用支持体に用いられる
金属基体は、特に限定されず、例えば、鉄、ステンレ
ス、アルミニウムが挙げられる。中でも、アルミニウム
が好ましい。アルミニウム基体として用いられるアルミ
ニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とす
る金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金か
らなる。 純アルミニウム板のほか、アルミニウムを主成
分とし微量の異元素を含む合金板や、アルミニウムまた
はアルミニウム合金がラミネートされまたは蒸着された
プラスチックフィルムまたは紙を用いることもできる。
更に、特公昭４８−１８３２７号公報に記載されている
ようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミ
ニウムシートが結合された複合体シートを用いることも
できる。

【００３０】本発明に用いられるアルミニウム板は、特
に限定されないが、純アルミニウム板を用いるのが好適
である。完全に純粋なアルミニウムは精練技術上、製造
が困難であるので、わずかに異元素を含有するものを用
いてもよい。例えば、アルミニウムハンドブック第４版
（軽金属協会（１９９０））に記載の公知の素材のも
の、具体的には、ＪＩＳ１０５０材、ＪＩＳ１１００
材、ＪＩＳ３００３材、ＪＩＳ３１０３材、ＪＩＳ３０
０５材等を用いることができる。また、アルミニウム
（Ａｌ）の含有率が９９．４〜９５質量％であって、鉄
（Ｆｅ）、ケイ素（Ｓｉ）、銅（Ｃｕ）、マグネシウム
（Ｍｇ）、マンガン（Ｍｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、クロム
（Ｃｒ）、およびチタン（Ｔｉ）のうち少なくとも５種
以上を後述する範囲内で含む、アルミニウム合金、スク
ラップアルミ材または二次地金を使用したアルミニウム
板を使用することもできる。

【００３１】また、本発明においては、コスト削減効果
のある、Ａｌの含有率が９５〜９９．４質量％のアルミ
ニウム板を用いることもできる。Ａｌの含有率が９９．
４質量％を超えると、不純物の許容量が少なくなるた
め、コスト削減効果が減少してしまう場合がある。ま
た、Ａｌの含有率が９５質量％未満であると不純物を多
く含むこととなり圧延中に割れ等の不具合が発生してし
まう場合がある。より好ましいＡｌの含有率は９５〜９
９質量％であり、特に好ましくは９５〜９７質量％であ
る。

【００３２】Ｆｅの含有率は０．１〜１．０質量％であ
るのが好ましい。Ｆｅは新地金においても０．１〜０．
２質量％前後含有される元素で、Ａｌ中に固溶する量は
少なく、ほとんどが金属間化合物として残存する。Ｆｅ
の含有率が１．０質量％を超えると圧延途中に割れが発
生しやすくなり、０．１質量％未満であるとコスト削減
効果が減少するため好ましくない。より好ましいＦｅの
含有率は０．３〜１．０質量％である。

【００３３】Ｓｉの含有率は０．０３〜１．０質量％で
あるのが好ましい。ＳｉはＪＩＳ２０００系、４０００
系、６０００系材料のスクラップに多く含まれる元素で
ある。また、Ｓｉは新地金においても０．０３〜０．１
質量％前後含有される元素であり、Ａｌ中に固溶した状
態で、または、金属間化合物として存在する。アルミニ
ウム板が支持体の製造過程で加熱されると、固溶してい
たＳｉが単体Ｓｉとして析出することがある。単体Ｓｉ
とＦｅＳｉ系の金属間化合物は耐苛酷インキ汚れ性に悪
影響を与えることが知られている。ここで、「苛酷イン
キ汚れ」とは、印刷を何度も中断しつつ行った場合に、
平版印刷版の非画像部表面部分にインキが付着しやすく
なった結果、印刷された紙等に表れる点状または円環状
の汚れをいう。Ｓｉの含有率が１．０質量％を超える
と、例えば、後述する硫酸による処理（デスマット処
理）でこれを除去し切れなくなる場合があり、０．０３
質量％未満であると、コスト削減効果が減少してしま
う。より好ましいＳｉの含有率は０．０５〜１．０質量
％である。

【００３４】Ｃｕの含有率は０．０００〜１．０質量％
であるのが好ましい。ＣｕはＪＩＳ２０００系、４００
０系材料のスクラップに多く含まれる元素である。Ｃｕ
は比較的Ａｌに中に固溶しやすい。Ｃｕの含有率が１．
０質量％を超えると、例えば、後述する硫酸による処理
でこれを除去し切れなくなる場合があり、より好ましい
Ｃｕの含有率は０．０００〜０．３質量％である。

【００３５】Ｍｇの含有率は０．０００〜１．５質量％
であるのが好ましい。ＭｇはＪＩＳ２０００系、３００
０系、５０００系、７０００系材料のスクラップに多く
含まれる元素である。特にｃａｎ ｅｎｄ材に多く含ま
れるため、スクラップ材に含まれる主要な不純物金属の
一つである。Ｍｇは比較的Ａｌ中に固溶しやすく、Ｓｉ
と金属間化合物を形成する。Ｍｇの含有率が１．５質量
％を超えると、例えば、後述する硫酸による処理でこれ
を除去し切れなくなる場合がある。

【００３６】Ｍｎの含有率は０．０００〜１．５質量％
であるのが好ましい。ＭｎはＪＩＳ３０００系材料のス
クラップに多く含まれる元素である。Ｍｎは特にｃａｎ
ｂｏｄｙ材に多く含まれるため、スクラップ材に含ま
れる主要な不純物金属の一つである。Ｍｎは比較的Ａｌ
中に固溶しやすく、Ａｌ、ＦｅおよびＳｉと金属間化合
物を形成する。Ｍｎの含有率が１．５質量％を超える
と、例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し切
れなくなる場合がある。

【００３７】Ｚｎの含有率は０．０００〜０．５質量％
であるのが好ましい。Ｚｎは特にＪＩＳ７０００系のス
クラップに多く含まれる元素である。Ｚｎは比較的Ａｌ
中に固溶しやすい。Ｚｎの含有率が０．５質量％を超え
ると、例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し
切れなくなる場合がある。

【００３８】Ｃｒの含有率は０．０００〜０．１質量％
であるのが好ましい。ＣｒはＪＩＳＡ５０００系、６０
００系、７０００系のスクラップに少量含まれる不純物
金属である。Ｃｒの含有率が０．１質量％を超えると、
例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し切れな
くなる場合がある。

【００３９】Ｔｉの含有率は０．００３〜０．５質量％
であるのが好ましい。Ｔｉは通常結晶微細化材として
０．００５〜０．０４質量％添加される元素である。Ｊ
ＩＳ５０００系、６０００系、７０００系のスクラップ
には不純物金属として比較的多めに含まれる。Ｔｉの含
有率が０．５質量％を超えると、例えば、後述する硫酸
による処理でこれを除去し切れなくなる場合がある。

【００４０】本発明に用いられるアルミニウム板は、上
記原材料を用いて常法で鋳造したものに、適宜圧延処理
や熱処理を施し、厚さを例えば、０．１〜０．７ｍｍと
し、必要に応じて平面性矯正処理を施して製造される。
この厚さは、印刷機の大きさ、印刷板の大きさおよびユ
ーザーの希望により、適宜変更することができる。な
お、上記アルミニウム板の製造方法としては、例えば、
ＤＣ鋳造法、ＤＣ鋳造法から均熱処理および／または焼
鈍処理を省略した方法、ならびに、連続鋳造法を用いる
ことができる。

【００４１】本発明の平版印刷版用支持体は、上記金属
基体に粗面化処理を施し、更に、特定の親水性皮膜を形
成して得られるが、本発明の平版印刷版用支持体の製造
工程には、粗面化処理および親水性皮膜の形成以外の各
種の工程が含まれていてもよい。以下、金属基体として
アルミニウム板を用いる場合を例に挙げて、本発明の平
版印刷版用支持体について説明する。

【００４２】上記アルミニウム板は、付着している圧延
油を除く脱脂工程、アルミニウム板の表面のスマットを
溶解するデスマット処理工程、アルミニウム板の表面を
粗面化する粗面化処理工程、アルミニウム板の表面を酸
化皮膜で覆う陽極酸化処理工程等を経て、支持体とされ
るのが好ましい。本発明の平版印刷版用支持体の製造工
程は、酸性水溶液中で交流電流を用いてアルミニウム板
を電気化学的に粗面化する粗面化処理（電気化学的粗面
化処理）を含むのが好ましい。特に、塩酸を含有する水
溶液を用いて電気化学的粗面化処理することが更に好ま
しい。また、本発明の平版印刷版用支持体の製造工程
は、上記電気化学的粗面化処理の他に、機械的粗面化処
理、酸またはアルカリ水溶液中での化学的エッチング処
理等を組み合わせたアルミニウム板の表面処理工程を含
んでもよい。本発明の平版印刷版用支持体の粗面化処理
等の製造工程は、連続法でも断続法でもよいが、工業的
には連続法を用いるのが好ましい。また、本発明の平版
印刷版用支持体は、粗面化形状の小ピットの平均開口径
及び小ピットの平均深さの平均開口径に対する比を特定
範囲にすることが好ましい。本発明の平版印刷版用支持
体は、特定の熱伝導率の親水性皮膜を設けられる。更
に、必要に応じて、ポアワイド処理（酸処理またはアル
カリ処理）、封孔処理、親水性表面処理を経て、支持体
が形成される。更に、必要に応じて支持体形成後に、下
塗層を設けてもよい。

【００４３】＜粗面化処理（砂目立て処理）＞まず、粗
面化処理について説明する。アルミニウム板は、より好
ましい形状に砂目立て処理される。砂目立て処理方法
は、特開昭５６−２８８９３号公報に記載されているよ
うな機械的砂目立て（機械的粗面化処理）、化学的エッ
チング、電解グレイン等がある。更に、塩酸電解液中ま
たは硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学
的砂目立て法（電気化学的粗面化処理、電解粗面化処
理）や、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワ
イヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウ
ム表面を砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラ
シと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法等の
機械的砂目立て法（機械的粗面化処理）を用いることが
できる。これらの砂目立て法は、単独でまたは組み合わ
せて用いることができる。例えば、ナイロンブラシと研
磨剤とによる機械的粗面化処理と、塩酸電解液および／
または硝酸電解液による電解粗面化処理との組み合わせ
や、複数の電解粗面化処理の組み合わせが挙げられる。
中でも、電気化学的粗面化処理が好ましい。また、機械
的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせて
行うのも好ましく、特に、機械的粗面化処理の後に電気
化学的粗面化処理を行うのが好ましい。

【００４４】電気化学的粗面化処理は、酸性水溶液中
で、アルミニウム板を電極として交流電流を通じ、該ア
ルミニウム板の表面を電気化学的に粗面化する工程であ
り、後述の機械的粗面化処理とは異なる。

【００４５】電気化学的粗面化処理に用いられる酸性水
溶液としては、通常の直流電流または交流電流を用いた
電気化学的粗面化処理に用いるものを用いることがで
き、その中でも硝酸を主体とする酸性水溶液または塩酸
を主体とする酸性水溶液を用いることが好ましい。ここ
で、「主体とする」とは、水溶液中に主体となる成分
が、成分全体に対して、３０質量％以上、好ましくは５
０質量％以上含まれていることをいう。以下、他の成分
においても同様である。本発明は、塩酸を含有する水溶
液を電解液とする電気化学的な処理によって粗面化した
基板を使用することが好ましい。塩酸を主とする電解液
を用いた電気化学的粗面化処理の場合には、平均開口径
が０．０１〜数μｍ、深さと平均開口径の比が０．１〜
０．５の小ピットが形成されるのと同時に平均開口径が
数μｍ〜数１０μｍの大きなうねりの二重構造が形成さ
れやすいので、汚れ難さと耐刷性にとって望ましい粗面
化形状が得られる。電解液には、必要に応じて、硝酸
塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、リン酸、クロム
酸、ホウ酸、酢酸、硫酸、シュウ酸等を加えることがで
きるが、中でも特に酢酸、硫酸が好ましい。本発明にお
いては、上記電気化学的粗面化処理において、アルミニ
ウム板が陰極となるときにおける電気量、即ち、陰極時
電気量Ｑ_C と、陽極となるときにおける電気量、即ち、
陽極時電気量Ｑ_A との比Ｑ_C ／Ｑ_A を、例えば、０．９
５〜２．５の範囲内とすることで、アルミニウム板の表
面に均一なハニカムピットを生成することができる。Ｑ
_C ／Ｑ_A が０．９５未満であると、不均一なハニカムピ
ットとなりやすく、また、２．５を超えても、不均一な
ハニカムピットとなりやすい。Ｑ_C ／Ｑ_A は、１．５〜
２．０の範囲内とするのが好ましい。

【００４６】電気化学的粗面化処理に用いられる交流電
流の波形としては、サイン波、矩形波、三角波、台形波
等が挙げられる。中でも、矩形波または台形波が好まし
い。また、交流電流の周波数は、電源装置を製作するコ
ストの観点から、３０〜２００Ｈｚであるのが好まし
く、４０〜１２０Ｈｚであるのがより好ましい。本発明
に好適に用いられる台形波の一例を図１に示す。図１に
おいて、縦軸は電流値、横軸は時間を示す。また、ｔａ
はアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐお
よびｔｐ´はそれぞれ電流値が０からピークに達するま
での時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電
流、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流を示
す。交流電流の波形として台形波を用いる場合、電流が
０からピークに達するまでの時間ｔｐおよびｔｐ´はそ
れぞれ０．１〜２ｍｓｅｃであるのが好ましく、０．３
〜１．５ｍｓｅｃであるのがより好ましい。ｔｐおよび
ｔｐ´が０．１ｍｓｅｃ未満であると、電源回路のイン
ピーダンスが影響し、電流波形の立ち上がり時に大きな
電源電圧が必要となり、電源の設備コストが高くなる場
合がある。また、ｔｐおよびｔｐ´が２ｍｓｅｃを超え
ると、酸性水溶液中の微量成分の影響が大きくなり、均
一な粗面化処理が行われにくくなる場合がある。

【００４７】また、電気化学的粗面化処理に用いられる
交流電流のｄｕｔｙは、アルミニウム板表面を均一に粗
面化する点から０．２５〜０．５の範囲内とするのが好
ましく、０．３〜０．４の範囲内とするのがより好まし
い。本発明でいうｄｕｔｙとは、交流電流の周期Ｔにお
いて、アルミニウム板の陽極反応が持続している時間
（アノード反応時間）をｔａとしたときのｔａ／Ｔをい
う。特に、カソード反応時のアルミニウム板表面には、
水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の生成に
加え、酸化皮膜の溶解や破壊が発生し、次のアルミニウ
ム板のアノード反応時におけるピッティング反応の開始
点となるため、交流電流のｄｕｔｙの選択は均一な粗面
化に与える効果が大きい。

【００４８】交流電流の電流密度は、台形波または矩形
波の場合、アノードサイクル側のピーク時の電流密度Ｉ
ａｐおよびカソードサイクル側のピーク時の電流密度Ｉ
ｃｐがそれぞれ１０〜２００Ａ／ｄｍ² となるのが好ま
しい。また、Ｉｃｐ／Ｉａｐは、０．９〜１．５の範囲
内にあるのが好ましい。電気化学的粗面化処理におい
て、電気化学的粗面化処理が終了した時点でのアルミニ
ウム板のアノード反応に用いた電気量の総和は、５０〜
１０００Ｃ／ｄｍ ² であるのが好ましい。電気化学的粗
面化処理の時間は、１秒〜３０分であるのが好ましい。

【００４９】硝酸を主体とする酸性水溶液としては、上
述したように、通常の直流電流または交流電流を用いた
電気化学的粗面化処理に用いるものを用いることができ
る。例えば、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸
アンモニウム等の硝酸化合物のうち一つ以上を、０．０
１ｇ／Ｌから飽和に達するまでの濃度で、硝酸濃度５〜
１５ｇ／Ｌの硝酸水溶液に添加して使用することができ
る。硝酸を主体とする酸性水溶液中には、鉄、銅、マン
ガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、ケイ素等のア
ルミニウム合金中に含まれる金属等が溶解されていても
よい。

【００５０】硝酸を主体とする酸性水溶液としては、中
でも、硝酸と、アルミニウム塩と、硝酸塩とを含有し、
かつ、アルミニウムイオンが１〜１５ｇ／Ｌ、好ましく
は１〜１０ｇ／Ｌ、アンモニウムイオンが１０〜３００
ｐｐｍとなるように、硝酸濃度５〜１５ｇ／Ｌの硝酸水
溶液中に硝酸アルミニウムおよび硝酸アンモニウムを添
加して得られたものを用いることが好ましい。なお、上
記アルミニウムイオンおよびアンモニウムイオンは、電
気化学的粗面化処理を行っている間に自然発生的に増加
していくものである。また、この際の液温は１０〜９５
℃であるのが好ましく、２０〜９０℃であるのがより好
ましく、４０〜８０℃であるのが特に好ましい。

【００５１】電気化学的粗面化処理においては、縦型、
フラット型、ラジアル型等の公知の電解装置を用いるこ
とができるが、特開平５−１９５３００号公報に記載さ
れているようなラジアル型電解装置が特に好ましい。図
２は、本発明に好適に用いられるラジアル型電解装置の
概略図である。図２において、ラジアル型電解装置は、
アルミニウム板１１が主電解槽２１中に配置されたラジ
アルドラムローラ１２に巻装され、搬送過程で交流電源
２０に接続された主極１３ａおよび１３ｂによって電解
処理される。酸性水溶液１４は、溶液供給口１５からス
リット１６を通じてラジアルドラムローラ１２と主極１
３ａおよび１３ｂとの間にある溶液通路１７に供給され
る。ついで、主電解槽２１で処理されたアルミニウム板
１１は、補助陽極槽２２で電解処理される。この補助陽
極槽２２には補助陽極１８がアルミニウム板１１と対向
配置されており、酸性水溶液１４は、補助陽極１８とア
ルミニウム板１１との間を流れるように供給される。な
お、補助電極に流す電流は、サイリスタ１９ａおよび１
９ｂにより制御される。

【００５２】主極１３ａおよび１３ｂは、カーボン、白
金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステンレス、燃料
電池用陰極に用いる電極等から選定することができる
が、カーボンが特に好ましい。カーボンとしては、一般
に市販されている化学装置用不浸透性黒鉛や、樹脂含芯
黒鉛等を用いることができる。補助陽極１８は、フェラ
イト、酸化イリジウム、白金、または、白金をチタン、
ニオブ、ジルコニウム等のバルブ金属にクラッドもしく
はメッキしたもの等公知の酸素発生用電極から選定する
ことができる。

【００５３】主電解槽２１および補助陽極槽２２内を通
過する酸性水溶液の供給方向はアルミニウム板１１の進
行とパラレルでもカウンターでもよい。アルミニウム板
に対する酸性水溶液の相対流速は、１０〜１０００ｃｍ
／ｓｅｃであるのが好ましい。一つの電解装置には１個
以上の交流電源を接続することができる。また、２個以
上の電解装置を使用してもよく、各装置における電解条
件は同一であってもよいし異なっていてもよい。また、
電解処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さ
ないためにニップローラによる液切りとスプレーによる
水洗とを行うのが好ましい。

【００５４】上記電解装置を用いる場合においては、電
解装置中のアルミニウム板がアノード反応する酸性水溶
液の通電量に比例して、例えば、（ｉ）酸性水溶液の導
電率と（ｉｉ）超音波の伝搬速度と（ｉｉｉ）温度とか
ら求めた酸およびアルミニウムイオン濃度をもとに、酸
と水の添加量を調節しながら添加し、酸と水の添加容積
と同量の酸性水溶液を逐次電解装置からオーバーフロー
させて排出することで、上記酸性水溶液の濃度を一定に
保つのが好ましい。

【００５５】つぎに、機械的粗面化処理、酸性水溶液中
またはアルカリ水溶液中での化学的エッチング処理、デ
スマット処理等の表面処理について順を追って説明す
る。上記表面処理は、それぞれ上記電気化学的粗面化処
理の前、または、上記電気化学的粗面化処理の後であっ
て後述する陽極酸化処理の前において行われる。ただ
し、以下の各表面処理の説明は例示であり、本発明は、
以下の各表面処理の内容に限定されるものではない。ま
た、上記表面処理を初めとする以下の各処理は任意で施
される。

【００５６】機械的粗面化処理は、ブラシ等を使用して
アルミニウム板表面を機械的に粗面化する処理であり、
上述した電気化学的粗面化処理の前に行われるのが好ま
しい。好適な機械的粗面化処理においては、毛径が０．
０７〜０．５７ｍｍである回転するナイロンブラシロー
ルと、アルミニウム板表面に供給される研磨剤のスラリ
ー液とで処理する。

【００５７】ナイロンブラシは吸水率が低いものが好ま
しく、例えば、東レ社製のナイロンブリッスル２００Ｔ
（６，１０−ナイロン、軟化点：１８０℃、融点：２１
２〜２１４℃、比重：１．０８〜１．０９、水分率：２
０℃・相対湿度６５％において１．４〜１．８、２０℃
・相対湿度１００％において２．２〜２．８、乾引っ張
り強度：４．５〜６ｇ／ｄ、乾引っ張り伸度：２０〜３
５％、沸騰水収縮率：１〜４％、乾引っ張り抵抗度：３
９〜４５ｇ／ｄ、ヤング率（乾）：３８０〜４４０ｋｇ
／ｍｍ² ）が好ましい。

【００５８】研磨剤としては公知のものを用いることが
できるが、特開平６−１３５１７５号公報および特公昭
５０−４００４７号公報に記載されているケイ砂、石
英、水酸化アルミニウム、またはこれらの混合物を用い
るのが好ましい。

【００５９】スラリー液としては、比重が１．０５〜
１．３の範囲内にあるものが好ましい。スラリー液をア
ルミニウム板表面に供給する方法としては、例えば、ス
ラリー液を吹き付ける方法、ワイヤーブラシを用いる方
法、凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウム
板に転写する方法が挙げられる。また、特開昭５５−０
７４８９８号公報、同６１−１６２３５１号公報、同６
３−１０４８８９号公報に記載されている方法を用いて
もよい。更に、特表平９−５０９１０８号公報に記載さ
れているように、アルミナおよび石英からなる粒子の混
合物を９５：５〜５：９５の範囲の質量比で含んでなる
水性スラリー中で、アルミニウム板表面をブラシ研磨す
る方法を用いることもできる。このときの上記混合物の
平均粒子径は、１〜４０μｍ、特に１〜２０μｍの範囲
内であるのが好ましい。

【００６０】＜アルカリエッチング処理＞アルカリエッ
チング処理は、アルカリ水溶液中でアルミニウム板表面
を化学的にエッチングする処理であり、上記電気化学的
粗面化処理の前と後のそれぞれにおいて行うのが好まし
い。また、電気化学的粗面化処理の前に機械的粗面化処
理を行う場合には、機械的粗面化処理の後に行うのが好
ましい。アルカリエッチング処理は、短時間で微細構造
を破壊することができるので、後述する酸性エッチング
処理よりも有利である。アルカリエッチング処理に用い
られるアルカリ水溶液としては、カセイソーダ、炭酸ソ
ーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソ
ーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の１種または
２種以上を含有する水溶液が挙げられる。特に、水酸化
ナトリウム（カセイソーダ）を主体とする水溶液が好ま
しい。アルカリ水溶液は、アルミニウムはもちろん、ア
ルミニウム板中に含有される合金成分を０．５〜１０質
量％を含有していてもよい。アルカリ水溶液の濃度は、
１〜５０質量％であるのが好ましく、１〜３０質量％で
あるのがより好ましい。

【００６１】アルカリエッチング処理は、アルカリ水溶
液の液温を２０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃の
間とし、１〜１２０秒間、好ましくは２〜６０秒間処理
することにより行うのが好ましい。アルミニウムの溶解
量は、機械的粗面化処理の後に行う場合は５〜２０ｇ／
ｍ² であるのが好ましく、電気化学的粗面化処理の後に
行う場合は０．０１〜２０ｇ／ｍ² であるのが好まし
い。最初にアルカリ水溶液中で化学的なエッチング液を
ミキシングするときには、液体水酸化ナトリウム（カセ
イソーダ）とアルミン酸ナトリウム（アルミン酸ソー
ダ）とを用いて処理液を調製することが好ましい。ま
た、アルカリエッチング処理が終了した後には、処理液
を次工程に持ち出さないために、ニップローラによる液
切りとスプレーによる水洗とを行うのが好ましい。

【００６２】アルカリエッチング処理を電気化学的粗面
化処理の後に行う場合、電気化学的粗面化処理により生
じたスマットを除去することができる。このようなアル
カリエッチング処理としては、例えば、特開昭５３−１
２７３９号公報に記載されているような５０〜９０℃の
温度の１５〜６５質量％の硫酸と接触させる方法および
特公昭４８−２８１２３号公報に記載されているアルカ
リエッチングする方法が好適に挙げられる。

【００６３】＜酸性エッチング処理＞酸性エッチング処
理は、酸性水溶液中でアルミニウム板を化学的にエッチ
ングする処理であり、上記電気化学的粗面化処理の後に
行うのが好ましい。また、上記電気化学的粗面化処理の
前および／または後に上記アルカリエッチング処理を行
う場合は、アルカリエッチング処理の後に酸性エッチン
グ処理を行うのも好ましい。アルミニウム板に上記アル
カリエッチング処理を施した後に、上記酸性エッチング
処理を施すと、アルミニウム板表面のシリカを含む金属
間化合物または単体Ｓｉを除去することができ、その後
の陽極酸化処理において生成する陽極酸化皮膜の欠陥を
なくすことができる。その結果、印刷時にチリ状汚れと
称される非画像部に点状のインクが付着するトラブルを
防止することができる。

【００６４】酸性エッチング処理に用いられる酸性水溶
液としては、リン酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、ま
たはこれらの２種以上の混酸を含有する水溶液が挙げら
れる。中でも、硫酸水溶液が好ましい。酸性水溶液の濃
度は、５０〜５００ｇ／Ｌであるのが好ましい。酸性水
溶液は、アルミニウムはもちろん、アルミニウム板中に
含有される合金成分を含有していてもよい。

【００６５】酸性エッチング処理は、液温を６０〜９０
℃、好ましくは７０〜８０℃とし、１〜１０秒間処理す
ることにより行うのが好ましい。このときのアルミニウ
ム板の溶解量は０．００１〜０．２ｇ／ｍ² であるのが
好ましい。また、酸濃度、例えば、硫酸濃度とアルミニ
ウムイオン濃度は、常温で晶出しない範囲から選択する
ことが好ましい。好ましいアルミニウムイオン濃度は
０．１〜５０ｇ／Ｌであり、特に好ましくは５〜１５ｇ
／Ｌである。また、酸性エッチング処理が終了した後に
は、処理液を次工程に持ち出さないために、ニップロー
ラによる液切りとスプレーによる水洗とを行うのが好ま
しい。

【００６６】＜デスマット処理＞上記電気化学的粗面化
処理の前および／または後に上記アルカリエッチング処
理を行う場合は、アルカリエッチング処理により、一般
にアルミニウム板の表面にスマットが生成するので、リ
ン酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、フッ酸、ホウフッ
化水素酸、またはこれらの２種以上の混酸を含有する酸
性溶液中で上記スマットを溶解する、いわゆるデスマッ
ト処理をアルカリエッチング処理の後に行うのが好まし
い。なお、アルカリエッチング処理の後には、酸性エッ
チング処理およびデスマット処理のうち、いずれか一方
を行えば十分である。

【００６７】酸性溶液の濃度は、１〜５００ｇ／Ｌであ
るのが好ましい。酸性溶液中にはアルミニウムはもちろ
ん、アルミニウム板中に含有される合金成分が０．００
１〜５０ｇ／Ｌ溶解していてもよい。酸性溶液の液温
は、２０℃〜９５℃であるのが好ましく、３０〜７０℃
であるのがより好ましい。また、処理時間は１〜１２０
秒であるのが好ましく、２〜６０秒であるのがより好ま
しい。また、デスマット処理液（酸性溶液）としては、
上記電気化学的粗面化処理で用いた酸性水溶液の廃液を
用いるのが、廃液量削減の上で好ましい。デスマット処
理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないた
めにニップローラによる液切りとスプレーによる水洗と
を行うのが好ましい。

【００６８】これらの表面処理の組み合わせとして、好
ましい態様を以下に示す。まず、機械的粗面化処理およ
び／またはアルカリエッチング処理を行い、その後、デ
スマット処理を行う。つぎに、電気化学的粗面化処理を
行い、その後、酸性エッチング処理、アルカリエッ
チング処理およびそれに引き続くデスマット処理、ア
ルカリエッチング処理およびそれに引き続く酸性エッチ
ング処理のいずれかを行う。

【００６９】上記の粗面化処理を施された本発明の平版
印刷版原版は、粗面化形状の小ピットの平均開口径が
０．０１〜３μｍであることが好ましい。より好ましく
は０．０５〜２μｍで、特に好ましくは０．０５〜１．
０μｍである。この範囲内で、満足な印刷での汚れ難さ
や耐刷性が確保でき、また良好な耐刷性が得られる。

【００７０】また、小ピットの平均深さの平均開口径に
対する比は、０．１〜０．５であることが好ましい。よ
り好ましくは０．１〜０．３、特に好ましくは０．１５
〜０．２である。この範囲内で印刷での汚れ難さや耐刷
性が劣化することなく、また汚れ難さも劣化せず、好ま
しい。

【００７１】粗面化形状の大きなうねりの平均開口径は
３〜２０μｍが好ましい。より好ましくは３〜１７μｍ
で、特に好ましくは４〜１０μｍである。この範囲にお
いて、印刷での汚れ難さや耐刷性が劣化することなく、
かつ汚れ性も劣化せず、好ましい。

【００７２】＜親水性皮膜の形成＞以上のようにして粗
面化処理および必要に応じて他の処理を施されたアルミ
ニウム板に、低熱伝導率の親水性皮膜を設けるための処
理を施す。親水性皮膜は、膜厚方向の熱伝導率が０．０
５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であり、好ましくは０．０８Ｗ／
（ｍ・Ｋ）以上であり、また、０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以
下であり、好ましくは０．３Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であ
り、より好ましくは０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である。
膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）
とすると、レーザー光の露光により記録層に発生する熱
が支持体に拡散することを抑制することができる。その
結果、本発明の平版印刷版原版を機上現像タイプ、無処
理型として用いる場合には、感度が高くなり、従来のサ
ーマルポジタイプとして用いる場合には、感度が高く、
残膜の発生がなくなり、従来のサーマルネガタイプとし
て用いる場合には、画像が十分に形成できないなどの問
題がない。

【００７３】以下、本発明で規定する親水性皮膜の膜厚
方向の熱伝導率について説明する。薄膜の熱伝導率測定
方法としては種々の方法がこれまでに報告されている。
１９８６年にはＯＮＯらがサーモグラフを用いて薄膜の
平面方向の熱伝導率を報告している。また、薄膜の熱物
性の測定に交流加熱方法を応用する試みも報告されてい
る。交流加熱法はその起源を１８６３年の報告にまでさ
かのぼることができるが、近年においては、レーザーに
よる加熱方法の開発やフーリエ変換との組み合わせによ
り様々な測定法が提案されている。レーザーオングスト
ローム法を用いた装置は実際に市販もされている。これ
らの方法はいずれも薄膜の平面方向（面内方向）の熱伝
導率を求めるものである。

【００７４】しかし、薄膜の熱伝導を考える際にはむし
ろ深さ方向への熱拡散が重要な因子である。種々報告さ
れているように薄膜の熱伝導率は等方的でないといわれ
ており、特に本発明のような場合には直接、膜厚方向の
熱伝導率を計測することが極めて重要である。このよう
な観点から薄膜の膜厚方向の熱物性を測定する試みとし
てサーモコンパレータを用いた方法がＬａｍｂｒｏｐｏ
ｕｌｏｓらの論文（Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，６６
（９）（１ Ｎｏｖｅｍｂｅｒ １９８９））およびＨ
ｅｎａｇｅｒらの論文（ＡＰＰＬＩＥＤ ＯＰＴＩＣ
Ｓ，Ｖｏｌ．３２,Ｎｏ．１（１ Ｊａｎｕａｒｙ １
９９３））で報告されている。更に、近年、ポリマー薄
膜の熱拡散率をフーリエ解析を適用した温度波熱分析に
より測定する方法が橋本らによって報告されている（Ｎ
ｅｔｓｕ Ｓｏｋｕｔｅｉ，２７（３）（２００
０））。

【００７５】本発明で規定する親水性皮膜の膜厚方向の
熱伝導率は、上記サーモコンパレータを用いる方法で測
定される。以下、上記方法を具体的に説明するが、上記
方法の基本的な原理については、上述したＬａｍｂｒｏ
ｐｏｕｌｏｓらの論文およびＨｅｎａｇｅｒらの論文に
詳細に記載されている。また、上記方法に用いられる装
置は、以下の装置に限定されるものではない。

【００７６】図３は、本発明の平版印刷版原版の親水性
皮膜の膜厚方向の熱伝導率の測定に用いることができる
サーモコンパレータ３０の概略図である。サーモコンパ
レータを用いる方法では、薄膜との接触面積および接触
面の状態（粗さ）の影響を大きく受ける。そのため、サ
ーモコンパレータ３０が薄膜と接触する先端をできる限
り微小なものとすることが重要である。例えば、無酸素
銅製の半径ｒ₁ ＝０.２ｍｍの微小な先端を有するチッ
プ（線材）３１を用いる。このチップ３１をコンスタン
タン製のリザーバ３２の中心に固定し、そのリザーバ３
２の周囲に、電熱ヒーター３３を有する無酸素銅製の加
熱用ジャケット３４を固定する。この加熱用ジャケット
３４を電熱ヒーター３３で加熱し、リザーバ３２内部に
取り付けた熱電対３５の出力をフィードバックさせなが
らリザーバ３を６０±１℃になるよう制御すると、チッ
プ３１が６０±１℃に加熱される。一方、半径１０ｃ
ｍ、厚み１０ｍｍの無酸素銅製のヒートシンク３６を用
意し、測定対象の皮膜３７を有する金属基体３８をヒー
トシンク３６上に設置する。ヒートシンク３６の表面の
温度は接触式温度計３９を用いて測定する。

【００７７】このようにサーモコンパレータ３０を設定
した後、皮膜３７の表面に加熱したチップ３１の先端を
密着するように接触させる。サーモコンパレータ３０
は、例えば、ダイナミック微小硬度計の先端に圧子の代
わりに取り付けて上下に駆動させるようにし、皮膜３７
の表面にチップ３１が当たって０. ５ｍＮの負荷がかか
るまで押し付けることができるようにする。これにより
測定対象である皮膜３７とチップ３１の接触面積のバラ
ツキを最低限とすることができる。加熱したチップ３１
を皮膜３７に接触させるとチップ３１の先端温度は下が
るが、ある一定温度で定常状態に達する。これは電熱ヒ
ーター３３から加熱用ジャケット３４およびリザーバ３
２を通じてチップ３１に与えられる熱量と、チップ３１
から金属基体３８を通じてヒートシンク３６へ拡散する
熱量とが平衡するためである。このときのチップ先端温
度、ヒートシンク温度およびリザーバ温度をそれぞれチ
ップ先端温度記録計４０、ヒートシンク温度記録計４１
およびリザーバ温度記録計４２を用いて記録する。

【００７８】上記各温度と皮膜の熱伝導率の関係は、下
記式（１）のようになる。

【００７９】

【数１】

【００８０】ただし、上記式（１）中の符号は、以下の
通りである。 Ｔ_t ：チップ先端温度、Ｔ_b ：ヒートシンク温度、
Ｔ_r ：リザーバ温度、 Ｋ_tf：皮膜熱伝導率、Ｋ₁ ：リザーバ熱伝導率、 Ｋ₂ ：チップ熱伝導率（無酸素銅の場合、４００Ｗ／
（ｍ・Ｋ））、 Ｋ₄ ：（皮膜を設けない場合の）金属基体熱伝導率、 ｒ₁ ：チップ先端曲率半径、 Ａ₂ ：リザーバとチップとの接触面積、Ａ₃ ：チップと
皮膜との接触面積、 ｔ：膜厚、ｔ₂ ：接触厚み（≒０）

【００８１】膜厚（ｔ）を変化させて各温度（Ｔ_t 、Ｔ
_b およびＴ_r ）を測定しプロットすることにより、上記
式（１）の傾きを求め、皮膜熱伝導率（Ｋ_tf）を求める
ことができる。即ち、この傾きは上記式（１）から明ら
かなように、リザーバ熱伝導率（Ｋ₁ ）、チップ先端の
曲率半径（ｒ₁ ）、皮膜熱伝導率（Ｋ_tf）およびチップ
と皮膜との接触面積（Ａ₃ ）によって決まる値であり、
Ｋ₁ 、ｒ₁ およびＡ₃は、既知の値であるから、傾きか
らＫ_tfの値を求めることができる。

【００８２】本発明者らは、上記の測定方法を用いてア
ルミニウム基板上に設けた陽極酸化皮膜（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）
の熱伝導率を求めた。膜厚を変えて温度を測定し、その
結果のグラフの傾きから求められたＡｌ₂ Ｏ₃ の熱伝導
率は、０. ６９Ｗ／（ｍ・Ｋ）であった。これは、上述
したＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文の結果とよい一
致を示している。そして、この結果は、薄膜の熱物性値
がバルクの熱物性値（バルクのＡｌ₂ Ｏ₃ の熱伝導率
は、２８Ｗ／（ｍ・Ｋ））とは異なることも示してい
る。

【００８３】本発明の平版印刷版原版の親水性皮膜の膜
厚方向の熱伝導率の測定に上記方法を用いると、チップ
先端を微小なものにし、かつ、押し付け荷重を一定に保
つことにより、平版印刷版用に粗面化された表面につい
てもバラツキのない結果を得ることができるので好まし
い。熱伝導率の値は、試料上の異なる複数の点、例え
ば、５点で測定し、その平均値として求めるのが好まし
い。

【００８４】親水性皮膜の膜厚は、傷付きにくさおよび
耐刷性の点で、０．１μｍ以上であるのが好ましく、
０．３μｍ以上であるのがより好ましく、０．６μｍ以
上であるのが特に好ましく、また、製造コストの観点か
ら、厚い皮膜を設けるためには多大なエネルギーを必要
とすることを鑑みると、５μｍ以下であるのが好まし
く、３μｍ以下であるのがより好ましく、２μｍ以下で
あるのが特に好ましい。

【００８５】本発明の親水性皮膜は、断熱性への効果及
び皮膜強度、印刷での汚れ難さの観点から、密度が１０
００〜３２００ｋｇ／ｍ³ であることが好ましい。

【００８６】密度の測定法としては、例えば、メイソン
法（クロム酸／リン酸混合液溶解による陽極酸化皮膜重
量法）による質量測定と、断面をＳＥＭで観察して求め
た膜厚から、以下の式によって算出することができる。

【００８７】密度（ｋｇ／ｍ³ ）＝（単位面積あたりの
親水性皮膜質量／膜厚）

【００８８】親水性皮膜を設ける方法としては、特に限
定されず、陽極酸化法、蒸着法、ＣＶＤ法、ゾルゲル
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、拡散
法等を適宜用いることができる。また、親水性樹脂また
はゾルゲル液に中空粒子を混合した溶液を塗布する方法
を用いることもできる。

【００８９】中でも、陽極酸化法により酸化物を作成す
る処理、即ち、陽極酸化処理を用いるのが最も好適であ
る。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で
行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム
酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等
の単独のまたは２種以上を組み合わせた水溶液または非
水溶液の中で、アルミニウム板に直流または交流を流す
と、アルミニウム板の表面に、親水性皮膜である陽極酸
化皮膜を形成することができる。陽極酸化処理の条件
は、使用される電解液によって種々変化するので一概に
決定され得ないが、一般的には電解液濃度１〜８０質量
％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｄ
ｍ² 、電圧１〜２００Ｖ、電解時間１〜１０００秒であ
るのが適当である。これらの陽極酸化処理の中でも、英
国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されてい
る、硫酸電解液中で高電流密度で陽極酸化処理する方
法、および、米国特許第３，５１１，６６１号明細書に
記載されている、リン酸を電解浴として陽極酸化処理す
る方法が好ましい。また、硫酸中で陽極酸化処理し、更
にリン酸中で陽極酸化処理するなどの多段陽極酸化処理
を施すこともできる。

【００９０】本発明においては、陽極酸化皮膜は、傷付
きにくさおよび耐刷性の点で、０．１ｇ／ｍ² 以上であ
るのが好ましく、０．３ｇ／ｍ² 以上であるのがより好
ましく、２ｇ／ｍ² 以上であるのが特に好ましく、３．
２ｇ／ｍ² 以上であるのがさらに好ましい。また、厚い
皮膜を設けるためには多大なエネルギーを必要とするこ
とを鑑みると、１００ｇ／ｍ² 以下であるのが好まし
く、４０ｇ／ｍ² 以下であるのがより好ましく、２０ｇ
／ｍ² 以下であるのが特に好ましい。

【００９１】陽極酸化皮膜には、その表面にマイクロポ
アと呼ばれる微細な凹部が一様に分布して形成されてい
る。陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの密度は、処
理条件を適宜選択することによって調整することができ
る。マイクロポアの密度を高くすることにより、陽極酸
化皮膜の膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ／
（ｍ・Ｋ）とすることができる。また、マイクロポアの
径は、処理条件を適宜選択することによって調整するこ
とができる。マイクロポアの径を大きくすることによ
り、陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜
０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）とすることができる。また、マイ
クロポアの径は、処理条件を適宜選択することによって
調整することができる。マイクロポアの径を大きくする
ことにより、陽極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率を０．
０５〜０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）とすることができる。

【００９２】本発明においては、熱伝導率を下げる目的
で、陽極酸化処理の後、マイクロポアのポア径を拡げる
ポアワイド処理を行うことが好ましい。このポアワイド
処理は、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム基板を
酸水溶液またはアルカリ水溶液に浸せきすることによ
り、陽極酸化皮膜を溶解し、マイクロポアのポア径を拡
大するものである。ポアワイド処理は、陽極酸化皮膜の
溶解量が、好ましくは０．０１〜２０ｇ／ｍ² 、より好
ましくは０．１〜５ｇ／ｍ² 、特に好ましくは０．２〜
４ｇ／ｍ² となる範囲で行われる。

【００９３】ポアワイド処理に酸水溶液を用いる場合
は、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸またはこれら
の混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の
濃度は１０〜１０００ｇ／Ｌであるのが好ましく、２０
〜５００ｇ／Ｌであるのがより好ましい。酸水溶液の温
度は、１０〜９０℃であるのが好ましく、３０〜７０℃
であるのがより好ましい。酸水溶液への浸せき時間は、
１〜３００秒であるのが好ましく、２〜１００秒である
のがより好ましい。一方、ポアワイド処理にアルカリ水
溶液を用いる場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムおよび水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なく
とも一つのアルカリの水溶液を用いることが好ましい。
アルカリ水溶液のｐＨは、１０〜１３であるのが好まし
く、１１．５〜１３．０であるのがより好ましい。アル
カリ水溶液の温度は、１０〜９０℃であるのが好まし
く、３０〜５０℃であるのがより好ましい。アルカリ水
溶液への浸せき時間は、１〜５００秒であるのが好まし
く、２〜１００秒であるのがより好ましい。しかしなが
ら、最表面のマイクロポア径を拡大しすぎると、印刷時
の汚れ性能が劣化することから、最表面のマイクロポア
径は４０ｎｍ以下にすることが好ましく、２０ｎｍ以下
にすることがより好ましく、１０ｎｍ以下にすることが
最も好ましい。したがって、断熱性と汚れ性能を両立す
る。より好ましい陽極酸化皮膜形状としては、表面のマ
イクロポア径が０〜４０ｎｍで、内部のマイクロポア径
が２０〜３００ｎｍである。例えば、電解液の種類が同
じであれば、電解によって、生成するポアのポア径は電
解時の電解電圧に比例することが知られている。その性
質を利用して電解電圧を徐々に上昇させていくことで底
部分の拡がったポアが生成する方法を用いることができ
る。また、電解液の種類を変えるとポア径が変化するこ
とが知られていて、硫酸、シュウ酸、リン酸の順にポア
径が大きくなる。従って、１段階目に電解液に硫酸を用
いて、２段階目にリン酸を用いて陽極酸化する方法を用
いることができる。また、陽極酸化処理、及びあるいは
ポアワイド処理して得られた平版印刷版用支持体に後述
の封孔処理を行ってもよい。

【００９４】また、親水性皮膜は、上述した陽極酸化皮
膜のほかに、スパッタリング法、ＣＶＤ法等により設け
られる無機皮膜であってもよい。無機皮膜を構成する化
合物としては、例えば、酸化物、チッ化物、ケイ化物、
ホウ化物、炭化物が挙げられる。また、無機皮膜は、化
合物の単体のみから構成されていてもよく、化合物の混
合物により構成されていてもよい。無機皮膜を構成する
化合物としては、具体的には、酸化アルミニウム、酸化
ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウ
ム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化
モリブデン、酸化タングステン、酸化クロム；チッ化ア
ルミニウム、チッ化ケイ素、チッ化チタン、チッ化ジル
コニウム、チッ化ハフニウム、チッ化バナジウム、チッ
化ニオブ、チッ化タンタル、チッ化モリブデン、チッ化
タングステン、チッ化クロム、チッ化ケイ素、チッ化ホ
ウ素；ケイ化チタン、ケイ化ジルコニウム、ケイ化ハフ
ニウム、ケイ化バナジウム、ケイ化ニオブ、ケイ化タン
タル、ケイ化モリブデン、ケイ化タングステン、ケイ化
クロム；ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハ
フニウム、ホウ化バナジウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タ
ンタル、ホウ化モリブデン、ホウ化タングステン、ホウ
化クロム；炭化アルミニウム、炭化ケイ素、炭化チタ
ン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウ
ム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化モリブデン、炭化
タングステン、炭化クロムが挙げられる。

【００９５】＜封孔処理＞本発明においては、上述した
ようにして親水性皮膜を設けて得られた本発明の平版印
刷版用支持体に封孔処理を行ってもよい。本発明に用い
られる封孔処理としては、特開平４−１７６６９０号公
報および特願平１０−１０６８１９号明細書（特開平１
１−３０１１３５号公報）に記載の加圧水蒸気や熱水に
よる陽極酸化皮膜の封孔処理が挙げられる。また、ケイ
酸塩処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢
酸アンモニウム塩処理、電着封孔処理、トリエタノール
アミン処理、炭酸バリウム塩処理、極微量のリン酸塩を
含む熱水処理等の公知の方法を用いて行うこともでき
る。封孔処理皮膜は、例えば、電着封孔処理をした場合
にはポアの底部から形成され、また、水蒸気封孔処理を
した場合にはポアの上部から形成され、封孔処理の仕方
によって封孔処理皮膜の形成され方は異なる。そのほか
にも、溶液による浸せき処理、スプレー処理、コーティ
ング処理、蒸着処理、スバッタリング、イオンプレーテ
ィング、溶射、鍍金等が挙げられるが、特に限定される
ものではない。中でも特に好ましいのは、特願２００１
−９８７１号記載の平均粒径８〜８００ｎｍの粒子を用
いた封孔処理が挙げられる。

【００９６】粒子を用いた封孔処理は、平均粒径８〜８
００ｎｍ、好ましくは平均粒径１０〜５００ｎｍ、より
好ましくは平均粒径１０〜１５０ｎｍの粒子によって行
われる。この範囲内で、親水性皮膜に存在するマイクロ
ポアの内部に粒子が入り込んでしまうおそれが少なく、
高感度化の効果が十分得られ、また、画像記録層との密
着性が十分となり、耐刷性が優れたものとなる。粒子層
の厚さは、８〜８００ｎｍであるのが好ましく、１０〜
５００ｎｍであるのがより好ましい。

【００９７】本発明に用いられる粒子は、熱伝導率が６
０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのが好ましく、４０Ｗ／
（ｍ・Ｋ）以下であるのがより好ましく、０．３〜１０
Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのが特に好ましい。熱伝導率
が６０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であると、アルミニウム基板
への熱拡散の抑制が十分となり、高感度化の効果が十分
に得られる。

【００９８】粒子層を設ける方法としては、例えば、溶
液による浸漬処理、スプレー処理、コーティング処理、
電解処理、蒸着処理、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、溶射、鍍金等が挙げられるが、特に限定される
ものではない。

【００９９】電解処理は、直流または交流を用いること
ができる。上記電解処理に用いられる交流電流の波形と
しては、サイン波、矩形波、三角波、台形波等が挙げら
れる。また、交流電流の周波数は、電源装置を製作する
コストの観点から、３０〜２００Ｈｚであるのが好まし
く、４０〜１２０Ｈｚであるのがより好ましい。交流電
流の波形として台形波を用いる場合、電流が０からピー
クに達するまでの時間ｔｐはそれぞれ０．１〜２ｍｓｅ
ｃであるのが好ましく、０．３〜１．５ｍｓｅｃである
のがより好ましい。上記ｔｐが０．１ｍｓｅｃ未満であ
ると、電源回路のインピーダンスが影響し、電流波形の
立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、電源の設
備コストが高くなる場合がある。

【０１００】親水性粒子としては、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＴｉＯ
₂ 、ＳｉＯ₂ およびＺｒＯ₂ を単独でまたは２種以上を
組み合わせて用いるのが好ましい。電解液は、例えば、
前記親水性粒子を含有量が全体の０．０１〜２０％とな
るように、水等に懸濁させて得られる。電解液は、電荷
をプラスまたはマイナスに帯電させるために、例えば、
硫酸を添加するなどして、ｐＨを調整することもでき
る。電解処理は、例えば、直流を用い、アルミニウム板
を陰極として、上記電解液を用い、電圧１０〜２００Ｖ
で１〜６００秒間の条件で行う。この方法によれば、容
易に、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの内部に空
隙を残しつつ、その口をふさぐことができる。

【０１０１】また、封孔処理として特開昭６０−１４９
４９１号公報に記載されている、少なくとも１個のアミ
ノ基と、カルボキシル基およびその塩の基ならびにスル
ホ基およびその塩の基からなる群から選ばれた少なくと
も１個の基とを有する化合物からなる層、特開昭６０−
２３２９９８号公報に記載されている、少なくとも１個
のアミノ基と少なくとも１個のヒドロキシ基を有する化
合物およびその塩から選ばれた化合物からなる層、特開
昭６２−１９４９４号公報に記載されているリン酸塩を
含む層、特開昭５９−１０１６５１号公報に記載されて
いるスルホ基を有するモノマー単位の少なくとも１種を
繰り返し単位として分子中に有する高分子化合物からな
る層等をコーティングによって設ける方法が挙げられ
る。

【０１０２】また、カルボキシメチルセルロース；デキ
ストリン；アラビアガム；２−アミノエチルホスホン酸
等のアミノ基を有するホスホン酸類；置換基を有してい
てもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、ア
ルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホ
スホン酸、エチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸；
置換基を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸、グリセロリン酸等の有機リン酸
エステル；置換基を有していてもよいフェニルホスフィ
ン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸、
グリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸；グリシ
ン、β−アラニン等のアミノ酸類；トリエタノールアミ
ンの塩酸塩等のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等
から選ばれる化合物の層を設ける方法も挙げられる。

【０１０３】封孔処理には、不飽和基を有するシランカ
ップリング剤を塗設処理してもよい。シランカップリン
グ剤としては、例えば、Ｎ−３−（アクリロキシ−２−
ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、（３−アクリロキシプロピル）ジメチルメト
キシシラン、（３−アクリロキシプロピル）メチルジメ
トキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）トリメト
キシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメ
トキシシラン、アリルジメトキシシラン、アリルトリエ
トキシシラン、アリルトリメトキシシラン、３−ブテニ
ルトリエトキシシラン、２−（クロロメチル）アリルト
リメトキシシラン、メタクリルアミドプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキ
シプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、（メタクリロキシメチル）ジメチルエトキシシラ
ン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタク
リロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプ
ロピルジメチルエトキシシラン、メタクリロキシプロピ
ルジメチルメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルトリ
エトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルトリメ
トキシシラン、メタクリロキシプロピルトリス（メトキ
シエトキシ）シラン、メトキシジメチルビニルシラン、
１−メトキシ−３−（トリメチルシロキシ）ブタジエ
ン、スチリルエチルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−ス
チリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルト
リメトキシシラン塩酸塩、ビニルジメチルエトキシシラ
ン、ビニルジフェニルエトキシシラン、ビニルメチルジ
エトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、Ｏ−
（ビニロキシエチル）−Ｎ−（トリエトキシシリルプロ
ピル）ウレタン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラン、
ビニルトリイソプロポキシシシラン、ビニルトリフェノ
キシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シ
ラン、ジアリルアミノプロピルメトキシシランが挙げら
れる。中でも、不飽和基の反応性が速いメタクリロイル
基、アクリロイル基を有するシランカップリング剤が好
ましい。

【０１０４】そのほかにも、特開平５−５０７７９号公
報に記載されているゾルゲルコーティング処理、特開平
５−２４６１７１号公報に記載されているホスホン酸類
のコーティング処理、特開平６−２３４２８４号公報、
特開平６−１９１１７３号公報および特開平６−２３０
５６３号公報に記載されているバックコート用素材をコ
ーティングにより処理する方法、特開平６−２６２８７
２号公報に記載されているホスホン酸類の処理、特開平
６−２９７８７５号公報に記載されているコーティング
処理、特開平１０−１０９４８０号公報に記載されてい
る陽極酸化処理する方法、特願平１０−２５２０７８号
明細書（特開２０００−８１７０４号公報）および特願
平１０−２５３４１１号明細書（特開２０００−８９４
６６号公報）に記載されている浸せき処理方法等が挙げ
られ、いずれの方法を用いてもよい。

【０１０５】＜親水性表面処理＞本発明においては、上
述したようにして親水性皮膜を設けて得られた本発明の
平版印刷版用支持体を、更に１種以上の親水性化合物を
含有する水溶液へ浸せきすることにより、親水性表面処
理を行ってもよい。親水性化合物としては、例えば、ポ
リビニルホスホン酸、スルホン酸基を有する化合物、糖
類化合物、ケイ酸塩化合物が好適に挙げられる。

【０１０６】スルホン酸基を有する化合物には、芳香族
スルホン酸、そのホルムアルデヒド縮合物、それらの誘
導体、およびそれらの塩が含まれる。芳香族スルホン酸
としては、例えば、フェノールスルホン酸、カテコール
スルホン酸、レゾルシノールスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、トルエンスルホン酸、リグニンスルホン酸、ナ
フタレンスルホン酸、アセナフテン−５−スルホン酸、
フェナントレン−２−スルホン酸、ベンズアルデヒド−
２（または３）−スルホン酸、ベンズアルデヒド−２，
４（または３，５）−ジスルホン酸、オキシベンジルス
ルホン酸類、スルホ安息香酸、スルファニル酸、ナフチ
オン酸、タウリンが挙げられる。中でも、ベンゼンスル
ホン酸、ナフタレンスルホン酸、リグニンスルホン酸が
好ましい。また、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸、リグニンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物
も好ましい。更に、これらは、スルホン酸塩として使用
してもよい。例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチ
ウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩が挙げられる。
中でも、ナトリウム塩、カリウム塩が好ましい。スルホ
ン酸基を有する化合物を含有する水溶液のｐＨは、４〜
６．５であるのが好ましく、硫酸、水酸化ナトリウム、
アンモニア等を用いて上記ｐＨ範囲に調整することがで
きる。

【０１０７】糖類化合物には、単糖類およびその糖アル
コール、オリゴ糖類、多糖類、ならびに、配糖体が含ま
れる。単糖類およびその糖アルコールとしては、例え
ば、グリセロール等のトリオース類およびその糖アルコ
ール類；トレオース、エリトリトール等のテトロースお
よびその糖アルコール類；アラビノース、アラビトール
等のペントースおよびその糖アルコール類；グルコー
ス、ソルビトール等のヘキソースおよびその糖アルコー
ル類；Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプトース、Ｄ−グ
リセロ−Ｄ−ガラクトヘプチトール等のヘプトースおよ
びその糖アルコール類；Ｄ−エリトロ−Ｄ−ガラクトオ
クチトール等のオクトースおよびその糖アルコール類；
Ｄ−エリトロ−Ｌ−グルコ−ノヌロース等のノノースお
よびその糖アルコール類が挙げられる。オリゴ糖類とし
ては、例えば、サッカロース、トレハロース、ラクトー
ス等の二糖類；ラフィノース等の三糖類が挙げられる。
多糖類としては、例えば、アミロース、アラビナン、シ
クロデキストリン、アルギン酸セルロースが挙げられ
る。

【０１０８】本発明において、「配糖体」とは、糖部分
と非糖部分がエーテル結合等を介して結合している化合
物をいう。配糖体は非糖部分により分類することができ
る。例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、クマ
リン配糖体、オキシクマリン配糖体、フラボノイド配糖
体、アントラキノン配糖体、トリテルペン配糖体、ステ
ロイド配糖体、からし油配糖体が挙げられる。糖部分と
しては、上述した単糖類およびその糖アルコール；オリ
ゴ糖類；多糖類が挙げられる。中でも、単糖類、オリゴ
糖類が好ましく、単糖類、二糖類がより好ましい。好ま
しい配糖体の例として、下記式（Ｉ）で表される化合物
が挙げられる。

【０１０９】

【化１】

【０１１０】上記式（Ｉ）中、Ｒは、炭素原子数１〜２
０の直鎖のまたは分枝を有する、アルキル基、アルケニ
ル基またはアルキニル基を表す。炭素原子数１〜２０の
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基、エイコシル基が挙げられ、こ
れらは直鎖であっても、分枝を有していてもよく、ま
た、環状アルキル基であってもよい。炭素原子数１〜２
０のアルケニル基としては、例えば、アリル基、２−ブ
テニル基が挙げられ、これらは直鎖であっても、分枝を
有していてもよく、また、環状アルケニル基であっても
よい。炭素原子数１〜２０のアルキニル基としては、例
えば、１−ペンチニル基が挙げられ、これらは直鎖であ
っても、分枝を有していてもよく、また、環状アルキニ
ル基であってもよい。

【０１１１】上記式（Ｉ）で表される具体的な化合物と
しては、例えば、メチルグルコシド、エチルグルコシ
ド、プロピルグルコシド、イソプロピルグルコシド、ブ
チルグルコシド、イソブチルグルコシド、ｎ−ヘキシル
グルコシド、オクチルグルコシド、カプリルグルコシ
ド、デシルグルコシド、２−エチルヘキシルグルコシ
ド、２−ペンチルノニルグルコシド、２−ヘキシルデシ
ルグルコシド、ラウリルグルコシド、ミリスチルグルコ
シド、ステアリルグルコシド、シクロヘキシルグルコシ
ド、２−ブチニルグルコシドが挙げられる。これらの化
合物は、配糖体の一種であるグルコシドで、ブドウ糖の
ヘミアセタールヒドロキシル基が他の化合物をエーテル
状に結合したものであり、例えば、グルコースとアルコ
ール類とを反応させる公知の方法により得ることができ
る。これらのアルキルグルコシドの一部は、ドイツＨｅ
ｎｋｅｌ社により商品名グルコポン（ＧＬＵＣＯＰＯ
Ｎ）として市販されており、本発明ではそれを用いるこ
とができる。

【０１１２】好ましい配糖体の別の例としては、サポニ
ン類、ルチントリハイドレート、ヘスペリジンメチルカ
ルコン、ヘスペリジン、ナリジンハイドレート、フェノ
ール−β−Ｄ−グルコピラノシド、サリシン、３´，
５，７−メトキシ−７−ルチノシドが挙げられる。

【０１１３】糖類化合物を含有する水溶液のｐＨは、８
〜１１であるのが好ましく、水酸化カリウム、硫酸、炭
酸、炭酸ナトリウム、リン酸、リン酸ナトリウム等を用
いて上記ｐＨ範囲に調整することができる。

【０１１４】ポリビニルホスホン酸の水溶液は、濃度が
０．１〜５質量％であるのが好ましく、０．２〜２．５
％であるのがより好ましい。浸せき温度は１０〜７０℃
であるのが好ましく、３０〜６０℃であるのがより好ま
しい。浸せき時間は１〜２０秒であるのが好ましい。ま
た、スルホン酸基を有する化合物の水溶液は、濃度が
０．０２〜０．２質量％であるのが好ましい。浸せき温
度は６０〜１００℃であるのが好ましい。浸せき時間は
１〜３００秒であるのが好ましく、１０〜１００秒であ
るのがより好ましい。更に、糖類化合物の水溶液は、濃
度が０．５〜１０質量％であるのが好ましい。浸せき温
度は４０〜７０℃であるのが好ましい。浸せき時間は２
〜３００秒であるのが好ましく、５〜３０秒であるのが
より好ましい。

【０１１５】本発明では、親水性化合物を含有する水溶
液として、上述したような有機化合物の水溶液のほか
に、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液、フッ化ジルコニウム
カリウム（Ｋ₂ ＺｒＦ₆ ）水溶液、リン酸塩／無機フッ
素化合物を含む水溶液等の無機化合物水溶液も好適に用
いられる。

【０１１６】アルカリ金属ケイ酸塩水溶液処理は、好ま
しくは濃度が０．０１〜３０質量％、より好ましくは
０．１〜１０質量％であり、２５℃でのｐＨが好ましく
は１０〜１３であるアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に、
支持体を、好ましくは３０〜１００℃、より好ましくは
５０〜９０℃で、好ましくは０．５〜４０秒間、より好
ましくは１〜２０秒間浸せきすることにより行う。

【０１１７】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
は、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ
酸リチウムが挙げられる。中でも、ケイ酸ナトリウム、
ケイ酸カリウムが好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩の水
溶液は、ｐＨを高くするために、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム等の水酸化物を適当量含
有してもよい。中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが好ましい。また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液
は、アルカリ土類金属塩または４族（第ＩＶＢ族）金属
塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例
えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグ
ネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩；硫酸塩；塩酸塩；
リン酸塩；酢酸塩；シュウ酸塩；ホウ酸塩等の水溶性塩
が挙げられる。４族（第ＩＶＢ族）金属塩としては、例
えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリ
ウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化
チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、
オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げら
れる。これらのアルカリ土類金属塩および４族（第ＩＶ
Ｂ族）金属塩は、単独でまたは２種以上組み合わせて用
いられる。

【０１１８】フッ化ジルコニウムカリウム水溶液処理
は、好ましくは濃度が０．１〜１０質量％、より好まし
くは０．５〜２質量％のフッ化ジルコニウムカリウムの
水溶液に、支持体を、好ましくは３０〜８０℃で、好ま
しくは６０〜１８０秒間浸せきすることにより行う。

【０１１９】リン酸塩／無機フッ素化合物処理は、好ま
しくはリン酸塩化合物濃度が５〜２０質量％、無機フッ
素化合物濃度が０．０１〜１質量％であり、好ましくは
ｐＨが３〜５の水溶液に、支持体を、好ましくは２０〜
１００℃、より好ましくは４０〜８０℃で、好ましくは
２〜３００秒間、より好ましくは５〜３０秒間浸せきす
ることにより行う。

【０１２０】本発明に用いられるリン酸塩としては、例
えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン
酸塩が挙げられる。具体的には、例えば、リン酸亜鉛、
リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素
二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一
アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウ
ム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リ
ン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、
リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸
第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン
酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リ
ン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸
リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸ア
ンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリ
ブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム；
亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロ
リン酸ナトリウムが挙げられる。中でも、リン酸二水素
ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カ
リウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。

【０１２１】また、本発明に用いられる無機フッ素化合
物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。具体的
には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フ
ッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、ヘキサフルオロ
ジルコニウムナトリウム、ヘキサフルオロジルコニウム
カリウム、ヘキサフルオロチタン酸ナトリウム、ヘキサ
フルオロチタン酸カリウム、ヘキサフルオロジルコニウ
ム水素酸、ヘキサフルオロチタン水素酸、ヘキサフルオ
ロジルコニウムアンモニウム、ヘキサフルオロチタン酸
アンモニウム、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケ
ル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウ
ムが挙げられる。

【０１２２】リン酸塩／無機フッ素化合物処理に用いら
れる水溶液は、リン酸塩および無機フッ素化合物をそれ
ぞれ１種または２種以上含有することができる。

【０１２３】支持体は、これらの親水性化合物を含有す
る水溶液へ浸せきした後には、水等によって洗浄され、
乾燥される。

【０１２４】上述した親水性表面処理により、陽極酸化
処理後のポアワイド処理により向上した感度（ネガタイ
プの感光層の場合は耐刷性の向上）と引き替えに発生す
るインキ払い性劣化等の印刷汚れの問題が解消される。
即ち、ポア径が拡大したことにより、印刷時、特に印刷
機が停止し、平版印刷版が印刷機上で放置された後の印
刷再スタート時に、インキが取れにくくなる現象（イン
キ払い性劣化）が起こりやすくなる問題があるが、親水
性表面処理が施されていると、上記問題が軽減される。

【０１２５】＜下塗層＞本発明においては、このように
して得られた本発明の平版印刷版用支持体上に、赤外線
レーザー露光により書き込み可能な記録層を設ける前
に、必要に応じて、例えば、ホウ酸亜鉛等の水溶性金属
塩のような無機下塗層や、有機下塗層を設けてもよい。

【０１２６】有機下塗層に用いられる有機化合物として
は、例えば、カルボキシメチルセルロース；デキストリ
ン；アラビアガム；スルホン酸基を側鎖に有する重合体
および共重合体；ポリアクリル酸；２−アミノエチルホ
スホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類；置換基を
有していてもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホ
ン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチ
レンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸等の有機ホス
ホン酸；置換基を有していてもよいフェニルリン酸、ナ
フチルリン酸、アルキルリン酸、グリセロリン酸等の有
機リン酸；置換基を有していてもよいフェニルホスフィ
ン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸、
グリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸；グリシ
ン、β−アラニン等のアミノ酸類；トリエタノールアミ
ンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸
塩；黄色染料が挙げられる。これらは単独で用いてもよ
く、２種以上を混合して用いてもよい。

【０１２７】有機下塗層は、水もしくはメタノール、エ
タノール、メチルエチルケトン等の有機溶媒、またはそ
れらの混合溶剤に、上記有機化合物を溶解させた溶液を
アルミニウム板上に塗布し乾燥することにより設けられ
る。上記有機化合物を溶解させた溶液の濃度は、０．０
０５〜１０質量％であるのが好ましい。塗布の方法は、
特に限定されず、バーコーター塗布、回転塗布、スプレ
ー塗布、カーテン塗布等のいずれの方法も用いることが
できる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２００ｍ
ｇ／ｍ² であるのが好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ² で
あるのがより好ましい。上記範囲であると、耐刷性がよ
り良好になる。

【０１２８】＜バックコート層＞上述したようにして得
られる支持体には、平版印刷版原版としたときに、重ね
ても記録層が傷付かないように、裏面（記録層が設けら
れない側の面）に、有機高分子化合物からなる被覆層
（以下「バックコート層」ともいう。）を必要に応じて
設けてもよい。バックコート層の主成分としては、ガラ
ス転移点が２０℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂および
塩化ビニリデン共重合樹脂からなる群から選ばれる少な
くとも１種の樹脂を用いるのが好ましい。

【０１２９】飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボ
ン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボ
ン酸ユニットとしては、例えば、フタル酸、テレフタル
酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロ
ルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸；アジピン酸、アゼ
ライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン
酸、マロン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等
の飽和脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。

【０１３０】バックコート層は、更に、着色のための染
料や顔料、支持体との密着性を向上させるためのシラン
カップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、
有機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー、滑
り剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級
脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン
化合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等
を適宜含有することができる。

【０１３１】バックコート層の厚さは、基本的には合紙
がなくても、後述する記録層を傷付けにくい程度であれ
ばよく、０．０１〜８μｍであるのが好ましい。厚さが
０．０１μｍ未満であると、平版印刷版原版を重ねて取
り扱った場合の記録層の擦れ傷を防ぐことが困難であ
る。また、厚さが８μｍを超えると、印刷中、平版印刷
版周辺で用いられる薬品によってバックコート層が膨潤
して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を劣化させ
ることがある。

【０１３２】バックコート層を支持体の裏面に設ける方
法としては、種々の方法を用いることができる。例え
ば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解し溶
液にして塗布し、または、乳化分散液して塗布し、乾燥
する方法；あらかじめフィルム状に成形したものを接着
剤や熱での支持体に貼り合わせる方法；溶融押出機で溶
融被膜を形成し、支持体に貼り合わせる方法が挙げられ
る。好適な厚さを確保するうえで最も好ましいのは、バ
ックコート層用成分を適当な溶媒に溶解し溶液にして塗
布し、乾燥する方法である。この方法においては、特開
昭６２−２５１７３９号公報に記載されているような有
機溶剤を単独でまたは混合して、溶媒として用いること
ができる。

【０１３３】平版印刷版原版の製造においては、裏面の
バックコート層と表面の記録層のどちらを先に支持体上
に設けてもよく、また、両者を同時に設けてもよい。

【０１３４】［平版印刷版原版］本発明の平版印刷版原
版は、このようにして得られる本発明の平版印刷版用支
持体上に、赤外線レーザー露光により書き込み可能な記
録層を設けることにより得られる。 ＜記録層＞本発明の平版印刷版原版においては、記録層
が、（ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、ま
たは、（ｂ）熱反応性官能基を有する化合物を内包する
マイクロカプセルを含有する感熱層であるのが好まし
い。この感熱層を用いると、機上現像タイプの平版印刷
版原版とすることができる。

【０１３５】上記（ａ）および（ｂ）に共通の熱反応性
官能基としては、例えば、重合反応を行うエチレン性不
飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、
ビニル基、アリル基）、付加反応を行うイソシアネート
基またはそのブロック体、その反応相手である活性水素
原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基）、同じく付加反応を行うエポキシ
基、その反応相手であるアミノ基、カルボキシル基また
はヒドロキシル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒ
ドロキシル基またはアミノ基、開環付加反応を行う酸無
水物とアミノ基またはヒドロキシル基が挙げられる。本
発明に用いられる熱反応性官能基は、これらに限定され
ず、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行
う官能基でもよい。

【０１３６】（ａ）微粒子ポリマーに好適な熱反応性官
能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリルロ
イル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、アミノ基、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシアネート基、
酸無水物基およびそれらを保護した基が挙げられる。熱
反応性官能基のポリマー粒子への導入は、ポリマーの重
合時に行ってもよいし、重合後に高分子反応を利用して
行ってもよい。

【０１３７】熱反応性官能基をポリマーの重合時に導入
する場合は、熱反応性官能基を有するモノマーを用いて
乳化重合または懸濁重合を行うのが好ましい。熱反応性
官能基を有するモノマーの具体例としては、アリルメタ
クリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレー
ト、ビニルアクリレート、グリシジルメタクリレート、
グリシジルアクリレート、２−イソシアネートエチルメ
タクリレート、そのアルコールなどによるブロックイソ
シアネート、２−イソシアネートエチルアクリレート、
そのアルコールなどによるブロックイソシアネート、２
−アミノエチルメタクリレート、２−アミノエチルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、無水マレイン酸、二官能アクリレート、二官能メ
タクリレートが挙げられる。本発明に用いられる熱反応
性官能基を有するモノマーは、これらに限定されない。
これらのモノマーと共重合可能な、熱反応性官能基を有
しないモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキル
アクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニト
リル、酢酸ビニルが挙げられる。本発明に用いられる熱
反応性官能基を有しないモノマーは、これらに限定され
ない。

【０１３８】熱反応性官能基をポリマーの重合後に導入
する場合に用いられる高分子反応としては、例えば、国
際公開第９６／３４３１６号パンフレットに記載されて
いる高分子反応が挙げられる。

【０１３９】上記（ａ）微粒子ポリマーの中でも、微粒
子ポリマー同士が熱により合体するものが好ましく、そ
の表面が親水性で水に分散するものがより好ましい。ま
た、微粒子ポリマーのみを塗布し、凝固温度よりも低い
温度で乾燥して作製したときの皮膜の空中水滴での接触
角が、凝固温度よりも高い温度で乾燥して作製したとき
の皮膜の空中水滴での接触角よりも低くなることが好ま
しい。このように微粒子ポリマーの表面を親水性にする
には、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール
等の親水性ポリマーもしくはオリゴマー、または親水性
低分子化合物を微粒子ポリマーの表面に吸着させればよ
いが、これらに限定されるものではない。

【０１４０】（ａ）微粒子ポリマーの凝固温度は、７０
℃以上であるのが好ましいが、経時安定性を考えると１
００℃以上であるのがより好ましい。 （ａ）微粒子ポリマーの平均粒径は、０．０１〜２０μ
ｍであるのが好ましいが、その中でも０．０５〜２．０
μｍであるのがより好ましく、０．１〜１．０μｍであ
るのが好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定
性が得られる。 （ａ）微粒子ポリマーの添加量は、感熱層固形分の５０
質量％以上が好ましく、６０質量％以上が更に好まし
い。

【０１４１】（ｂ）マイクロカプセルに好適な熱反応性
官能基としては、例えば、重合性不飽和基、ヒドロキシ
ル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、酸無水物
基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソシ
アネートブロック体が挙げられる。

【０１４２】重合性不飽和基を有する化合物としては、
エチレン性不飽和結合、例えば、アクリロイル基、メタ
クリロイル基、ビニル基、アリル基を少なくとも１個、
好ましくは２個以上有する化合物であるのが好ましい。
そのような化合物群は当該産業分野において広く知られ
るものであり、本発明においては、これらを特に限定さ
れずに用いることができる。これらは、化学的形態とし
ては、モノマー、プレポリマー、即ち、二量体、三量体
およびオリゴマー、またはそれらの混合物、およびそれ
らの共重合体である。

【０１４３】具体的には、例えば、不飽和カルボン酸
（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、ク
ロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸）、そのエステ
ル、不飽和カルボン酸アミドが挙げられる。中でも、不
飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステルお
よび不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミンとのアミドが
好ましい。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプ
ト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステ
ルまたは不飽和カルボン酸アミドと単官能もしくは多官
能のイソシアネートまたはエポキシドとの付加反応物、
および、単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮
合反応物等も好適に用いられる。また、イソシアネート
基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カル
ボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多官能
のアルコール、アミンまたはチオールとの付加反応物、
および、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基
を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミドと、単
官能もしくは多官能アルコール、アミンまたはチオール
との置換反応物も好適である。また、別の好適な例とし
て、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸また
はクロロメチルスチレンに置き換えた化合物が挙げられ
る。

【０１４４】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
とのエステルである重合性化合物のうち、アクリル酸エ
ステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，
３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リス（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イ
ソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー
が挙げられる。

【０１４５】メタクリル酸エステルとしては、例えば、
テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメ
タクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブ
タンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−
（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタク
リロイルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタンが
挙げられる。

【０１４６】イタコン酸エステルとしては、例えば、エ
チレングリコールジイタコネート、プロピレングリコー
ルジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネ
ート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラ
メチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリト
ールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート
が挙げられる。

【０１４７】クロトン酸エステルとしては、例えば、エ
チレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリ
コールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロト
ネート、ソルビトールテトラジクロトネートが挙げられ
る。イソクロトン酸エステルとしては、例えば、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネートが挙げられる。マレイン酸エステルとしては、例
えば、エチレングリコールジマレート、トリエチレング
リコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレー
ト、ソルビトールテトラマレートが挙げられる。

【０１４８】その他のエステルとしては、例えば、特公
昭４６−２７９２６号公報、同５１−４７３３４号公
報、同５７−１９６２３１号公報に記載されている脂肪
族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号
公報、同５９−５２４１号公報、特開平２−２２６１４
９号公報に記載されている芳香族系骨格を有するもの、
特開平１−１６５６１３号公報に記載されているアミノ
基を含有するものが挙げられる。

【０１４９】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ドが挙げられる。その他の好ましいアミド系モノマーと
しては、例えば、特公昭５４−２１７２６号公報に記載
されているシクロへキシレン構造を有するものが挙げら
れる。

【０１５０】また、イソシアネートとヒドロキシル基の
付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合
物も好適であり、具体的には、例えば、特公昭４８−４
１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上の
イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物
に、下記式（ＩＩ）で示されるヒドロキシル基を有する
不飽和モノマーを付加させて得られる、１分子中に２個
以上の重合性不飽和基を含有するウレタン化合物が挙げ
られる。

【０１５１】 ＣＨ₂ ＝Ｃ（Ｒ¹ ）ＣＯＯＣＨ₂ ＣＨ（Ｒ² ）ＯＨ （ＩＩ） （ただし、Ｒ¹ およびＲ² は、それぞれＨまたはＣＨ₃
を表す。）

【０１５２】また、特開昭５１−３７１９３号公報、特
公平２−３２２９３号公報、同２−１６７６５号公報に
記載されているようなウレタンアクリレートや、特公昭
５８−４９８６０号公報、同５６−１７６５４号公報、
同６２−３９４１７号公報、同６２−３９４１８号公報
に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウ
レタン化合物も好適なものとして挙げられる。

【０１５３】更に、特開昭６３−２７７６５３号公報、
同６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８
号公報に記載されている、分子内にアミノ構造やスルフ
ィド構造を有するラジカル重合性化合物も好適なものと
して挙げられる。

【０１５４】その他の好適なものの例としては、特開昭
４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公
報、同５２−３０４９０号公報に記載されているような
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）
アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多
官能のアクリレートやメタクリレートが挙げられる。ま
た、特公昭４６−４３９４６号公報、特公平１−４０３
３７号公報、同１−４０３３６号公報に記載されている
特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報に
記載されているビニルホスホン酸系化合物等も好適なも
のとして挙げられる。また、ある場合には、特開昭６１
−２２０４８号公報に記載されているペルフルオロアル
キル基を含有する化合物も好適に挙げられる。更に、日
本接着協会誌、２０巻７号、ｐ．３００〜３０８（１９
８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹
介されているものも好適に例示される。

【０１５５】好適なエポキシ化合物としては、例えば、
グリセリンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリ
コールジグリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジル
エーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビス
フェノール類もしくはポリフェノール類またはそれらの
水素添加物のポリグリシジルエーテルが挙げられる。

【０１５６】好適なイソシアネート化合物としては、例
えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジ
イソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジ
イソシアネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、
または、それらをアルコールもしくはアミンでブロック
した化合物が挙げられる。

【０１５７】好適なアミン化合物としては、例えば、エ
チレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレン
テトラミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジア
ミン、ポリエチレンイミンが挙げられる。

【０１５８】好適なヒドロキシル基を有する化合物とし
ては、例えば、末端メチロール基を有する化合物、ペン
タエリスリトール等の多価アルコール、ビスフェノール
・ポリフェノール類が挙げられる。好適なカルボキシル
基を有する化合物としては、例えば、ピロメリット酸、
トリメリット酸、フタル酸等の芳香族多価カルボン酸、
アジピン酸等の脂肪族多価カルボン酸が挙げられる。好
適な酸無水物としては、例えば、ピロメリット酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物が挙げられ
る。

【０１５９】エチレン状不飽和化合物の共重合体の好適
なものとしては、例えば、アリルメタクリレートの共重
合体が挙げられる。具体的には、例えば、アリルメタク
リレート／メタクリル酸共重合体、アリルメタクリレー
ト／エチルメタクリレート共重合体、アリルメタクリレ
ート／ブチルメタクリレート共重合体が挙げられる。

【０１６０】マイクロカプセル化する方法としては、公
知の方法が適用できる。例えば、マイクロカプセルの製
造方法としては、米国特許第２，８００，４５７号明細
書、同第２，８００，４５８号明細書に記載されている
コアセルベーションを利用した方法、英国特許第９９，
０４４３号明細書、米国特許第３，２８７，１５４号明
細書、特公昭３８−１９５７４号公報、同４２−４４６
号公報、同４２−７１１号公報に記載されている界面重
合法による方法、米国特許第３，４１８，２５０号明細
書、同第３，６６０，３０４号明細書に記載されている
ポリマーの析出による方法、米国特許第３，７９６，６
６９号明細書に記載されているイソシアネートポリオー
ル壁材料を用いる方法、米国特許第３，９１４，５１１
号明細書に記載されているイソシアネート壁材料を用い
る方法、米国特許第４，００１，１４０号明細書、同第
４，０８７，３７６号明細書、同第４，０８９，８０２
号明細書に記載されている尿素−ホルムアルデヒド系ま
たは尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材
料を用いる方法、米国特許第４，０２５，４４５号明細
書に記載されているメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、
ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭３
６−９１６３号公報、同５１−９０７９号公報に記載さ
れているモノマー重合によるｉｎ ｓｉｔｕ法、英国特
許第９３０，４２２号明細書、米国特許第３，１１１，
４０７号明細書に記載されているスプレードライング
法、英国特許第９５２，８０７号明細書、同第９６７，
０７４号明細書に記載されている電解分散冷却法が挙げ
られるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１６１】（ｂ）マイクロカプセルに好適に用いられ
るマイクロカプセル壁は、三次元架橋を有し、溶剤によ
って膨潤する性質を有するものである。このような観点
から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウ
レタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミ
ド、またはこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレ
アおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプ
セル壁に熱反応性官能基を有する化合物を導入してもよ
い。

【０１６２】（ｂ）マイクロカプセルの平均粒径は、
０．０１〜２０μｍであるのが好ましく、０．０５〜
２．０μｍであるのがより好ましく、０．１０〜１．０
μｍであるのが特に好ましい。上記範囲内であると、良
好な解像度と経時安定性が得られる。

【０１６３】（ｂ）マイクロカプセルは、カプセル同士
が熱により合体してもよいし、合体しなくてもよい。要
は、マイクロカプセル内包物のうち、塗布時にカプセル
表面もしくはマイクロカプセル外に滲み出したもの、ま
たは、マイクロカプセル壁に浸入したものが、熱により
化学反応を起こせばよい。添加された親水性樹脂、また
は、添加された低分子化合物と反応してもよい。また、
２種以上のマイクロカプセルに、それぞれ異なる官能基
で互いに熱反応するような官能基をもたせることによっ
て、マイクロカプセル同士を反応させてもよい。したが
って、熱によってマイクロカプセル同士が、熱で溶融合
体することは画像形成上好ましいことであるが、必須で
はない。

【０１６４】（ｂ）マイクロカプセルの感熱層への添加
量は、固形分換算で、１０〜６０質量％であるのが好ま
しく、１５〜４０質量％であるのがより好ましい。上記
範囲であると、良好な機上現像性と同時に、良好な感度
および耐刷性が得られる。

【０１６５】（ｂ）マイクロカプセルを感熱層に添加す
る場合、内包物が溶解し、かつ、壁材が膨潤する溶剤を
マイクロカプセル分散媒中に添加することができる。こ
のような溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有
する化合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進され
る。このような溶剤は、マイクロカプセル分散媒、マイ
クロカプセル壁の材質、壁厚および内包物に依存する
が、多くの市販されている溶剤から容易に選択すること
ができる。例えば、架橋ポリウレア、ポリウレタン壁か
らなる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール
類、エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン
類、多価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類
等が好ましい。

【０１６６】具体的には、例えば、メタノール、エタノ
ール、第三ブタノール、ｎ−プロパノール、テトラヒド
ロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルエチルケト
ン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが挙
げられるが、本発明はこれらに限定されない。また、こ
れらの溶剤を２種以上併用してもよい。

【０１６７】マイクロカプセル分散液には溶解しない
が、上記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることが
できる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるもの
であるが、通常、塗布液の５〜９５質量％であるのが好
ましく、１０〜９０質量％であるのがより好ましく、１
５〜８５質量％であるのが特に好ましい。

【０１６８】記録層として、上述した（ａ）熱反応性官
能基を有する微粒子ポリマー、または、（ｂ）熱反応性
官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルを含
有する感熱層を用いる場合には、必要に応じてこれらの
反応を開始しまたは促進する化合物を添加してもよい。
反応を開始しまたは促進する化合物としては、例えば、
熱によりラジカルまたはカチオンを発生するような化合
物が挙げられる。具体的には、例えば、ロフィンダイマ
ー、トリハロメチル化合物、過酸化物、アゾ化合物、ジ
アゾニウム塩またはジフェニルヨードニウム塩などを含
んだオニウム塩、アシルホスフィン、イミドスルホナー
トが挙げられる。これらの化合物は、感熱層固形分の１
〜２０質量％の範囲で添加するのが好ましく、３〜１０
質量％の範囲であるのがより好ましい。上記範囲内であ
ると、機上現像性を損なわず、良好な反応開始効果また
は反応促進効果が得られる。

【０１６９】感熱層には親水性樹脂を添加してもよい。
親水性樹脂を添加することにより機上現像性が良好とな
るばかりか、感熱層自体の皮膜強度も向上する。親水性
樹脂としては、ヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキ
シエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチ
ル、アミノプロピル、カルボキシメチル等の親水基を有
するものが好ましい。

【０１７０】親水性樹脂の具体例としては、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチ
ルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセ
テート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン
酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、
ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸
類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルア
クリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキ
シプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー
およびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアク
リレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレ
ングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポ
リビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくと
も６０質量％、好ましくは少なくとも８０質量％の加水
分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリル
アミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルア
ミドのホモポリマーおよびポリマー、Ｎ−メチロールア
クリルアミドのホモポリマーおよびコポリマーが挙げら
れる。

【０１７１】親水性樹脂の感熱層への添加量は、感熱層
固形分の５〜４０質量％であるのが好ましく、１０〜３
０質量％であるのがより好ましい。上記範囲内である
と、良好な機上現像性と皮膜強度が得られる。

【０１７２】感熱層には、感度を向上させるため、赤外
線を吸収して発熱する光熱変換剤を含有させることがで
きる。かかる光熱変換剤は、７００〜１２００ｎｍの少
なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよ
く、種々の顔料、染料および金属微粒子を用いることが
できる。

【０１７３】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ
顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニ
ン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリ
ノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キ
ノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニ
トロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔
料、カーボンブラックが挙げられる。

【０１７４】顔料は表面処理を施さずに用いてもよく、
表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法として
は、例えば、親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする
方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例え
ば、シリカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤
やエポキシ化合物、イソシアネート化合物）を顔料表面
に結合させる方法が挙げられる。上記表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）および「最新顔料応
用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されてい
る。これらの顔料中、赤外線を吸収するものが、赤外線
を発光するレーザでの利用に適する点で好ましい。かか
る赤外線を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好
ましい。顔料の粒径は０. ０１〜１μｍの範囲にあるの
が好ましく、０．０１〜０．５μｍの範囲にあるのがよ
り好ましい。

【０１７５】染料としては、市販の染料および、文献
（例えば、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和
４５年刊）、「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜
５１の「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開
発と市場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシ
ー）または特許に記載されている公知の染料が利用でき
る。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾ
ロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン
染料、シアニン染料等の赤外線吸収染料が好ましい。

【０１７６】更に、例えば、特開昭５８−１２５２４６
号公報、同５９−８４３５６号公報、同６０−７８７８
７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１
７３６９６号公報、同５８−１８１６９０号公報、同５
８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特
開昭５８−１１２７９３号公報、同５８−２２４７９３
号公報、同５９−４８１８７号公報、同５９−７３９９
６号公報、同６０−５２９４０号公報、同６０−６３７
４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５
８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム
染料、英国特許第４３４，８７５号明細書に記載されて
いるシアニン染料、米国特許第４，７５６，９９３号明
細書に記載されている染料、米国特許第４，９７３，５
７２号明細書に記載されているシアニン染料、特開平１
０−２６８５１２号公報に記載されている染料、同１１
−２３５８８３号公報に記載されているフタロシアニン
化合物が挙げられる。

【０１７７】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号明細書に記載されている近赤外吸収増感剤も好
適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号
明細書に記載されている置換されたアリールベンゾ（チ
オ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号に記載
されているトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−
１８１０５１号公報、同５８−２２０１４３号公報、同
５９−４１３６３号公報、同５９−８４２４８号公報、
同５９−８４２４９号公報、同５９−１４６０６３号公
報、同５９−１４６０６１号公報に記載されているピリ
リウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報に記
載されているシアニン染料、米国特許第４，２８３，４
７５号明細書に記載されているペンタメチンチオピリリ
ウム塩等や特公平５−１３５１４号公報、同５−１９７
０２号公報に記載されているピリリウム化合物、エポリ
ン社製のエポライトＩＩＩ−１７８、エポライトＩＩＩ
−１３０、エポライトＩＩＩ−１２５等も好適に用いら
れる。以下にいくつかの具体例を示す。

【０１７８】

【化２】

【０１７９】

【化３】

【０１８０】光熱変換剤をポリマー微粒子やマイクロカ
プセル内など親油性物質に添加して用いる場合は、前記
の赤外線吸収顔料または染料でも良いが、より親油性の
ものが好ましい。好適なものとして以下に例示する染料
を挙げることができる。

【０１８１】

【化４】

【０１８２】

【化５】

【０１８３】上記の有機系の光熱変換剤は、感熱層中に
３０質量％までの範囲で添加するのが好ましい。より好
ましくは５〜２５質量％であり、特に好ましくは７〜２
０質量％である。上記範囲内であると、良好な感度が得
られる。

【０１８４】感熱層には、光熱変換剤として金属微粒子
も用いることができる。金属微粒子の多くは光熱変換性
であって、かつ自己発熱性である。好ましい金属微粒子
として、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｗ、Ｔｅ、
Ｐｂ、Ｇｅ、Ｒｅ、Ｓｂの単体もしくは合金、または、
それらの酸化物もしくは硫化物の微粒子が挙げられる。
これらの金属微粒子を構成する金属の中でも好ましい金
属は、光照射時に熱による合体をしやすい、融点が約１
０００℃以下で赤外、可視または紫外線領域に吸収をも
つ金属、例えば、Ｒｅ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃ
ｕ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓｎである。また、特に好ましいの
は、融点も比較的低く、赤外線に対する吸光度も比較的
高い金属の微粒子、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｓｂ、
Ｇｅ、Ｐｂで、最も好ましい元素としては、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｃｕが挙げられる。

【０１８５】また、例えば、Ｒｅ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、
Ａｇ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓｎ等の低融点金属の微粒子
と、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｗ、Ｇｅ等の自己
発熱性金属の微粒子とを混合使用するなど、２種以上の
光熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ａｇ、Ｐ
ｔ、Ｐｄ等の、微小片としたときに光吸収が特に大きい
金属種の微小片と他の金属微小片とを組み合わせて用い
ることも好ましい。

【０１８６】これらの粒子の粒径は、１０μｍ以下であ
るのが好ましく、０．００３〜５μｍであるのがより好
ましく、０．０１〜３μｍであるのが特に好ましい。上
記範囲内であると、良好な感度と解像力が得られる。

【０１８７】本発明において、これらの金属微粒子を光
熱変換剤として用いる場合、その添加量は、感熱層固形
分の１０質量％以上であるのが好ましく、２０質量％以
上であるのがより好ましく、３０質量％以上であるのが
特に好ましい。上記範囲内であると、高い感度が得られ
る。

【０１８８】光熱変換剤は、感熱層の隣接層である下塗
層や、後述する水溶性オーバーコート層が含有してもよ
い。感熱層、下塗層およびオーバーコート層のうち少な
くとも一つの層が光熱変換剤を含有することにより、赤
外線吸収効率が高まり、感度を向上させることができ
る。

【０１８９】感熱層には、更に必要に応じて上記以外に
種々の化合物を添加してもよい。例えば、耐刷力を一層
向上させるために多官能モノマーを感熱層マトリックス
中に添加することができる。この多官能モノマーとして
は、マイクロカプセル中に入れられるモノマーとして例
示したものを用いることができる。特に好ましいモノマ
ーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート
を挙げることができる。

【０１９０】また、感熱層には、画像形成後、画像部と
非画像部との区別をつけやすくするため、可視光域に大
きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用すること
ができる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイ
ルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグ
リーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０
３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイル
ブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業社製）、
ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（Ｃ
Ｉ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３
５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５
１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、
メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、特開昭６２−２９
３２４７号公報に記載されている染料が挙げられる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタン等
の顔料も好適に用いることができる。添加量は、感熱層
塗布液全固形分に対し０．０１〜１０質量％であるのが
好ましい。

【０１９１】また、本発明においては、感熱層塗布液の
調製中または保存中においてエチレン性不飽和化合物の
不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合防止剤を
添加するのが好ましい。適当な熱重合防止剤としては、
例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ
−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブ
チルカテコール、ベンゾキノン、４，４´−チオビス
（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２´
−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン
アルミニウム塩が挙げられる。熱重合防止剤の添加量
は、全組成物の質量に対して約０．０１〜５質量％であ
るのが好ましい。

【０１９２】また必要に応じて、酸素による重合阻害を
防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級
脂肪酸やその誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程
で感熱層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸やその
誘導体の添加量は、感熱層固形分の約０．１〜約１０質
量％であるのが好ましい。

【０１９３】更に、感熱層には、必要に応じ、塗膜の柔
軟性等を付与するために可塑剤を加えることができる。
可塑剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリルが挙げられる。

【０１９４】感熱層は、必要な上記各成分を溶剤に溶か
して塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤
としては、例えば、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシ
エチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラ
クトン、トルエン、水が挙げられるが、これに限定され
るものではない。これらの溶剤は、単独でまたは混合し
て使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは１〜
５０質量％である。

【０１９５】また、塗布し乾燥した後に得られる支持体
上の感熱層塗布量（固形分）は、用途によって異なる
が、一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ² であるのが好まし
い。上記範囲より塗布量が少なくなると、見かけの感度
は大になるが、画像記録の機能を果たす感熱層の皮膜特
性は低下する。塗布する方法としては、種々の方法を用
いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布が挙げられ
る。

【０１９６】感熱層塗布液には、塗布性を向上させるた
めの界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号
公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加
することができる。添加量は、感熱層全固形分の０．０
１〜１質量％であるのが好ましく、０．０５〜０．５質
量％であるのがより好ましい。

【０１９７】本発明の平版印刷版原版においては、親油
性物質による感熱層表面の汚染防止のため、感熱層上
に、水溶性オーバーコート層を設けることができる。本
発明に使用される水溶性オーバーコート層は印刷時に容
易に除去できるものであり、水溶性の有機高分子化合物
から選ばれた樹脂を含有する。水溶性の有機高分子化合
物としては、塗布乾燥によってできた被膜がフィルム形
成能を有するものである。具体的には、ポリ酢酸ビニル
（ただし、加水分解率６５％以上のもの）；ポリアクリ
ル酸、そのアルカリ金属塩またはアミン塩；ポリアクリ
ル酸共重合体、そのアルカリ金属塩またはアミン塩；ポ
リメタクリル酸、そのアルカリ金属塩またはアミン塩；
ポリメタクリル酸共重合体、そのアルカリ金属塩または
アミン塩；ポリアクリルアミド、その共重合体；ポリヒ
ドロキシエチルアクリレート；ポリビニルピロリドン、
その共重合体；ポリビニルメチルエーテル；ビニルメチ
ルエーテル／無水マレイン酸共重合体；ポリ−２−アク
リルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、そ
のアルカリ金属塩またはアミン塩；ポリ−２−アクリル
アミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸共重合
体、そのアルカリ金属塩またはアミン塩；アラビアガ
ム；繊維素誘導体（例えば、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロー
ス）、その変性体；ホワイトデキストリン；プルラン；
酵素分解エーテル化デキストリンが例示される。また、
目的に応じて、これらを二種以上混合して用いることも
できる。

【０１９８】また、オーバーコート層には、前記の水溶
性光熱変換剤を添加してもよい。更に、オーバーコート
層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶液塗布の場
合には、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、
ポリオキシエチレンドデシルエーテル等の非イオン系界
面活性剤を添加することができる。オーバーコート層の
乾燥塗布量は、０．１〜２．０ｇ／ｍ² が好ましい。こ
の範囲内で、機上現像性を損なわず、指紋付着汚れなど
の親油性物質による感熱層表面の良好な汚染防止が可能
となる。

【０１９９】本発明の平版印刷版原版においては、記録
層として、上述した（ａ）熱反応性官能基を有する微粒
子ポリマー、または、（ｂ）熱反応性官能基を有する化
合物を内包するマイクロカプセルを含有する感熱層以外
のものを用いることもできる。例えば、ネガ型赤外線レ
ーザー記録材料を用いた感光層、ポジ型赤外線レーザー
記録材料を用いた感光層、スルホネート型赤外線レーザ
ー記録材料を用いた感光層が挙げられる。

【０２００】本発明の平板印刷版原版を赤外線レーザー
に露光可能なネガ型の平版印刷版原版、いわゆるサーマ
ルネガタイプの平版印刷版原版とする場合には、ネガ型
赤外線レーザー記録材料によって感光層を設けるのがよ
い。ネガ型赤外線レーザー記録材料としては、（Ａ）光
または熱によって分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）
酸によって架橋する架橋剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹
脂、（Ｄ）赤外線吸収剤、および（Ｅ）一般式（Ｒ³ −
Ｘ）_n −Ａｒ−（ＯＨ）_m で表される化合物（式中、Ｒ
³ は炭素数６〜３２のアルキル基またはアルケニル基を
表し、Ｘは単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＯＯまたはＣＯＮＨを表
し、Ａｒは芳香族炭化水素基、脂肪式炭化水素基または
複素環基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｍは１〜３
の整数を表す。）からなる組成物が好適に用いられる。

【０２０１】一般に、サーマルネガタイプの平版印刷版
原版は、現像後に指紋が付きやすく、画像部の強度が弱
いという欠点があるが、かかる欠点は上記組成物によっ
て感光層を形成することで解消される。

【０２０２】（Ａ）光または熱によって分解して酸を発
生する化合物としては、特願平３−１４０１０９号明細
書（特開平０４−３６５０４８号公報）に記載されてい
るイミノスルフォネート等に代表される、光分解してス
ルホン酸を発生する化合物が挙げられ、２００〜５００
ｎｍの波長の照射、または１００℃以上の加熱によって
酸を発生する化合物が挙げられる。好適な酸発生剤とし
ては、例えば、光カチオン重合開始剤、光ラジカル重合
の開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤が挙げられる。
これらの酸発生剤は、記録材料全固形分に対して、０．
０１〜５０質量％添加されるのが好ましい。

【０２０３】（Ｂ）酸によって架橋する架橋剤として
は、例えば、（ｉ）アルコキシメチル基またはヒドロキ
シル基で置換された芳香族化合物、（ｉｉ）Ｎ−ヒドロ
キシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基またはＮ−アシ
ルオキシメチル基を有する化合物、（ｉｉｉ）エポキシ
化合物が好適に挙げられる。

【０２０４】（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としては、例え
ば、ノボラック樹脂や、側鎖にヒドロキシアリール基を
有するポリマーが挙げられる。

【０２０５】（Ｄ）赤外線吸収剤からなる組成物として
は、例えば、７６０〜１２００ｎｍの赤外線を有効に吸
収するアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン
染料等の市販染料；カラーインデックスに記載されてい
る黒色顔料、赤色顔料、金属粉顔料、フタロシアニン系
顔料が挙げられる。また、画像の見やすさを向上させる
ためにオイルイエロー、オイルブルー＃６０３等の画像
着色剤を添加するのが好ましい。また、感光層塗膜の柔
軟性改善のため、ポリエチレングリコールやフタル酸エ
ステルのような可塑剤を添加することができる。

【０２０６】また、本発明の平板印刷版原版を赤外線レ
ーザーに露光可能なポジ型の平版印刷版原版、いわゆる
サーマルポジタイプの平版印刷版原版とする場合には、
ポジ型赤外線レーザー記録材料によって感光層を設ける
のがよい。ポジ型赤外線レーザー記録材料としては、
（Ａ）アルカリ可溶性高分子、（Ｂ）該アルカリ可溶性
高分子と相溶してアルカリ溶解性を低下させる化合物、
および（Ｃ）赤外レーザーを吸収する化合物からなるポ
ジ型赤外線レーザー記録材料が好適に用いられる。この
ポジ型赤外線レーザー記録材料を用いると、非画像部の
アルカリ現像液に対する溶解性不足を解消でき、また、
傷つきにくく、画像部の耐アルカリ現像適性に優れ、現
像安定性のよい平版印刷版原版とすることができる。

【０２０７】（Ａ）アルカリ可溶性高分子としては、例
えば、（ｉ）フェノール樹脂、クレゾール樹脂、ノボラ
ック樹脂、ピロガロール樹脂等に代表されるフェノール
性ヒドロキシル基を有する高分子化合物、（ｉｉ）スル
ホンアミド基を有する重合モノマーを単独で重合させ、
または、他の重合性モノマーと共重合させて得られた化
合物、（ｉｉｉ）Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリ
ルアミド等に代表される活性イミド基を分子内に有する
化合物が挙げられる。

【０２０８】（Ｂ）上記（Ａ）成分と相溶してアルカリ
溶解性を低下させる化合物としては、例えば、スルホン
化合物、アンモニウム塩、スルホニウム塩、アミド化合
物等の上記（Ａ）成分と相互作用する化合物が挙げられ
る。例えば、上記（Ａ）成分がノボラック樹脂の場合に
は、（Ｂ）成分としては、シアニン色素が好適に挙げら
れる。

【０２０９】（Ｃ）赤外レーザーを吸収する化合物とし
ては、７５０〜１２００ｎｍの赤外域に吸収域があり、
光／熱変換能を有する材料が好ましい。このような機能
を有するものとしては、例えば、スクワリリウム色素、
ピリリウム塩色素、カーボンブラック、不溶性アゾ染
料、アントラキノン系染料が挙げられる。これらは、
０．０１〜１０μｍの範囲の大きさであるのが好まし
い。

【０２１０】サーマルポジタイプの平版印刷版原版は、
このポジ型赤外線レーザー記録材料を、メタノール、メ
チルエチルケトン等の有機溶媒に溶解し、必要に応じ
て、染料を添加し、支持体上に乾燥後の質量が１〜３ｇ
／ｍ² となるように塗布し乾燥することにより得ること
ができる。

【０２１１】また、本発明の平板印刷版原版には、記録
層として、スルホネート型赤外線レーザー記録材料を用
いてもよい。スルホネート型赤外線レーザー記録材料と
しては、例えば、特許第２７０４８０号明細書、特許第
２７０４８７２号明細書等に記載されているスルホネー
ト化合物を用いることができる。また、赤外線レーザー
照射によって発生した熱によってスルホン酸を発生し、
水に可溶化する感光材料や、スチレンスルホン酸エステ
ルをゾルゲルで固め、その後赤外線レーザーを照射する
ことで表面極性が変化する感光材料や、特願平９−８９
８１６号明細書（特開平１０−２８２６４６号公報）、
特願平１０−２２４０６号明細書（特開平１１−２１８
９２８号公報）、特願平１０−０２７６５５号明細書
（特開平１０−２８２６７２号公報）に記載されている
レーザー露光によって疎水性表面が親水性に変化する感
光材料等を用いることもできる。

【０２１２】また、この熱によってスルホン酸基を発生
しうる高分子化合物からなる感光層の特性を更に改善す
るためには、つぎに挙げる方法を併用するのが好まし
い。かかる方法としては、例えば、（１）特願平１０−
７０６２号明細書（特開平１１−２０２４８３号公報）
に記載された酸または塩基発生剤との併用による方法、
（２）特願平９−３４０３５８号明細書（特開平１１−
１７４６８５号公報）に記載された特定の中間層を設け
る方法、（３）特願平９−２４８９９４号明細書（特開
平１１−８４６５８号公報）に記載された特定の架橋剤
を併用する方法、（４）特願平１０−１１５３５４号明
細書（特開平１１−３０１１３１号公報）に記載された
固体粒子表面修飾の様態で使用する方法を挙げることが
できる。

【０２１３】更に、レーザー露光によって発生する熱を
利用して感光層の親／疎水性を変化させる組成物の他の
例としては、例えば、米国特許第２，７６４，０８５号
明細書に記載されているＷｅｒｎｅｒ錯体からなる熱に
よって疎水性に変化する組成物、特公昭４６−２７２１
９号公報に記載されている特定の糖類、メラミンホルム
アルデヒド樹脂等の露光によって親水性に変化する組成
物、特開昭５１−６３７０４号公報に記載されているヒ
ートモード露光によって疎水性に変化する組成物、米国
特許第４，０８１，５７２号明細書に記載されているフ
タリルヒドラジドポリマーのように熱によって脱水／疎
水化するポリマーからなる組成物、特公平３−５８１０
０号公報に記載されているテトラゾリウム塩構造を有し
熱によって親水化する組成物、特開昭６０−１３２７６
０号公報に記載されているスルホン酸変性ポリマーから
なる露光によって疎水化する組成物、特開昭６４−３５
４３号公報に記載されているイミド前駆体ポリマーから
なる露光によって疎水化する組成物、特開昭５１−７４
７０６号公報に記載されているフッ化炭素ポリマーから
なる露光によって親水化する組成物が挙げられ、これら
の組成物を用いて記録層を形成することができる。

【０２１４】更に、特開平３−１９７１９０号公報に記
載されている疎水性結晶性ポリマーからなる露光によっ
て親水性に変化する組成物、特開平７−１８６５６２号
公報に記載されている熱によって不溶化された側基が親
水性に変化するポリマーと光熱変換剤からなる組成物、
特開平７−１８４９号公報に記載されているマイクロカ
プセルを含有する三次元架橋された親水性バインダーか
らなり露光によって疎水化する組成物、特開平８−３４
６３号公報に記載されている原子価異性化またはプロト
ン移動異性化する組成物、特開平８−１４１８１９号公
報に記載されている熱によって層内の相構造変化（相溶
化）を生じ、親／疎水性を変化させる組成物、特公昭６
０−２２８号公報に記載されている熱によって表面の形
態、表面の親／疎水性が変化する組成物が挙げられ、こ
れらの組成物を用いて記録層を形成することができる。

【０２１５】本発明において、記録層に用いられる好ま
しい記録材料の他の例としては、高パワーおよび高密度
のレーザー光によって発生した熱を利用する、いわゆる
ヒートモード露光によって、感光層と支持体との間の接
着性を変化させる組成物が挙げられる。具体的には、特
公昭４４−２２９５７号公報に記載されている熱融着性
物質または熱反応性物質からなる組成物が挙げられる。

【０２１６】以下、本発明の平版印刷版用支持体の好適
な態様であるアルミニウム支持体の製造装置について説
明する。本発明の平版印刷版用支持体の好適な態様であ
るアルミニウム支持体の製造過程としては、（１）圧延
され、コイル状に巻き取られたアルミニウム板を多軸タ
ーレットからなる送り出し装置から送り出し、（２）上
記各処理（機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理、
アルカリエッチング処理、酸性エッチング処理、デスマ
ット処理、低熱伝導性の親水性皮膜の形成、ポアワイド
処理（酸処理またはアルカリ処理）、封孔処理、親水性
表面処理等）の後、アルミニウム板を乾燥処理し、
（３）アルミニウム板を上記多軸ターレットからなる巻
き取り装置にてコイル状に巻き取り、または、アルミニ
ウム板の平面性を矯正し、その後、所定の長さにカット
して集積するのが好ましい。また、必要に応じ、上記過
程において、下塗層や記録層を形成して乾燥処理する工
程を設け、平版印刷版原版としてから上記巻取り装置に
よりコイル状に巻き取ってもよい。

【０２１７】また、アルミニウム支持体の製造において
は、アルミニウム板の表面の欠陥を検査する装置を用い
て、該欠陥を連続的に検査し、発見した欠陥部のエッジ
部分に目印のラベルを貼る工程を、１工程以上有するの
が好ましい。更に、本発明の平版印刷版原版の製造にお
いては、アルミニウム板の送り出し工程および巻き取り
工程において、アルミコイルの交換の際に、該アルミニ
ウム板の走行を停止しても、上記各工程におけるアルミ
ニウム板の走行速度を一定に保つようなリザーバ装置を
設けることが好ましく、上記アルミコイルの送り出し工
程の後には、アルミニウム板を超音波またはアーク溶接
にて接合する工程を設けるのが好ましい。

【０２１８】アルミニウム支持体の製造に用いられる装
置は、アルミニウム板の走行位置を検出し、走行位置を
矯正する装置を１個以上有するのが好ましく、また、ア
ルミニウム板の張力カットおよび走行速度制御を目的と
した駆動装置と、張力制御を目的としたダンサロール装
置とをそれぞれ１個以上有するのが好ましい。また、ト
ラッキング装置にて各工程の状態が所望の条件か否かを
記録し、アルミニウムコイルが巻き取られる前に、アル
ミニウムウェブのエッジ部にラベルを貼り、そのラベル
よりも後が所望の条件か否かをのちに判別できるように
するのも好ましい。

【０２１９】本発明においては、アルミニウム板は、合
紙とともに帯電させて互いに吸着させ、その後所定の長
さにカット、および／または、スリットすることが好ま
しい。また、アルミニウム板のエッジ部分に貼られたラ
ベルの情報をもとに、所定の長さに裁断した後または裁
断する前に、そのラベルを目印として良品部分と欠陥部
分とを分別し、良品部分のみを集積するのが好ましい。

【０２２０】上記送り出し工程等を含む各工程では、ア
ルミニウム板のサイズ（厚さおよび幅）、アルミニウム
の材質またはアルミニウムウェブの走行速度によって、
それぞれの条件で最適な張力を設定することが重要であ
る。そこで、張力カットと走行速度制御を目的とした駆
動装置と、張力制御を目的としたダンサーロールとを利
用し、張力感知装置からの信号をフィードバック制御す
る張力制御装置を複数設けるのが好ましい。駆動装置
は、直流モーターと主駆動ローラを組み合わせた制御方
法を用いるのが一般的である。主駆動ローラは一般的な
ゴムを材質とするが、アルミニウムウェブがｗｅｔな状
態にある工程では不織布を積層して作製されたローラを
用いることができる。また、各パスローラとしては、ゴ
ムまたは金属が一般的に用いられるが、アルミニウムウ
ェブとスリップを起こしやすい箇所ではこのスリップを
防止するために、各パスローラにモーターや減速機を接
続し、主駆動装置からの信号によって一定速度で回転制
御するなど補助的な駆動装置を設けることもできる。

【０２２１】本発明に用いられるアルミニウム支持体
は、特開平１０−１１４０４６号公報に記載されている
ように、圧延方向の算術平均粗さ（Ｒ_a ）をＲ₁ とし、
幅方向の算術平均粗さ（Ｒ_a ）をＲ₂ とした場合に、Ｒ
₁ −Ｒ₂ が、Ｒ₁ の３０％以内であるのが好ましく、ま
た、圧延方向の平均曲率が１．５×１０^-3ｍｍ^-1以下、
幅方向の平均曲率が１．５×１０^-3ｍｍ^-1以下、圧延方
向と垂直な方向の平均曲率が１．０×１０^-3ｍｍ^-1以下
であるのが好ましい。また、上記粗面化処理等を施して
製造されたアルミニウム支持体は、ロール直径２０〜８
０ｍｍ、ゴム硬度５０〜９５度の矯正ロールを用いて矯
正するのが好ましい。これにより、平版感光印刷機の自
動搬送工程においても、平版印刷版原版の露光ズレが起
きないフラットネスのアルミニウムコイル状素板を供給
することができる。特開平９−１９４０９３号公報に
は、ウェブのカール測定方法および装置、カール修正方
法および装置、ならびにウェブ切断装置が記載されてお
り、本発明においてもこれらを用いることができる。

【０２２２】また、連続的にアルミニウム支持体を製造
するにあたり、各工程が適切な条件で稼働しているかを
電気的に監視し、トラッキング装置にて各工程の状態が
所望の条件か否かを記録し、アルミニウムコイルが巻き
取られる前に、アルミニウムウェブのエッジ部にラベル
を貼り、そのラベルよりも後が所望の条件か否かを、後
から判別できるようにすることで、裁断時、集積時にそ
の部分の良否を判定することができる。

【０２２３】上述の粗面化処理に用いられるアルミニウ
ム板の処理装置は、液の温度、比重、電導度、超音波の
伝搬速度のうち、一つ以上を測定し、液の組成を求め、
フィードバック制御、および／または、フィードフォワ
ード制御して液濃度を一定にコントロールするのが好ま
しい。上記処理装置中の酸性水溶液にはアルミニウムイ
オンを初めとするアルミニウム板中に含まれる成分がア
ルミニウム板の表面処理の進行に伴って溶解する。そこ
で、アルミニウムイオン濃度と酸またはアルカリの濃度
を一定にするために、水と酸、または、水とアルカリを
間欠的に添加して液組成を一定に保つのが好ましい。こ
こで添加する酸またはアルカリの濃度は、１０〜９８質
量％であるのが好ましい。

【０２２４】上記酸またはアルカリの濃度を制御するに
は、例えば、以下の方法が好ましい。まず、あらかじめ
使用が予定されている濃度範囲の成分液ごとの導電率、
比重または超音波の伝搬速度を各温度毎に測定してデー
タテーブルを作成する。そして、被測定液の導電率、比
重または超音波の伝搬速度と温度データをあらかじめ作
成した非測定液のデータテーブルを参照して濃度を測定
する。上記超音波の伝搬時間を高精度・高安定に測定す
る方法は、特開平６−２３５７２１号公報に記載されて
いる。また、上記超音波の伝搬速度を利用した濃度測定
システムについては、特開昭５８−７７６５６号公報に
記載されている。また、複数の物理量データを液成分ご
とに相関を示すデータテーブルを作成しておき、そのデ
ータテーブルを参照して多成分液の濃度を測定する方法
は、特開平４−１９５５９号公報に記載されている。

【０２２５】上記超音波の伝搬速度を用いた濃度測定方
法を被測定液の導電率と温度の値と組み合わせて、アル
ミニウム支持体の粗面化工程に応用すると、プロセスの
管理がリアルタイムで正確に行えるため、一定品質の製
品が製造できるようになり、得率の向上につながる。ま
た、温度と超音波の伝搬速度と導電率との組み合わせだ
けでなく、温度と比重、温度と導電率、温度と導電率と
比重等、それぞれの物理量で濃度および温度ごとにデー
タテーブルを作成しておき、そのデータテーブルを参照
して多成分液の濃度測定する方法をアルミニウム支持体
の粗面化処理工程に応用すると、前記と同様な効果が得
られる。また、比重と温度とを測定し、あらかじめ作成
しておいたデータテーブルを参照して被測定物のスラリ
ー濃度を求めることによって、スラリー濃度の測定も迅
速にかつ正確に行えるようになる。

【０２２６】上記超音波の伝搬速度測定は液中の気泡の
影響を受けやすいため、垂直に配置され、かつ、下方か
ら上方に向かう流速のある配管中で行われるのがより好
ましい。上記超音波の伝搬速度測定は、配管内の圧力が
１〜１０ｋｇ／ｃｍ² の圧力範囲内で行うことが好まし
く、超音波の周波数は０．５〜３ＭＨｚであるのが好ま
しい。また、上記比重、導電率、超音波の伝搬速度の測
定は温度の影響を受けやすいため、保温状態にあり、か
つ温度変動が±０．３℃以内に制御された配管内で測定
するのが好ましい。更に、導電率および比重、または、
導電率と超音波の伝搬速度とは同一温度で測定するのが
好ましいので、同一の配管内または同一の配管フロー内
で測定するのが特に好ましい。測定の際の圧力変動は温
度の変動につながるので可能な限り低い方が好ましい。
また、測定する配管内の流速分布もできるだけ少ない方
が好ましい。更に、上記測定はスラリー、ゴミ、および
気泡の影響を受けやすいので、フィルターや脱気装置等
を通した液を測定するのが好ましい。

【０２２７】このようにして得られる本発明の平版印刷
版原版は熱により画像形成される。具体的には、熱記録
ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走
査露光、キセノン放電灯等の高照度フラッシュ露光、赤
外線ランプの固体高出力赤外線レーザによる露光が好適
である。

【０２２８】本発明の平版印刷版原版は、 記録層が
（ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、また
は、（ｂ）熱反応性官能基を有する化合物を内包するマ
イクロカプセルを含有する、いわゆる機上現像タイプの
感熱層である場合には、画像露光後、それ以上の処理な
しに印刷機に装着し、インキおよび／または湿し水を用
いて通常の手順で印刷することができる。また、特許第
２９３８３９８号明細書に記載されているように、印刷
機シリンダー上に取りつけた後に、印刷機に搭載された
レーザーにより露光し、その後にインキおよび／または
湿し水をつけて機上現像することも可能である。これら
の場合、印刷機上でインキおよび／または湿し水により
感熱層が除去されるので、別個の現像工程を必要とせ
ず、また、現像後、印刷のために印刷機を止める必要も
なく、現像が終わり次第、引き続き印刷を行うことがで
きる。即ち、本発明の平版印刷版の製版および印刷方法
は、機上現像タイプの感熱層を設けてなる平版印刷版原
版を、レーザー光によって画像露光しそのまま印刷機に
取り付けて印刷するか、または、印刷機に取り付けた後
にレーザー光によって画像露光しそのまま印刷すること
を特徴とする。レーザー光としては、波長７６０〜１２
００ｎｍの赤外線を放射する、固体レーザーまたは半導
体レーザーを用いることができる。なお、機上現像タイ
プの感熱層を有する場合においても、水または適当な水
溶液を現像液とする現像をした後、印刷に用いることが
できる。

【０２２９】また、本発明の平版印刷版原版は、 従来の
サーマルポジタイプまたはサーマルネガタイプの記録層
等を有する場合には、常法に従い、画像露光後、現像液
により現像して、印刷機に装着し、印刷に供することが
できる。

【０２３０】本発明の支持体は、更に、熱により疎水化
可能な親水層を画像形成層とする無処理型平版印刷版原
版に供することもできる。かかる原版は、前述の（ａ）
熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、または、
（ｂ）熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイク
ロカプセルを含む熱可塑性ポリマー微粒子や親油性物質
を内包したマイクロカプセル粒子あるいは疎水化樹脂微
粒子などの微粒子を疎水性樹脂などのマトリックス中に
分散した親水層（画像形成層）を有するものである。親
水層に熱を加えると該微粒子類に内包された親水性物質
が微粒子外に散出して親水層表面の熱照射部のみが選択
的に親油性部に変換される。この親油性画像部と未熱照
射の親水性マトリックスからなる親水性非画像部との表
面構成を印刷面として用いることにより、現像処理する
ことのない、完全無処理で、湿し水を使用する平版印刷
を行うことができる。更には、赤外線レーザー光の走査
露光の記録方式においては、該親水性層に光熱変換剤を
含有するのが好ましい。

【０２３１】このような無処理型平版印刷版原版は、露
光後現像処理することなしにそのまま印刷機に装着して
印刷、あるいは印刷機上で露光しそのまま印刷できるも
のである。本発明の特定の熱伝導率を有する支持体を用
いることにより、画像形成後の画像部は高精度な画像が
形成され且印刷インキの着肉性が良好で多数枚の印刷が
可能となる。

【０２３２】かかる熱により疎水化可能な親水層を有す
る感熱平版印刷版原版としては、例えば、特開昭５９−
１７４３９４号公報、１９９２年１月のResearch Discl
osure No. ３３３０３、特開２００１−４７７５５号等
に、熱可塑性ポリマー微粒子を親水性樹脂中に分散した
感熱層を有する原版、更には特開２００１−３１５４５
３号公報中の段落番号［００５７］〜［００８８］記載
の２層構造からなる自己水分散性の疎水化樹脂粒子含有
の親水層（感熱層）、特開２００２−２９１６５号公報
中の段落番号［００２１］〜［００６６］記載の表面疎
水化金属微粒子を内包した表面親水性の疎水化樹脂粒子
含有の親水層、特開２００２−３６７４５号公報中の段
落番号［０００８］〜［００３８］記載の特定のビニル
オキシ基含有化合物を内包する疎水化樹脂粒子含有の親
水層、特開２００２−６５０４号公報中の段落番号［０
０３３］〜［００４７］記載のシラノール基を含有する
親水性ポリマー及び金属酸化物を含有する親水層等、が
挙げられる。もとより、本発明の無処理型平版印刷版原
版の内容はこれらの例示に限定されるものではない。な
お、本明細書に記載されるすべての公開文献、および出
願中の特許出願の内容は、引用して本明細書の内容とす
る。

【０２３３】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０２３４】［アルミニウム基板の製造例］厚さ０．２
４ｍｍのＪＩＳ１０５０のアルミニウム板を用い、前処
理、粗面化処理、親水性皮膜生成処理、必要に応じて後
処理をこの順に行って、実施例のに用いるアルミニウム
基板を作製した。粗面化処理までは下記Ａ〜Ｊのいずれ
かで行い、親水性皮膜生成処理及び後処理は、各基板の
製造例に記載した方法で行った。

【０２３５】＜粗面化処理Ａ，Ｂ及びＣ＞アルミニウム
板を５０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸
漬して、溶解量が２ｇ／ｍ² になるように溶解処理を行
った。水洗後、次に行う電気化学的粗面化処理で使用す
る電解液と同組成の水溶液に１０秒間浸漬して中和処理
し、次いで水洗した。

【０２３６】次にこのアルミニウム基板材料を、電流密
度５０Ａ／ｄｍ² 、正弦波交流を用い、休止時間を挟み
複数回に分けた電気化学的粗面化処理を行った。表１
に、電解液組成、１回当たりの処理電気量、電解処理回
数、休止時間を示した。該電気化学的粗面化処理後は、
５０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し
て、溶解量が２ｇ／ｍ² になるようにアルカリ溶解処理
し、水洗した後、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中
に１０秒間浸漬して中和処理し、次いで水洗した。

【０２３７】

【表１】

【０２３８】＜粗面化処理Ｄ＞アルミニウム板を５０℃
の１０％水酸化ナトリウム水溶液に２０秒間浸漬して、
脱脂及びエッチングした後、流水で水洗し、次いで２５
％硫酸水溶液で２０秒間中和処理し、水洗した。その
後、１％塩酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５％含
む）を用い、電流値が０からピークに達する間での時間
（ＴＰ）が２ｍｓｅｃの周波数６０Ｈｚ、ｄｕｔｙ比
１：１の台形の矩形波を用い、カーボン電極を対極とし
てアルミニウム陽極時平均電流密度２７Ａ／ｄｍ² （ア
ルミニウムの陽極時と陰極時の電流密度の比１：０．９
５）、アルミニウム陽極時電気量３５０Ｃ／ｄｍ² とな
るように、２０℃で電解粗面化処理した。次いで、水酸
化ナトリウム２６％、アルミニウムイオン６．５％水溶
液を用い、液温４５℃でスマットを含む全エッチング量
が０．７ｇ／ｍ² となるようにスプレーによるエッチン
グ処理を行った。続いて２５％硝酸水溶液（アルミニウ
ムイオンを０．３％含む）で６０℃１０秒間スプレー処
理によるデスマット処理を行った。

【０２３９】＜粗面化処理Ｅ＞アルミニウム板表面を毛
径０．７２ｍｍ、毛長８０ｍｍのナイロンブラシと平均
粒径約１５〜３５μｍのパミストンの水懸濁液を用いて
粗面化した後、よく水で洗浄した。次に、１０％水酸化
ナトリウム水溶液に７０℃で３０秒間浸漬してエッチン
グし、流水で水洗後、さらに２０％硝酸水溶液で中和洗
浄し、水洗した。このように機械的に粗面化したアルミ
ニウム板に、さらに下記のような電気化学的粗面化を施
した。

【０２４０】塩酸濃度が７．５ｇ／ｌであり、アルミニ
ウムイオンの濃度が５ｇ／ｌになるように塩酸に塩化ア
ルミニウムを添加して調製した塩酸水溶液中で、液温３
５℃で前記の機械的粗面化をしたアルミニウム板に、図
２に示したラジアルセルを用いて、交流を印加して交流
電気分解を行った。交流としては、周波数が６０Ｈｚの
商用交流を、誘導電圧調整器及び変圧器を用いて電流・
電圧調整することにより発生させたサイン波を用いた。
アルミニウム板が陽極時の電気量の総和は５０Ｃ／ｄｍ
² であり、前記交流の１周期におけるＱｃ／Ｑａは０．
９５であった。

【０２４１】上記塩酸水溶液の塩酸及びアルミニウムイ
オンの濃度については、温度、導電率、及び超音波伝播
速度と、塩酸及びアルミニウムイオン濃度との関係を求
め、前記塩酸水溶液の温度、導電率、及び超音波伝播速
度が所定の値になるように、濃度３５％の濃塩酸と水と
を循環タンクから電解槽本体内部に添加し、余剰の塩酸
水溶液をオーバーフローさせることにより、一定に保持
した。次に、処理液として、水酸化ナトリウム及びアル
ミニウムイオンをそれぞれ５％及び０．５％含有し、液
温が４５℃のアルカリ溶液を用い、前記アルミニウム板
における粗面化面の溶解量が０．１ｇ／ｍ² であり、前
記面とは反対側の面の溶解量０．０５ｇ／ｍ² となるよ
うに、エッチング処理を施した。

【０２４２】エッチング処理を施したアルミニウム板の
両面に、硫酸及びアルミニウムイオンをそれぞれ３００
ｇ／ｌ及び５ｇ／ｌ含有する液温５０℃の硫酸水溶液を
噴霧してデスマット処理を行った。

【０２４３】＜粗面化処理Ｆ＞粗面化処理Ａの後、更
に、下記の硝酸水溶液中での電解粗面化処理を行った。

【０２４４】１％硝酸水溶液（アルミニウムイオンを
０．５％含む）を用い、電流値が０からピークに達する
間での時間（ＴＰ）が２ｍｓｅｃの周波数６０Ｈｚ、ｄ
ｕｔｙ比１：１の台形の矩形波を用い、カーボン電極を
対極としてアルミニウム陽極時平均電流密度２７Ａ／ｄ
ｍ² （アルミニウムの陽極時と陰極時の電流密度の比
１：０．９５）、アルミニウム陽極時電気量３５０Ｃ／
ｄｍ² となるように、５０℃で、図２に示したラジアル
セルを用いて電解粗面化処理した。次いで、水酸化ナト
リウム２６％、アルミニウムイオン６．５％水溶液を用
い、液温４５℃でスマットを含む全エッチング量が０．
２ｇ／ｍ² となるようにスプレーによるエッチング処理
を行った。続いて２５％硝酸水溶液（アルミニウムイオ
ンを０．３％含む）で６０℃１０秒間スプレー処理によ
るデスマット処理を行った。

【０２４５】＜粗面化処理Ｇ＞粗面化処理Ｅのうち、電
気化学的粗面化処理及びそれ以降の処理を省いた処理
（機械的粗面化、アルカリエッチング、中和、水洗）を
粗面化処理Ｇとした。

【０２４６】＜粗面化処理Ｈ＞アルミニウム板を５０℃
に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して、溶
解量が２ｇ／ｍ² になるように溶解処理を行った。水洗
後、次に行う電気化学的粗面化処理で使用する電解液と
同組成の水溶液に１０秒間浸漬して中和処理し、次いで
水洗した。

【０２４７】次にこのアルミニウム基板材料を、１％硝
酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５％含む）、電流
密度５０Ａ／ｄｍ² 、正弦波交流を用い、休止時間を１
回０．５秒間設け、１回当たり２５０Ｃ／ｄｍ² 、合計
５００Ｃ／ｄｍ² の電気量で、電気化学的粗面化処理を
行った後、水洗した。該電気化学的粗面化処理後は、５
０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し
て、溶解量が５ｇ／ｍ²になるようにアルカリ溶解処理
し、水洗した後、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中
に１０秒間浸漬して中和処理し、次いで水洗した。

【０２４８】＜粗面化処理Ｉ＞電気化学的粗面化処理後
のアルカリ溶解処理を行わなかったこと以外は粗面化処
理Ｈと同様の粗面化処理を行った。

【０２４９】＜粗面化処理Ｊ＞ （１）機械的粗面化処理 比重１．１２のケイ砂（研磨剤、平均粒径２５μｍ）と
水との懸濁液を研磨スラリー液として、スプレー管によ
ってアルミニウム板の表面に供給しながら、ナイロンブ
ラシが回転するブラシローラを用いて機械的粗面化処理
を行った。使用したナイロンブラシの材質は６，１０−
ナイロンであり、毛長は５０ｍｍであり、毛の直径は
０．４８ｍｍであった。このナイロンブラシはφ３００
ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植
毛されたものである。また、ブラシローラには、ナイロ
ンブラシが３本使用されており、ブラシ下部に備えられ
た２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）間の距離は３００
ｍｍであった。上記ブラシローラは、ブラシを回転させ
る駆動モータの負荷を、ナイロンブラシがアルミニウム
板に押さえつけられる前の負荷に対して管理し、粗面化
後のアルミニウム板の平均算術粗さ（Ｒ_a ）が０．４５
μｍになるように押さえつけた。ブラシの回転方向はア
ルミニウム板の移動方向と同じであった。その後、水洗
を行った。また、研磨剤の濃度は、あらかじめ研磨剤濃
度と温度と比重との関係から作成したテーブルを参照
し、温度および比重から研磨剤濃度を求め、フィードバ
ック制御によって水と研磨剤とを添加し、上記研磨剤の
濃度を一定に保った。また、研磨剤が粉砕して粒度が小
さくなると粗面化されたアルミニウム板の表面形状が変
化するので、サイクロンによって粒度の小さな研磨剤は
系外に逐次排出した。研磨剤の粒径は１〜３５μｍの範
囲であった。

【０２５０】（２）アルカリエッチング処理 ＮａＯＨ２７質量％およびアルミニウムイオン６．５質
量％を含有する液温７０℃の水溶液をスプレー管によっ
てアルミニウム板に吹き付けて、アルカリエッチング処
理を行った。アルミニウム板の、後に電気化学的粗面化
処理を行う面の溶解量は８ｇ／ｍ² であり、その裏面の
溶解量は２ｇ／ｍ² であった。アルカリエッチング処理
に用いたエッチング液の濃度は、あらかじめＮａＯＨ濃
度と、アルミニウムイオン濃度と、温度と、比重と、液
の導電率との関係から作成したテーブルを参照し、温
度、比重、および導電率からエッチング液濃度を求め、
フィードバック制御によって水と４８質量％ＮａＯＨ水
溶液とを添加することにより一定に保った。その後、水
洗を行った。

【０２５１】（３）デスマット処理 液温３５℃の硝酸水溶液をスプレーを用いてアルミニウ
ム板に吹き付けて、１０秒間デスマット処理を行った。
硝酸水溶液は、次の工程で用いる電解装置からのオーバ
ーフロー廃液を使用した。ついで、デスマット処理液を
吹き付けるスプレー管を数カ所設置して、次の工程まで
アルミニウム板の表面が乾かないようにした。

【０２５２】（４）電気化学的粗面化処理 図１に示した台形波の交流電流と図２に示した電解装置
２槽とを用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行っ
た。酸性水溶液としては、硝酸１質量％の硝酸水溶液
（アルミニウムイオン０．５質量％およびアンモニウム
イオン０．００７質量％を含む。）を用いた。液温は５
０℃であった。また、交流電流は、電流値がゼロからピ
ークに達するまでの時間ｔｐおよびｔｐ´が１ｍｓｅｃ
であり、カーボン電極を対極とした。交流電流のピーク
時の電流密度は、アルミニウム板が陽極時および陰極時
ともに５０Ａ／ｄｍ² であった。更に、交流電流の陰極
時電気量（Ｑ_C ）と陽極時電気量（Ｑ_A ）との比（Ｑ_C
／Ｑ_A ）、ｄｕｔｙ、周波数および陽極時の電気量の総
和は以下に示すとおりであった。その後、スプレーによ
って水洗を行った。 ｄｕｔｙ ０．５０ 周波数 ６０Ｈｚ 陽極時の電気量の総和Ｑ_A １８０Ｃ／ｄｍ² 電気量比 Ｑ_C ／Ｑ_A ＝ ０．９５ 硝酸水溶液の濃度コントロールは、６７質量％の硝酸原
液と水とを、通電量に比例して添加し、硝酸と水との添
加容積と同量の酸性水溶液（硝酸水溶液）を逐次電解装
置からオーバーフローさせて電解装置系外に排出して行
った。また、これとともに、あらかじめ硝酸濃度とアル
ミニウムイオン濃度と温度と液の導電率と液の超音波伝
搬速度との関係から作成したテーブルを参照し、硝酸水
溶液の温度、導電率、超音波伝搬速度から該硝酸水溶液
の濃度を求め、硝酸原液と水との添加量を逐次調整する
制御を行って濃度を一定に保った。

【０２５３】（５）アルカリエッチング処理 ＮａＯＨ２６質量％およびアルミニウムイオン６．５質
量％を含有する液温４５℃の水溶液を、アルミニウム板
にスプレーを用いて吹き付けて、アルカリエッチング処
理を行った。アルミニウム板の溶解量は１ｇ／ｍ² であ
った。エッチング液の濃度はあらかじめＮａＯＨ濃度と
アルミニウムイオン濃度と温度と比重と液の導電率との
関係から作成したテーブルを参照し、温度、比重および
導電率からエッチング液濃度を求め、フィードバック制
御によって水と４８質量％ＮａＯＨ水溶液とを添加し
て、一定に保った。その後、水洗を行った。

【０２５４】（６）酸性エッチング処理：硫酸（硫酸濃
度３００ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１５ｇ／Ｌ）
を酸性エッチング液とし、これをスプレー管から８０℃
で８秒間アルミニウム板に吹き付けて、酸性エッチング
処理を行った。酸性エッチング液の濃度は、あらかじめ
硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と比重と液の
導電率との関係から作成したテーブルを参照して、温
度、比重および導電率から酸性エッチング液濃度を求
め、フィードバック制御によって水と５０質量％硫酸と
を添加して、一定に保った。その後、水洗を行った。

【０２５５】＜基板１〜６，２０の製造＞粗面化処理し
たＡ〜Ｆ，Ｊの基板をそれぞれ陽極酸化装置を使って硫
酸濃度１７０ｇ／ｌ（アルミニウムイオンを０．５％含
む）、液温４０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ² にて２０秒
間陽極酸化処理を行い、水洗した。次に、液温３０℃の
ｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液に７０秒間浸漬した
後、水洗した。次に、コロイダルシリカ（日産化学工業
（株）製スノーテックスＳＴ−Ｎ、粒径約２０ｎｍ）１
％水溶液に７０℃で１４秒間浸漬してから水洗を行っ
た。次に、２．５％３号ケイ酸ナトリウムに７０℃で１
４秒間浸漬後、水洗し、基板１〜６，２０を製造した。

【０２５６】＜基板７の製造＞粗面化処理Ｅを施したア
ルミニウム板を３０℃のシュウ酸５０ｇ／ｌ溶液中で、
電流密度１２Ａ／ｄｍ² で２分間陽極酸化を行い、水洗
することによって、４ｇ／ｍ² の陽極酸化皮膜を作製し
た。次にｐＨ１３、液温５０℃の水酸化ナトリウム水溶
液に２分間浸漬してから、水洗した。次に、２．５％３
号珪酸ナトリウムに７０℃で１４秒間浸漬後、水洗を行
い、基板７を製造した。

【０２５７】＜基板８の製造＞粗面化処理Ｅを施したア
ルミニウム板を硫酸濃度１７０ｇ／ｌ（アルミニウムイ
オンを０．５％含む）、液温３０℃、電流密度５Ａ／ｄ
ｍ² にて７０秒間陽極酸化処理を行い、水洗した。次に
ｐＨ１３、液温３０℃の水酸化ナトリウム水溶液に３０
秒間浸漬してから、水洗した。次に、製造例７と同様に
ケイ酸ナトリウム処理を行い水洗して基板８を製造し
た。

【０２５８】＜基板９〜１３の製造＞粗面化処理Ｅを施
した基板を用いた製造例５（基板５）の陽極酸化処理時
間を、１２秒、１６秒、２４秒、４４秒、９０秒にした
以外は、製造例５と同様にして、それぞれ基板９〜１３
を製造した。

【０２５９】＜基板１４の製造＞コロイダルシリカ水溶
液の浸漬処理を行わなかった以外は基板５の製造例５と
同様にして基板１４を製造した。

【０２６０】＜基板１５の製造＞粗面化処理Ｅを施した
基板に硫酸濃度１００ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度
５ｇ／ｌの電解液を用いて、液温５１℃、電流密度３０
Ａ／ｄｍ² で陽極酸化処理を行い、水洗し、２ｇ／ｍ²
の陽極酸化皮膜を作製した。次に、硫酸濃度１７０ｇ／
ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／ｌの電解液を用い
て、液温４０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ² で陽極酸化
を、合計の酸化皮膜量が４．０ｇ／ｍ² になるように調
整して行い、水洗して、陽極酸化皮膜を作製した。次
に、２．５％の３号ケイ酸ナトリウム水溶液に、液温７
０℃で１４秒間浸漬後、水洗して基板１５を製造した。

【０２６１】＜基板１６の製造＞粗面化処理Ｅを施した
基板に硫酸濃度１７０ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度
５ｇ／ｌの電解液を用いて、液温４３℃、電流密度３０
Ａ／ｄｍ² で陽極酸化処理を行い、水洗し、２ｇ／ｍ²
の陽極酸化皮膜を作製した。次に、リン酸１２０ｇ／
ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／ｌの電解液を用い
て、液温４０℃、電流密度１８Ａ／ｄｍ² で陽極酸化を
行い、水洗した。次に、２．５％の３号ケイ酸ナトリウ
ム水溶液に、液温７０℃で１４秒間浸漬後、水洗して基
板１６を製造した。

【０２６２】＜基板１７〜１９の製造＞粗面化処理Ｇ、
Ｈ、Ｉをそれぞれ施した基板を、製造例１４（基板１
４）の粗面化処理した基板の代わりに用いた以外は製造
例１４と同様にして基板１７〜１９を製造した。

【０２６３】＜比較例用基板（比１）の製造＞製造例７
（基板７）の水酸化ナトリウムの処理時間を３分にした
以外は製造例７と同様にして比較例用基板１を製造し
た。

【０２６４】＜比較例用基板（比２）の製造＞粗面化処
理Ａを施した基板を、硫酸濃度２００ｇ／ｌ、アルミニ
ウムイオン濃度５ｇ／ｌの電解液を用いて、液温４５
℃、約１０Ｖの電圧及び１．５Ａ／ｄｍ ² の電流密度で
約３００秒間陽極酸化を行い、３ｇ／ｍ² の陽極酸化皮
膜を作製し、水洗した。次に、炭酸水素ナトリウム２０
ｇ／ｌ含有水溶液で、液温４０℃で３０秒間後処理し、
引き続き既２０℃の水で１２０秒間すすぎ、そして乾燥
した。次いで、上記で得られた基板を５％クエン酸水溶
液中に６０秒間浸漬し、水洗し、４０℃で乾燥し、比較
例用基板２を製造した。

【０２６５】上記製造例で得られたアルミニウム基板の
粗面化形状及び親水性皮膜の物性値等を表２に示した。
各物性値の測定法は、以下の通りである。なお、密度の
測定法は前述の方法で行った。

【０２６６】＜大きなうねりの平均開口径、小ピットの
平均開口径及び小ピットの平均深さと小ピットの平均開
口径との比の測定法＞いずれの値もアルミニウム基板表
面のＳＥＭ写真を撮影して測定した。大きなうねりの平
均開口径ｄ₂ （μｍ）については、１０００倍のＳＥＭ
写真を用い、輪郭が明確に判別できるうねり１個ずつの
長径と短径とを測定してその平均をうねりの開口径と
し、該ＳＥＭ写真中で測定した大きなうねりの開口径の
和を、測定した大きなうねり数５０ヶで割って求めた。
ＳＥＭは日本電子（株）製Ｔ−２０を用いた。

【０２６７】小ピットの平均開口径ｄ₁ （μｍ）の測定
には、３００００倍のＳＥＭ写真を用い、大きなうねり
の開口径の場合と同様の手法で行った。この場合に用い
たＳＥＭは日立製作所製Ｓ−９００であった。

【０２６８】小ピットの平均深さｈ（μｍ）と小ピット
の平均開口径ｄ₁ （μｍ）との比ｈ／ｄ₁ には、断面の
３００００倍のＳＥＭ写真を用いて測定し、測定した５
０ヶ所の平均値を用いた。

【０２６９】＜親水性皮膜の膜厚方向の熱伝導率の測定
法＞初めに、本発明のアルミニウム基板１〜２０ならび
に比較例用基板１，２に加えて、これらと親水性皮膜の
膜厚のみが異なるアルミニウム基板を、それぞれ２種類
ずつ作製した。膜厚のみが異なるアルミニウム基板は、
それぞれ陽極酸化時間を０．５倍及び２倍にし、それ以
外は製造例で示したアルミニウム基板と同様の方法によ
り作製した。

【０２７０】次に、膜厚のみが異なる３種類のアルミニ
ウム基板を、図３に示した装置による測定に供し、前記
数式（１）により親水性皮膜の膜厚方向の熱伝導率を算
出した。なお、測定は試料上の異なる５点で行い、その
平均値を用いた。

【０２７１】ここで親水性皮膜の膜厚は、日本電子
（株）製ＳＥＭ Ｔ−２０を用いて親水性皮膜断面を観
察し、５０ヶ所の膜厚を実測し、その平均値を用いた。

【０２７２】＜陽極酸化皮膜マイクロポアのポア径の測
定方法＞陽極酸化皮膜マイクロポアのポア径は、表層の
ポア径と表層から深さ０．４μｍ地点のポア径について
測定した。表層ポア径の場合は陽極酸化皮膜表面を、そ
して表層から０．４μｍのポア径の場合は、陽極酸化処
理済みのアルミニウム基板を折り曲げて、折り曲げた際
に発生したひび割れ部分の側面（通常破断面）を、超高
分解能ＳＥＭ（日立Ｓ−９００）を使用して観察した。
観察は、１２Ｖという比較的低加速電圧で、導電性を付
与する蒸着処理などを施すことなしに、１５万倍の倍率
で行った。どちらのポア径も、５０個のポアを無作為抽
出し手得た測定値の平均値を使用した。標準偏差誤差
は、どちらも±１０％以下であった。

【０２７３】＜空隙率の測定法＞陽極酸化皮膜の空隙率
は次式より求めた。 空隙率（％）＝｛１−（酸化皮膜密度／３．９８）｝ｘ
１００ ここで、３．９８は化学便覧による酸化アルミニウムの
密度（ｇ／ｃｍ³ ）である。

【０２７４】

【表２】

【０２７５】＜ポリマー微粒子の製造例１（熱可塑性ポ
リマー微粒子）＞スチレン１５．０ｇ、ポリオキシエチ
レンノニルフェニルエーテル（エチレンオキシド平均付
加モル数１０）水溶液（濃度１．４８×１０^-2ｍｏｌ／
ｌ）２００ｍｌを加え、２５０ｒｐｍでかき混ぜなが
ら、系内を窒素ガスで置換する。この液を２５℃にした
後、セリウム（ＩＶ）アンモニウム塩水溶液（濃度０．
９８４×１０^-3ｍｏｌ／ｌ）１０ｍｌを添加する。この
際、硝酸アンモニウム水溶液（濃度５８．８×１０^-3ｍ
ｏｌ／ｌ）を加え、ＰＨを１．３〜１．４に調整する。
その後８時間これを攪拌した。このようにして得られた
ポリスチレン微粒子分散液の固形分濃度は６．７％であ
り、ポリスチレン微粒子の平均粒径は０．１μm であっ
た。

【０２７６】＜ポリマー微粒子の製造例２（光熱変換剤
・発色剤内蔵微粒子）＞油相成分としてポリスチレン
（質量平均分子量１．０万）７．５ｇ、赤外線吸収染料
（ＩＲ−２４）１．５ｇ、ロイコ染料 Pergascript Bl
ue SRB（チバガイギー社製）０．２ｇ、４−（ｐ−Ｎ−
（ｐ−ヒドロキシベンゾイル）アミノフェニル）２，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン ０．１
ｇ、アニオン系界面活性剤（竹本油脂製パイオニンＡ４
１Ｃ）０．１ｇを酢酸エチル１２．０ｇ、メチルエチル
ケトン６．０ｇに溶解した。また水相成分としてポリビ
ニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ２０５）の４％水溶液
２５．４ｇに純水９．６ｇを加えた液を作製した。油相
成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて
１５０００rpm で乳化した。その後、水を２０ｇ添加
し、室温で３０分、さらに４０℃で３時間攪拌し酢酸エ
チルを蒸発させた。このようにして得られたポリマー微
粒子の固形分濃度は１５．０％であり、平均粒径は０．
２０μm であった。

【０２７７】＜ポリマー微粒子の製造例３（熱反応性基
を有するポリマー微粒子）＞ポリマー微粒子の製造例１
のスチレン１５．０ｇを、グリシジルメタクリレート
７．５ｇ、ブチルメタクリレート７．５ｇにした以外は
ポリマー微粒子の製造例１と同様にして熱反応性基を有
する微粒子分散液を得た。この液の固形分濃度は６．７
％であり、微粒子の平均粒径は０．０８μm であった。

【０２７８】＜マイクロカプセルの製造例１（発色剤内
蔵マイクロカプセル）＞油相成分として、タケネートＤ
−１１０Ｎ（武田薬品工業製 多官能イソシアネートの
酢酸エチル溶液）４０ｇ、トリメチロールプロパンジア
クリレート１０ｇ、アリルメタクリレートとブチルメタ
クリレートの共重合体（モル比７／３、質量平均分子量
２万）１０ｇ、ロイコ染料 Pergascript Blue SRB（チ
バガイギー社製）０．２ｇ、トリアジン化合物構造式１
０．１ｇ、パイオニンＡ４１Ｃ（竹本油脂製）０．１
ｇを、酢酸エチル４０ｇ、アセトニトリル２０ｇに溶解
した。水相成分として、ＰＶＡ２０５（クラレ製）の４
％水溶液を１２０ｇ作製した。油相成分および水相成分
をホモジナイザーを用いて１５０００rpm で乳化した。
その後、水を４０ｇ添加し、室温で３０分、さらに４０
℃で３時間攪拌し酢酸エチルを蒸発させた。このように
して得られたマイクロカプセル分散液の固形分濃度は３
０％であり、マイクロカプセルの平均粒径は０．２０μ
m であった。

【０２７９】＜マイクロカプセルの製造例２（光熱変換
剤内蔵マイクロカプセル）＞マイクロカプセルの製造例
１の油性成分中に光熱変換剤（本明細書記載の染料ＩＲ
−２４）４．０ｇを加えた以外はマイクロカプセルの製
造例１と同様にして製造した。このようにして得られた
マイクロカプセル分散液の固形分濃度は３０％であり、
マイクロカプセルの平均粒径は０．２０μm であった。

【０２８０】＜自己水分散性の疎水性化樹脂微粒子の製
造例４（アクリルポリマー微粒子の合成）＞攪拌装置、
還流装置、窒素導入管、滴下装置及び温度計を備えた１
Ｌの四つ口フラスコにメチルエチルケトンの４００ｇを
仕込み、８０℃に昇温した。スチレンの８０ｇ、メタク
リル酸メチルの３００ｇ、メタクリル酸の２４．５ｇ、
２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル（Ｖ−６０１
和光純薬工業（株）製の重合開始剤）８ｇをよく混合し
た溶液を２時間かけて滴下した。８時間攪拌後、Ｖ−６
０１の０．５ｇを加え、さらに、８時間攪拌することに
よって、乾燥固形分比が５０％、酸価３９．２、数平均
分子量が２００００のアクリルポリマーが得られた。上
記のアクリルポリマーの溶液１００ｇをトリエチルアミ
ン２．７１ｇで中和し、攪拌しながら水を滴下した。溶
液は徐々に増粘し、約１５０ｇの水を滴下した辺りから
著しく粘度が低下して転相が完了した。さらに１５０ｇ
の水を加えた後、得られた分散液を４０℃に加熱して、
有機溶剤ならびに余剰の水を減圧除去することによっ
て、乾燥固形分比３３．７％、平均粒径０．１２μｍの
アクリルポリマー微粒子の水分散体が得られた。

【０２８１】［実施例１〜１６および比較例１，２］表
３に示したアルミニウム基板上に、下記組成の画像記録
層塗布液１を、乾燥塗布量が０．８ｇ／ｍ² になるよう
に塗布し、オーブンで６０℃１５０秒間乾燥してを作製
した。

【０２８２】 （画像記録層塗布液１） 製造例１記載のポリマー微粒子 固形分換算で５ｇ ポリアクリル酸（質量平均分子量２．５万） ０．５ｇ 光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−１１） ０．３ｇ 水 １００ｇ

【０２８３】このようにして得られた機上現像可能な平
版印刷版原版を、トレンドセッター３２４４ＶＦＳに
て、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面エネルギー２
００ｍＪ／ｃｍ² 、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光
した後、処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機
ＳＯＲ−Ｍの版胴に取付け、湿し水を供給した後、イン
キを供給し、さらに紙を供給して印刷を行った。全ての
印刷版について問題なく機上現像ができ、印刷可能であ
った。各印刷版で得られた印刷結果を表３に記載した。

【０２８４】＜平版印刷版の評価＞ （１）機上現像枚数は、完全に機上現像されるまでに要
した印刷用紙の枚数であり、機上現像性の難易を表す。 （２）耐放置汚れ性 放置払い枚数は、１万枚印刷した後印刷機を停止し、印
刷版を版胴に付けたまま室温で１時間放置した後、印刷
を再開した時に、汚れのない良好な印刷物が得られるま
でに要した印刷用紙の枚数であり、印刷版の汚れ難さを
示す。

【０２８５】

【表３】

【０２８６】［実施例２１〜４０及び比較例３，４］表
４に示したアルミニウム基板上に、下記組成の画像記録
層塗布液２を、乾燥塗布量が０．８ｇ／ｍ² になるよう
に塗布し、オーブンで６０℃１５０秒間乾燥してを作製
した。次いで、実施例１と同様に露光・印刷を行ない、
得られた印刷結果を表４に記載した。

【０２８７】 （画像記録層塗布液２） 製造例２記載のポリマー微粒子 固形分換算で５ｇ 水 １００ｇ

【０２８８】

【表４】

【０２８９】［実施例４１〜６０及び比較例５，６］表
５に示したアルミニウム基板上に、下記組成の画像記録
層塗布液３を用い、乾燥塗布量が０．８ｇ／ｍ² になる
ように塗布し、オーブンで６０℃１５０秒間乾燥してを
作製した。次いで、実施例１と同様に露光、印刷を行な
い、得られた印刷結果を表５に記載した。

【０２９０】 （画像記録層塗布液３） 製造例３記載のポリマー微粒子 固形分換算で５ｇ ポリアクリル酸（質量平均分子量２．５万） ０．５ｇ 光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−１１） ０．３ｇ 水 １００ｇ

【０２９１】

【表５】

【０２９２】［実施例６１〜８０及び比較例７，８］マ
イクロカプセルを含有する下記の画像記録層塗布液４を
用い、表６に示した基板との組み合わせでを作製した。
画像記録層の乾燥はオーブンで１００℃で６０秒間行
い、乾燥塗布量は０．７ｇ／ｍ² であった。

【０２９３】 （画像記録層塗布液４） 製造例１のマイクロカプセル 固形分換算で５ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート ３ｇ 赤外線吸収染料（本明細書記載のＩＲ−１１） ０．３ｇ 水 ６０ｇ 1 −メトキシ−2 −プロパノール ４０ｇ

【０２９４】このようにして作製した平版印刷版原版
を、マルチチャンネルレーザヘッドを搭載した富士写真
フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ Ｔ−９０００ＣＴＰに
て、ビーム１本当たりの出力２５０ｍＷ、外面ドラム回
転数８００ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光
した。印刷は実施例１と同様に行い、印刷結果を表６に
示した。

【０２９５】

【表６】

【０２９６】［実施例８１〜１００及び比較例９，１
０］マイクロカプセルの製造例２で得たマイクロカプセ
ルを含有する下記の画像記録層塗布液５を用い、表７に
示した基板の組み合わせでを作製した。画像記録層の乾
燥はオーブンで１００℃で６０秒間行い、乾燥塗布量は
０．７ｇ／ｍ² であった。次いで、得られた平版印刷版
原版を、実施例１と同様に露光し、印刷した。印刷結果
は表７に示した。

【０２９７】 （画像記録層塗布液５） 製造例２のマイクロカプセル 固形分換算で５ｇ 水 ６０ｇ

【０２９８】

【表７】

【０２９９】［実施例１０１〜１２０（サーマルポジタ
イプの画像記録層）及び比較例１１，１２］表８に示し
た基板（支持体）上に、下記組成の下塗液を塗布し、８
０℃で１５秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗
膜の被覆量は１０ｍｇ／ｍ² であった。次いで得られた
平版印刷用原版を以下の条件で露光し、印刷した。印刷
結果は表８に示した。

【０３００】＜下塗液組成＞ ・下記高分子化合物 ０．２ｇ ・メタノール １００ｇ ・水 １ｇ

【０３０１】

【化６】

【０３０２】更に、下記組成の感熱層塗布液を調製し、
下塗りした平版印刷版用支持体に、この感熱層塗布液を
乾燥後の塗布量（感熱層塗布量）が１．７ｇ／ｍ² にな
るよう塗布し、乾燥させて感熱層（サーマルポジタイプ
の画像記録層）を形成させ、平版印刷版原版を得た。

【０３０３】＜感熱層塗布液組成＞ ・ノボラック樹脂（ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール＝
６０／４０、重量平均分子量７，０００、未反応クレゾ
ール０．５質量％含有） １．０ｇ ・下記構造式で表されるシアニン染料Ａ ０．１ｇ ・テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０５ｇ ・ｐ−トルエンスルホン酸 ０．００２ｇ ・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ−β
−ナフタレンスルホン酸にしたもの ０．０２ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日
本インキ化学工業社製） ０．０５ｇ ・メチルエチルケトン １２ｇ

【０３０４】

【化７】

【０３０５】露光および現像処理 上記で得られた各平版印刷原版には、下記の方法でサー
マルポジタイプの画像記録層の露光および現像処理を行
い、平版印刷版を得た。

【０３０６】平版印刷版原版を出力５００ｍＷ、波長８
３０ｎｍビーム径１７μｍ（１／ｅ ² ）の半導体レーザ
ーを装備したＣＲＥＯ社製ＴｒｅｎｎｄＳｅｔｔｅｒ３
２４４を用いて主走査速度５ｍ／秒、版面エネルギー量
５０ｍＪ／ｃｍ² で像様露光した。その後、非還元糖と
塩基とを組み合わせたＤ−ソルビット／酸化カリウムＫ
₂Ｏよりなるカリウム塩５．０質量％およびオルフィン
ＡＫ−０２（日信化学社製）０．０１５質量％を含有す
る水溶液１Ｌに１ｇのＣ₁₂Ｈ₂₅Ｎ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＯＯ
Ｎａ）₂ を添加したアルカリ現像液を用いて現像処理を
行った。現像処理は、上記アルカリ現像液を満たした自
動現像機ＰＳ９００ＮＰ（富士写真フイルム（株）製）
を用いて、現像温度２５℃、１２秒の条件で行った。現
像処理が終了した後、水洗工程を経て、ガム（ＦＰ−２
Ｗ（１：１））等で処理して、製版が完了した平版印刷
版を得た。

【０３０７】＜平版印刷版の評価＞上記で得られた平版
印刷版の耐汚れ性、耐放置汚れ性、耐刷性および水上が
りの見やすさを下記の方法で評価した。 （３）耐汚れ性 三菱ダイヤ型Ｆ２印刷機（三菱重工業社製）で、ＤＩＣ
−ＧＥＯＳ（ｓ）紅のインキを用いて印刷し、１万枚印
刷した後におけるブランケットの汚れを目視で評価し
た。結果を表８に示す。耐汚れ性をブランケットの汚れ
の程度により１０段階評価した。数字が大きいほど耐汚
れ性に優れることを示す。

【０３０８】（４）耐刷性 小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、大日本
インキ化学工業社製のＤＩＣ−ＧＥＯＳ（Ｎ）墨のイン
キを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと
目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷枚数を評
価した。結果を表８に示す。

【０３０９】

【表８】 ［実施例１２１］上記で得られた本発明の基板２０上
に、下記組成の画像記録層塗布液を塗布し、オーブンに
て６０℃で１５０秒間乾燥して実施例１２１の平版印刷
原版を得た。画像記録層塗布液の乾燥塗布量は３．０ｇ
／ｍ² であった。 （画像記録層塗布液６） ・ゾルゲル調製液 ７．０ｇ （テトラメトキシシラン９．２ｇ，エタノール１６．２ｇ，イオン交換水１ ０．２ｇ 及び０．１モル／リットル硝酸水溶液の混合物を調製したもの） ・コロイダルシリカ（平均粒子径２０ｎｍ）の２０％水溶液 ４．０ｇ ・製造例４記載の自己水分散性の疎水性化樹脂微粒子 １０．０ｇ ・光熱変換剤（下記構造のＩＲ）の１．５％水溶液 １０．０ｇ ・イオン交換水 ５ｇ

【０３１０】

【化８】 実施例１と同様にして、製版し現像処理することなく、
そのまま印刷した。印刷物の印刷画質は、地汚れのない
鮮明なものであり、耐刷枚数２万枚以上の良好な結果を
得た。

【０３１１】

【発明の効果】本発明によれば、デジタル信号に基づい
た赤外線走査露光後、処理を行うことなくそのまま印刷
機に装着して印刷可能な平版印刷版原版であって、良好
な機上現像性を有し、高感度、かつ高耐刷性であり、し
かも印刷での汚れ難さやインキ払い性も良好な感熱性の
平版印刷版原版を提供できる。また、従来のサーマル型
の感熱層を設け、赤外線露光後、現像を行った平版印刷
原版であって、高感度かつ耐刷性を有し、しかも印刷で
の汚れ難さや、インキ払い性も良好な感熱性平版印刷版
原版を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に好適に用いられる交流を用いた電気
化学的粗面化処理に用いる台形波の一例を示す波形図で
ある。

【図２】 本発明の平版印刷版原版のアルミニウム基板
の製造に好適に用いられる電気化学的粗面化処理用ラジ
アル型セルの一例を示す側面図である。

【図３】 本発明の平版印刷版原版の親水性皮膜の膜厚
方向の熱伝導率の測定に用いることができるサーモコン
パレータの概略図である。

【符号の説明】 １１ アルミニウム板 １２ ラジアルドラムローラ １３ａ、１３ｂ 主極 １４ 酸性水溶液 １５ 溶液供給口 １６ スリット １７ 溶液通路 １８ 補助陽極 １９ａ、１９ｂ サイリスタ ２０ 交流電源 ２１ 主電解槽 ２２ 補助陽極槽 ３０ サーモコンパレータ ３１ チップ ３２ リザーバ ３３ 電熱ヒーター ３４ 加熱用ジャケット ３５ 熱電対 ３６ ヒートシンク ３７ 皮膜 ３８ 金属基体 ３９ 接触式温度計 ４０ チップ先端温度記録計 ４１ ヒートシンク温度記録計 ４２ リザーバ温度記録計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２５Ｄ 11/16 ３０１ Ｃ２５Ｄ 11/16 ３０１ 11/18 ３０１ 11/18 ３０１Ａ 11/20 ３０１ 11/20 ３０１ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/004 ５０５ 7/004 ５０５ 7/09 ５０１ 7/09 ５０１ (72)発明者 前本 一夫 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2C034 BA00 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03 BH03 CB54 CC20 DA10 DA18 DA20 DA36 2H096 AA07 BA16 BA20 CA03 EA04 2H114 AA04 AA10 AA14 AA22 AA23 BA02 BA10 DA04 DA09 DA41 DA74 DA75 EA01 EA03 EA04 EA08 FA01 FA04 FA06 FA07 GA08 GA09

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】粗面化処理を施された金属基体上に膜厚方
   向の熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）である
   親水性皮膜を形成してなる平版印刷版用支持体。
2. 【請求項２】前記親水性皮膜の膜厚が、０．１〜５μｍ
   である請求項１に記載の平版印刷版用支持体。
3. 【請求項３】請求項１または２に記載の平版印刷版用支
   持体上に、赤外線レーザー露光により書き込み可能な記
   録層を設けてなる平版印刷版原版。
4. 【請求項４】塩酸を含有する水溶液を用いて電気化学的
   粗面化処理され、熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫ
   である親水性皮膜を有する平版印刷版用支持体上に、赤
   外線レーザー露光により書き込み可能な記録層を有する
   平版印刷版原版。
5. 【請求項５】塩酸を含有する水溶液を用いて電気化学的
   粗面化処理され、密度が１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³
   及び／又は空隙率が２０〜７０％である親水性皮膜を有
   する平版印刷版用支持体上に、赤外線レーザー露光によ
   り書き込み可能な記録層を有する平版印刷版原版。
6. 【請求項６】粗面化形状の小ピットの平均開口径が０．
   ０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開口径に対す
   る比が０．１〜０．５であり、熱伝導率が０．０５〜
   ０．５Ｗ／ｍＫである親水性皮膜を有する平版印刷版用
   支持体上に、赤外線レーザー露光により書き込み可能な
   記録層を有する平版印刷版原版。
7. 【請求項７】粗面化形状の小ピットの平均開口径が０．
   ０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開口径に対す
   る比が０．１〜０．５であり、密度が１０００〜３２０
   ０ｋｇ／ｍ³ 及び／又は空隙率が２０〜７０％である親
   水性皮膜を有する平版印刷版用支持体上に、赤外線レー
   ザー露光により書き込み可能な記録層を有する平版印刷
   版原版。
8. 【請求項８】前記平版印刷版用支持体の大きなうねりの
   平均開口径が３〜２０μｍであることを特徴とする請求
   項４から請求項７のいずれかに記載の平版印刷版原版。
9. 【請求項９】前記親水性皮膜が陽極酸化皮膜であること
   を特徴とする請求項４から請求項８のいずれかに記載の
   平版印刷版原版。
10. 【請求項１０】前記陽極酸化皮膜量が３．２ｇ／ｍ² 以
    上であることを特徴とする請求項９に記載の平版印刷版
    原版。
11. 【請求項１１】前記陽極酸化皮膜の表層のポア径が４０
    ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９又は請求項１
    ０に記載の平版印刷版原版。
12. 【請求項１２】前記陽極酸化皮膜が封孔処理されている
    ことを特徴とする請求項９から請求項１１のいずれかに
    記載の平版印刷版原版。
13. 【請求項１３】前記陽極酸化皮膜上に平均粒径８〜８０
    ０ｎｍからなる粒子の層を設けることを特徴とする請求
    項９から請求項１２のいずれかに記載の平版印刷版原
    版。
14. 【請求項１４】前記陽極酸化皮膜が２段階以上の陽極酸
    化処理により形成されることを特徴とする請求項９から
    請求項１３のいずれかに記載の平版印刷版原版。
15. 【請求項１５】前記１段階目で硫酸を含有する電解液で
    陽極酸化を行い、２段階目以降にリン酸を含有する電解
    液で陽極酸化することを特徴とする請求項１４に記載の
    平版印刷版原版。
16. 【請求項１６】前記記録層が、 （ａ）熱反応性官能基を有する微粒子ポリマー、また
    は、 （ｂ）熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイク
    ロカプセルを含有する感熱層である請求項３から請求項
    １５のいずれかに記載の平版印刷版原版。
17. 【請求項１７】請求項３から請求項１６のいずれかに記
    載の平版印刷版原版を、レーザー光によって露光しその
    まま印刷機に取り付けて印刷するか、または、印刷機に
    取り付けた後にレーザー光によって露光しそのまま印刷
    することを特徴とする平版印刷版の製版および印刷方
    法。