JP2002076319A - 固体撮像素子 - Google Patents

固体撮像素子

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JP2002076319A JP2000257464A JP2000257464A JP2002076319A JP 2002076319 A JP2002076319 A JP 2002076319A JP 2000257464 A JP2000257464 A JP 2000257464A JP 2000257464 A JP2000257464 A JP 2000257464A JP 2002076319 A JP2002076319 A JP 2002076319A
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shunt
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 伝搬遅延を抑制し、かつ駆動周波数を低減す
ることにより、多画素化や大画面化を図ることができる
固体撮像素子を提供する。 【解決手段】 画素がマトリクス状に配置され、各画素
列毎に蓄積された信号電荷を転送する垂直転送レジスタ
3が設けられ、この垂直転送レジスタ3の転送電極にシ
ャント配線4が接続され、このシャント配線4が垂直転
送レジスタ3と交差する方向に伸びて撮像領域2外のバ
スライン5に接続されている固体撮像素子1を構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、転送レジスタに接
続してシャント配線を形成して成る固体撮像素子に係わ
る。
【0002】
【従来の技術】例えば撮像サイズが2/3型(2/3イ
ンチ)またはそれ以上である固体撮像素子や、フレーム
レートが例えばHD/SD規格(1/30秒、1/60
秒)のように高い固体撮像素子、さらには高速フレーム
シフト動作のあるFIT構造のCCD固体撮像素子等で
は、垂直転送クロックの伝搬遅延を抑制する目的でシャ
ント配線を設けている。
【0003】このシャント配線を設けた固体撮像素子の
基本構造は、撮像領域に対して水平転送レジスタとは反
対側にシャントバスラインを配置して、このバスライン
からシャント配線を各画素列に平行に延ばすようにして
いる。このようにして各画素列に対してシャント配線が
設けられるようにしている。
【0004】従来のシャント配線を設けたCCD固体撮
像素子の概略構成図(平面図)を図4に示す。このCC
D固体撮像素子51は、撮像領域52内にマトリクス状
に配置されたセンサから成る画素(図5参照)の各列に
対応して垂直方向に伸びる垂直転送レジスタ53が設け
られ、この垂直転送レジスタ53の端部に接続して撮像
領域52の図中下部に水平転送レジスタ56が設けられ
ている。水平転送レジスタ56には出力バッファ57が
接続されている。これにより、信号電荷は矢印で示すよ
うに、垂直転送レジスタ53では下方に転送されて、水
平転送レジスタ56に送られる。そして、水平転送レジ
スタ56では左に転送されて出力バッファ57を経て出
力される。
【0005】撮像領域52の図中上部にはシャント配線
54用バスライン55が配置され、このバスライン55
からシャント配線54が垂直転送レジスタ53と平行に
下方へ伸びている。バスライン55は、四角形のループ
形状の4本の配線B1,B2,B3,B4から構成され
ている。これらバスライン55の各配線B1,B2,B
3,B4には、それぞれ第1相〜第4相の駆動パルスφ
V1,φV2,φV3,φV4が印加される。また、バ
スライン55は、シャント配線54を介して、該当する
駆動パルスφV1,φV2,φV3,φV4を印加する
垂直転送レジスタ53の転送電極に接続される。
【0006】このループ状のバスライン55の撮像領域
52側(下側)にシャント配線54が接続され、反対の
上側には外部から駆動パルスφV1〜φV4を印加する
ためのパッド58の配線が接続されている。
【0007】また、図5に図4のCCD固体撮像素子5
1の撮像領域の拡大図を示す。シャント配線54は、多
結晶シリコンから成る転送電極61(61A,61B)
に、多結晶シリコンから成るバッファ配線(緩衝配線)
62を介して接続されている。このバッファ配線62
は、上層のシャント配線54と下層の転送電極61の間
に配置され、シャント配線54を裏打ちするように、シ
ャント配線54と平行に垂直方向に伸びるように配置さ
れている。そして、バッファ配線62は、コンタクト部
63を介して所定の転送電極61即ち第1層の転送電極
61A或いは第2層の転送電極61Bに、コンタクト部
64を介して所定のシャント配線54に、それぞれ電気
的に接続される。
【0008】バッファ配線62を設けたことにより、転
送電極61とシャント配線54とを直接接続させた場合
に発生する、垂直転送レジスタ53のチャネルのポテン
シャルが変化する現象を防止することができる。
【0009】そして、アルミやタングステン等の高融点
金属から成るシャント配線54を設けることにより、垂
直転送レジスタ53の転送のための配線抵抗を低抵抗化
して、垂直転送レジスタ53における伝搬遅延を抑制す
ることができるものである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、今後必要と
なる固体撮像素子、例えば1000万画素等の多画素や
35mm以上の大画面のCCD固体撮像素子において
は、上述の垂直方向のシャント配線54を設けただけで
は伝搬遅延を抑制することが難しくなる。
【0011】また、多画素化した場合に、全ての信号を
1つの出力から取り出すには、非常に高い水平駆動周波
数を必要とするため、技術的に実現が不可能となる。
【0012】そこで、画面(撮像領域)を分割し、分割
出力(多チャンネル出力)で信号を取り出すことによ
り、駆動周波数を下げる方法が考えられる。
【0013】しかしながら、現在使われている垂直方向
のシャント配線54の構造では、図4に示したように撮
像領域52の図中上側にバスライン55が配置されてい
るため、水平転送レジスタ56は撮像領域52の図中下
側にしか設けられない。このため、画面分割をする場合
には、図6に示すように撮像領域を左右2つの領域52
L,52Rに分けることに限定される。この場合、水平
転送レジスタ56を左右に2分割して、2つの水平転送
手ジスタ56L,56Rとして、それぞれに出力バッフ
ァ57L,57Rを設けて左右に出力する構成とする。
バスライン55も2つの領域52L,52Rにそれぞれ
設けて、各領域52L,52Rのシャント配線54を接
続するようにする。
【0014】従って、2つの出力を得るのが限界であ
り、駆動周波数を半分程度に低減するに留まってしま
う。
【0015】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、伝搬遅延を抑制し、かつ駆動周波数を低減する
ことにより、多画素化や大画面化を図ることができる固
体撮像素子を提供するものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明の固体撮像素子
は、画素がマトリクス状に配置され、各画素列毎に蓄積
された信号電荷を転送する垂直転送レジスタが設けら
れ、この垂直転送レジスタの転送電極にシャント配線が
接続され、このシャント配線が垂直転送レジスタと交差
する方向に伸びて撮像領域外のバスラインに接続されて
いるものである。
【0017】上述の本発明の構成によれば、シャント配
線が垂直転送レジスタと交差する方向に伸びていること
により、シャント配線に接続されるバスラインは垂直転
送レジスタの端部に接続される水平転送レジスタとは別
の位置に配置される。従って、例えば撮像領域の左右に
それぞれバスラインを、撮像領域の上下にそれぞれ水平
転送レジスタを設けることが可能になる。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明は、画素がマトリクス状に
配置され、各画素列毎に蓄積された信号電荷を転送する
垂直転送レジスタが設けられ、垂直転送レジスタの転送
電極にシャント配線が接続され、シャント配線が垂直転
送レジスタと交差する方向に伸びて撮像領域外のバスラ
インに接続されている固体撮像素子である。
【0019】また本発明は、上記固体撮像素子におい
て、シャント配線が、画素間上に配置されている構成と
する。
【0020】また本発明は、上記固体撮像素子におい
て、垂直転送レジスタが2分割され、2分割された垂直
転送レジスタの端部に接続してそれぞれ水平転送レジス
タが設けられた構成とする。
【0021】図1は本発明の一実施の形態として固体撮
像素子の概略構成図(平面図)を示す。また、図1の固
体撮像素子の撮像領域の拡大図を図2に示す。尚、図1
では画素を構成するセンサの図示は省略している。この
固体撮像素子1は、図2に示すようにセンサ10から成
る画素がマトリクス状に配置され、画素10の各列に対
応して蓄積された信号電荷を転送する垂直転送レジスタ
3が設けられている。
【0022】特に本実施の形態においては、垂直転送レ
ジスタ3の伝搬遅延を抑制するためのシャント配線4
が、図中上下方向の垂直転送レジスタ3に交差する図中
水平方向に伸びて形成されている。このシャント配線4
は、アルミ配線或いはタングステン等の高融点金属の配
線により形成される。シャント配線4を設けたことによ
り、垂直転送レジスタ3の転送用の配線の低抵抗化を図
り、垂直転送レジスタ3における伝搬遅延を抑制するこ
とができる。
【0023】そして、シャント配線4用のバスライン5
は、水平方向の撮像領域2外に配置されている。
【0024】さらに本実施の形態では、撮像領域2をそ
のほぼ中央で上下左右に4分割しており、これに伴って
シャント配線4を左右に分割し、垂直転送レジスタ3を
上下に分割している。そして、4分割された撮像領域2
のそれぞれに対して、シャント配線4用のバスライン5
と、水平転送レジスタ6A,6B,6C,6Dと出力バ
ッファ7A,7B,7C,7Dを設けている。
【0025】これにより、撮像領域2の上半分の2つの
領域2A,2Cでは、信号電荷が垂直転送レジスタ3内
で図中上方に転送され、撮像領域2の上にある水平転送
レジスタ6A,6Cに送られる。一方、撮像領域2の下
半分の2つの領域2B,2Dでは、信号電荷が垂直転送
レジスタ3内で図中下方に転送され、撮像領域2の下に
ある水平転送レジスタ6B,6Dに送られる。
【0026】左側の水平転送レジスタ6A,6Bでは、
信号電荷が図1中左方向に転送され、右側の水平転送レ
ジスタ6C,6Dでは、信号電荷が図1中右方向に転送
される。これにより、各水平転送レジスタ6A,6B,
6C,6Dに送られた信号電荷は、それぞれ出力バッフ
ァ7A,7B,7C,7Dを経て出力される。従って、
4チャンネルの出力を得ることができる。
【0027】シャント配線4のバスライン5は、撮像領
域2外の左右の位置に、撮像領域2の4分割された各領
域2A,2B,2C,2Dに対応して左右2カ所ずつ合
計4カ所設けられている。
【0028】このバスライン5は、図4及び図6と同様
の四角形のループ形状の4本の配線B1,B2,B3,
B4から構成されている。一番外側の配線B1には第1
相の駆動パルスφV1が印加され、その内側の配線B2
には第2相の駆動パルスφV2が印加され、その内側の
配線B3には第3相の駆動パルスφV3が印加され、最
も内側の配線B4には第4相の駆動パルスφV4が印加
される。これらバスライン5の各配線B1,B2,B
3,B4は、シャント配線4を介して、該当する駆動パ
ルスφV1,φV2,φV3,φV4を印加する垂直転
送レジスタ3の転送電極に接続される。
【0029】このループ状のバスライン5の撮像領域2
側にシャント配線4が接続され、反対側には外部から駆
動パルスφV1〜φV4を印加するためのパッド8の配
線が接続されている。
【0030】図2に示すように、水平方向に伸びるシャ
ント配線4は、垂直転送レジスタ3と交差すると共に、
センサ10上にかからないように、垂直方向に隣接する
画素のセンサ10間を通るように配置されている。
【0031】また、シャント配線4は、コンタクト部1
4により多結晶シリコン層から成るバッファ配線(緩衝
配線)12に電気的に接続されている。このバッファ配
線12は、垂直転送レジスタ3と同じく垂直方向に伸び
て形成される。バッファ配線12は、さらにコンタクト
部13により所定の転送電極11即ち第1層の転送電極
11A或いは第2層の転送電極11Bに電気的に接続さ
れる。
【0032】これにより、バッファ配線12を介して、
シャント配線4と転送電極11とが電気的に接続され
る。シャント配線4と転送電極11とが直接接続された
構成とすると、垂直転送レジスタ3のチャネルのポテン
シャルが変化することがある。即ちシャント配線4によ
り駆動パルスを印加したとき、そのシャント配線4と接
続されてない方の転送電極11との間で容量結合が生じ
て、転送電極11下のポテンシャルが変化してしまう。
バッファ配線12を設けていることにより、このポテン
シャルが変化する現象を防止することができる。
【0033】そして、第1相の駆動パルスφV1は第1
層の転送電極11Aに供給され、第2相の駆動パルスφ
V2は第2層の転送電極11Bに供給され、第3相の駆
動パルスφV3は第1層の転送電極11Aに供給され、
第4相の駆動パルスφV4は第2層の転送電極11Bに
供給される。従って、転送電極11(11A,11B)
から構成される垂直転送レジスタ3において4相駆動の
転送がなされる。
【0034】さらに、図2のA−A´における断面図を
図3に示す。バッファ配線12は、絶縁膜16を介して
転送電極11A,11Bの上方にあり、コンタクト部1
3を介して所定の転送電極11(この図では左下の第2
層の転送電極11B)に接続されている。シャント配線
4は、絶縁膜17を介してバッファ配線12の上方にあ
り、バッファ配線12と所定(この図では左側)のシャ
ント配線4とがコンタクト部14を介して接続されてい
る。
【0035】また、シャント配線4の上には、絶縁膜1
8を介してアルミ膜やタングステン膜による遮光膜15
が形成されている。この遮光膜15は、図示しないがセ
ンサ10上には開口を有している。
【0036】本実施の形態では、シャント配線4が水平
方向に伸びて、センサ10の間を通るように形成されて
いるため、図3に示すように垂直方向には一部分にのみ
形成されている。このため、シャント配線4のない部
分、即ちセンサ10の横に当たる部分では、遮光膜15
が低く形成されており、垂直方向にシャント配線を形成
した従来の場合より低く形成される。従って、センサ1
0上の遮光膜15の開口の面積が同じとすると、遮光膜
15が低くなったことから、センサ10に斜めに入射す
る光を増やすことができ、感度を向上させることができ
る利点を有する。
【0037】尚、本実施の形態では、各バスライン5が
長方形のループ状となっているが、シャント配線4及び
パッド8の配線とバスライン5とのコンタクトが無理な
く取れる構成であれば、ループ状に限らずその他の形状
としてもよい。
【0038】上述の本実施の形態によれば、シャント配
線4を垂直転送レジスタ3と交差する水平方向に伸ばし
て形成したことにより、シャント配線4のバスライン5
を撮像領域2の左右に配置することができ、即ち垂直転
送レジスタ3の端部に接続される水平転送レジスタ6
A,6B,6C,6Dとは別の位置に配置することがで
きる。
【0039】従って、水平転送レジスタ6A,6B,6
C,6Dを撮像領域2の下だけでなく、上側にも設ける
ことができる。これにより、撮像領域2を上下に分割
し、上下に水平転送レジスタ6A,6C及び6B,6D
を設けてそれぞれ出力することが可能になる。
【0040】本実施の形態では、さらに撮像領域2を左
右にも分割して合計4分割し、撮像領域2を4分割した
各領域2A,2B,2C,2Dに対応してそれぞれ水平
転送レジスタ6A,6B,6C,6D及び出力バッファ
7A,7B,7C,7Dを設けたことにより、4チャン
ネルの出力を得ることができる。従って、駆動周波数を
約1/4に大幅に低減することが可能になる。
【0041】また、シャント配線4が水平方向に伸びる
シャント配線4を垂直方向のセンサ10の間に配置した
ことにより、センサ10の横にはシャント配線4がない
ので、シャント配線4のさらに上に形成される遮光膜1
5の高さをセンサ10の横では低くすることができる。
これにより、従来の垂直方向のシャント配線の場合と比
較して、センサ10の横での遮光膜15の高さを低くす
ることができるため、センサ10に斜めに入射する光を
増やして感度を向上させることが可能になる。
【0042】本発明は、上述の実施の形態に限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他
様々な構成が取り得る。
【0043】
【発明の効果】上述の本発明によれば、シャント配線が
垂直転送レジスタと交差する方向に伸びていることによ
り、シャント配線に接続されるバスラインは垂直転送レ
ジスタの端部に接続される水平転送レジスタとは別の位
置に配置される。これにより、撮像領域の両側にそれぞ
れ水平転送レジスタを設けることが可能になり、従来の
水平転送レジスタが片側だけに設けられていた場合と比
較して、出力のチャンネルを増やすことができる。
【0044】従って本発明により、シャント配線により
伝搬遅延を抑制すると共に、出力のチャンネルを増やし
て駆動周波数を低減することができ、固体撮像素子の多
画素化や大画面化を図ることができる。
【0045】また、シャント配線を画素間上に配置する
構成としたときには、画素の横にはシャント配線がない
分、その上に形成される遮光膜を低くすることができ、
感度を向上させることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の固体撮像素子の概略構
成図(平面図)である。
【図2】図1の固体撮像素子の撮像領域の拡大図であ
る。
【図3】図2のA−A´における断面図である。
【図4】従来のシャント配線を設けたCCD固体撮像素
子の概略構成図(平面図)である。
【図5】図4のCCD固体撮像素子の撮像領域の拡大図
である。
【図6】従来のシャント配線を設けた構成において、分
割出力とした場合のCCD固体撮像素子の概略構成図
(平面図)である。
【符号の説明】
1 固体撮像素子、2 撮像領域、3 垂直転送レジス
タ、4 シャント配線、5,B1,B2,B3,B4
バスライン、6A,6B,6C,6D 水平転送レジス
タ、7A,7B,7C,7D 出力バッファ、8 パッ
ド、10 センサ、11,11A,11B 転送電極、
12 バッファ配線(緩衝配線)、13,14 コンタ
クト部、15 遮光膜、16,17,18 絶縁膜

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 画素がマトリクス状に配置され、各画素
    列毎に蓄積された信号電荷を転送する垂直転送レジスタ
    が設けられ、 上記垂直転送レジスタの転送電極にシャント配線が接続
    され、 上記シャント配線が、上記垂直転送レジスタと交差する
    方向に伸びて撮像領域外のバスラインに接続されている
    ことを特徴とする固体撮像素子。
  2. 【請求項2】 上記シャント配線が、上記画素間上に配
    置されていることを特徴とする請求項1に記載の固体撮
    像素子。
  3. 【請求項3】 上記垂直転送レジスタが2分割され、2
    分割された垂直転送レジスタの端部に接続してそれぞれ
    水平転送レジスタが設けられたことを特徴とする請求項
    1に記載の固体撮像素子。
JP2000257464A 2000-08-28 2000-08-28 固体撮像素子 Pending JP2002076319A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000257464A JP2002076319A (ja) 2000-08-28 2000-08-28 固体撮像素子
US09/939,365 US20020024066A1 (en) 2000-08-28 2001-08-24 Solid-state image pickup device

Applications Claiming Priority (1)

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JP2000257464A JP2002076319A (ja) 2000-08-28 2000-08-28 固体撮像素子

Publications (2)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7173298B2 (en) 2004-02-25 2007-02-06 Sharp Kabushiki Kaisha Solid-state image pickup device
CN100454983C (zh) * 2004-07-29 2009-01-21 索尼株式会社 固态成像装置、其制造和驱动方法和照相机
US7679662B2 (en) 2005-11-11 2010-03-16 Sony Corporation Solid-state imaging element and solid-state imaging device
KR101103089B1 (ko) 2004-05-07 2012-01-04 소니 주식회사 고체 촬상 소자, 고체 촬상 소자의 제조 방법 및 그 구동방법
JP2013074296A (ja) * 2011-09-26 2013-04-22 P Mccartain John メタルストラップ型ccd画像センサ

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3560240B2 (ja) * 2002-01-18 2004-09-02 ソニー株式会社 Ccd撮像素子
JP4710305B2 (ja) * 2004-11-15 2011-06-29 ソニー株式会社 固体撮像素子
JP2009238875A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Panasonic Corp 固体撮像装置
CN105611197B (zh) * 2015-12-23 2018-08-17 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 无抗溢出功能帧转移ccd的抗饱和读出方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03246970A (ja) * 1990-02-26 1991-11-05 Sony Corp 固体撮像素子
JPH04180265A (ja) * 1990-11-15 1992-06-26 Sony Corp 固体撮像装置
JPH04216672A (ja) * 1990-12-14 1992-08-06 Sony Corp 固体撮像装置
JPH0522667A (ja) * 1991-07-10 1993-01-29 Sony Corp 固体撮像装置
JPH05145855A (ja) * 1991-11-21 1993-06-11 Sony Corp 固体撮像装置
JPH06252376A (ja) * 1993-03-01 1994-09-09 Sony Corp 固体撮像素子の配線構造
JPH09219506A (ja) * 1996-02-07 1997-08-19 Sony Corp 固体撮像素子
JPH11121734A (ja) * 1997-10-13 1999-04-30 Sony Corp 固体撮像素子
JPH11234570A (ja) * 1998-02-17 1999-08-27 Nec Corp 固体撮像装置の駆動方法及び駆動装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03246970A (ja) * 1990-02-26 1991-11-05 Sony Corp 固体撮像素子
JPH04180265A (ja) * 1990-11-15 1992-06-26 Sony Corp 固体撮像装置
JPH04216672A (ja) * 1990-12-14 1992-08-06 Sony Corp 固体撮像装置
JPH0522667A (ja) * 1991-07-10 1993-01-29 Sony Corp 固体撮像装置
JPH05145855A (ja) * 1991-11-21 1993-06-11 Sony Corp 固体撮像装置
JPH06252376A (ja) * 1993-03-01 1994-09-09 Sony Corp 固体撮像素子の配線構造
JPH09219506A (ja) * 1996-02-07 1997-08-19 Sony Corp 固体撮像素子
JPH11121734A (ja) * 1997-10-13 1999-04-30 Sony Corp 固体撮像素子
JPH11234570A (ja) * 1998-02-17 1999-08-27 Nec Corp 固体撮像装置の駆動方法及び駆動装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7173298B2 (en) 2004-02-25 2007-02-06 Sharp Kabushiki Kaisha Solid-state image pickup device
KR101103089B1 (ko) 2004-05-07 2012-01-04 소니 주식회사 고체 촬상 소자, 고체 촬상 소자의 제조 방법 및 그 구동방법
CN100454983C (zh) * 2004-07-29 2009-01-21 索尼株式会社 固态成像装置、其制造和驱动方法和照相机
US7679662B2 (en) 2005-11-11 2010-03-16 Sony Corporation Solid-state imaging element and solid-state imaging device
JP2013074296A (ja) * 2011-09-26 2013-04-22 P Mccartain John メタルストラップ型ccd画像センサ

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