JP2001353973A - Printing intaglio and offset printing method using the same - Google Patents

Printing intaglio and offset printing method using the same

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JP2001353973A
JP2001353973A JP2000181253A JP2000181253A JP2001353973A JP 2001353973 A JP2001353973 A JP 2001353973A JP 2000181253 A JP2000181253 A JP 2000181253A JP 2000181253 A JP2000181253 A JP 2000181253A JP 2001353973 A JP2001353973 A JP 2001353973A
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JP
Japan
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pattern
printing
intaglio
ink
patterns
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Japanese (ja)
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Kazunari Yonemoto
一成 米元
Nobuyuki Ishikawa
信行 石川
Masako Midorikawa
理子 緑川
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To print a printing pattern, which has a favorable uniform shape accuracy over a whole surface. SOLUTION: This printing method has solid patterns 112 consisting of recessed parts filled with a printing ink 107. The recessed parts consisting of dummy patterns 120 are formed at the outer peripheral parts of the solid patterns 112. The depth of the recessed part of the formed dummy pattern 120 has the same one of the recessed part of the solid pattern 112. In addition, the dummy patterns are arranged at the positions of wiring line patterns.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品における
電極、回路配線等の微細パターンを印刷するための印刷
用凹版、並びにそれを用いたオフセット印刷方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an intaglio printing plate for printing fine patterns such as electrodes and circuit wiring on electronic components, and an offset printing method using the intaglio plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、回路基板、液晶表示素子、画像形
成装置等の素子及び配線を基板上に配置した電子源基板
を作成する方法は様々な方法が考えられ、その一つとし
て素子電極、配線等全てフォトリソグラフィ法で作成す
る方法がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, various methods have been considered for producing an electron source substrate in which elements such as a circuit board, a liquid crystal display element, and an image forming apparatus and wirings are arranged on the substrate. There is a method in which wiring and the like are all formed by photolithography.

【0003】例えば、微細パターンの配線を形成すると
き、フォトリソグラフィ法では、まず、導電層を形成
し、その上にレジスト層を形成し、このレジスト層を露
光、現像し、レジスト層の無い部分の導電層をエッチン
グし、更に残ったレジスト層を剥離する。
For example, when forming a fine pattern wiring, in the photolithography method, first, a conductive layer is formed, a resist layer is formed thereon, the resist layer is exposed and developed, and a portion without the resist layer is formed. Is etched, and the remaining resist layer is further stripped off.

【0004】ここで、印刷法は、大面積のパターンを形
成するのに適しており、表面伝導型電子放出素子の素子
電極を印刷法により作成することによって、多数の表面
伝導型電子放出素子を基板上に形成することが可能とな
る。また、これはコスト的にも有利である。この印刷法
による素子電極の形成においては、薄膜の形成に適して
いるオフセット印刷技術が使用される。このオフセット
印刷技術を回路基板に応用した例としては、特開平4−
290295号公報に開示されたものがある。当該公報
に開示された基板は、印刷時のパターン伸縮を原因とす
る電極ピッチ寸法のバラツキによる接合不良をなくすた
めに、回路部品に接続される複数の接合電極の角度を変
化させたものである。そして、特開平4−290295
号公報には、電極パターンをオフセット印刷により形成
することが記載されている。
Here, the printing method is suitable for forming a large-area pattern. By forming the device electrodes of the surface conduction electron-emitting device by the printing method, a large number of surface conduction electron-emitting devices can be formed. It can be formed on a substrate. This is also advantageous in terms of cost. In forming the element electrodes by this printing method, an offset printing technique suitable for forming a thin film is used. An example of applying this offset printing technology to a circuit board is disclosed in
There is one disclosed in Japanese Patent Publication No. 290295. The substrate disclosed in this publication has a plurality of bonding electrodes connected to circuit components at different angles in order to eliminate bonding defects due to variations in electrode pitch dimensions due to pattern expansion and contraction during printing. . And Japanese Patent Laid-Open No. 4-290295
Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H11-157, discloses that an electrode pattern is formed by offset printing.

【0005】以下に、電極パターンやカラーフィルタ等
を形成するための一般的なオフセット印刷装置及び方法
について説明する。図5はオフセット印刷装置を示す平
面図であり、図6(a)〜(d)はいずれも従来のオフ
セット印刷工程を示す概略図である。これらの図におい
て、本体フレーム108上にあるブランケット胴110
は、両側にギア111が備えられ、周囲にブランケット
113が装着してある。また、102は印刷ステージで
あり、この印刷ステージ102は、印刷時には、凹版1
25あるいは被印刷物であるワーク106(図6(d)
参照)が真空吸着により固定される。
Hereinafter, a general offset printing apparatus and method for forming an electrode pattern, a color filter, and the like will be described. FIG. 5 is a plan view showing an offset printing apparatus, and FIGS. 6A to 6D are schematic views showing a conventional offset printing process. In these figures, the blanket cylinder 110 on the body frame 108
Has gears 111 on both sides and a blanket 113 mounted around the periphery. Reference numeral 102 denotes a printing stage.
25 or a work 106 which is a printing medium (FIG. 6D)
Is fixed by vacuum suction.

【0006】また、印刷ステージ102は、サーボモー
タにより、1軸方向に移動可能になっている。印刷ステ
ージ102の両側に2本のラックギア109を備えてお
り、印刷ステージ102がブランケット胴110に移動
した場合には、ブランケット胴110のギア111と印
刷ステージ102のラックギア109が精度よく噛み合
って安定動作が可能になっている。また、101はイン
キ107を供給するディスペンサ装置であり、1軸移動
して凹版125上にインキ107をライン状に供給す
る。117はドクタブレードである。
The printing stage 102 can be moved in one axis direction by a servomotor. Two rack gears 109 are provided on both sides of the printing stage 102, and when the printing stage 102 moves to the blanket cylinder 110, the gear 111 of the blanket cylinder 110 and the rack gear 109 of the printing stage 102 are accurately engaged with each other for stable operation. Has become possible. Reference numeral 101 denotes a dispenser device that supplies the ink 107, and supplies the ink 107 linearly to the intaglio 125 by moving one axis. 117 is a doctor blade.

【0007】図6(a)において、印刷ステージ102
上には凹版125が真空吸着されており、ディスペンサ
装置101によって、インキ107が凹版125上にラ
イン供給される。そして、印刷ステージ102の移動に
連れて、ドクタブレード117により、凹版125のパ
ターン凹部にインキ107が充填される。
[0007] In FIG.
The intaglio 125 is vacuum-absorbed on the upper surface, and the ink 107 is supplied in a line onto the intaglio 125 by the dispenser device 101. Then, as the printing stage 102 moves, the ink 107 is filled into the pattern concave portions of the intaglio 125 by the doctor blade 117.

【0008】さらに、図6(b)に示すように、印刷ス
テージ102が移動すると、印刷ステージ102の図5
に示すラックギア109とブランケット胴110の図5
に示すギア111とが精度よく噛み合って安定動作で凹
版125の凹部に充填されたインキ107をブランケッ
ト113上に受理する。
Further, as shown in FIG. 6B, when the printing stage 102 moves, the printing stage 102 shown in FIG.
5 of rack gear 109 and blanket cylinder 110 shown in FIG.
And the gear 107 is accurately engaged with the gear 111 to receive the ink 107 filled in the concave portion of the intaglio 125 on the blanket 113 in a stable operation.

【0009】次いで、印刷ステージ102上の凹版12
5を取り外して、図6(c)に示すように、印刷ステー
ジ102を印刷開始位置まで戻すとともに、ブランケッ
ト胴110も回転初期位置まで戻す。そして、印刷ステ
ージ102上に被印刷物であるワーク106を真空吸着
固定する。
Next, the intaglio 12 on the printing stage 102
6 and the printing stage 102 is returned to the printing start position, and the blanket cylinder 110 is also returned to the rotation initial position, as shown in FIG. Then, a work 106, which is a printing object, is fixed on the printing stage 102 by vacuum suction.

【0010】次いで、図6(d)に示すように、印刷ス
テージ102が移動すると、再度印刷ステージ102の
前記ラックギア109とブランケット胴110の前記ギ
ア111とが精度よく噛み合って安定動作でワーク10
6上に凹版125の有するパターン状にインキ107を
転移する。
Next, as shown in FIG. 6D, when the printing stage 102 moves, the rack gear 109 of the printing stage 102 and the gear 111 of the blanket cylinder 110 are engaged with each other with high precision, and the work 10 is stably operated.
The ink 107 is transferred to the pattern 6 in the pattern of the intaglio 125.

【0011】以上により、印刷工程が終了する。印刷イ
ンキ107は作製するパターンの機能によって適宜選択
することができる。即ち記録用サーマルヘッド等の電極
パターンには、主にAuレジネートペーストと呼ばれる
有機Au金属を含むインキを用い、また、液晶表示装置
等に用いられるカラーフィルタであれば、赤R、緑G、
青B各色の顔料を分散したインキや有機色素を含んだイ
ンキ等が用いられる。
Thus, the printing process is completed. The printing ink 107 can be appropriately selected depending on the function of the pattern to be manufactured. That is, the electrode pattern of the recording thermal head or the like mainly uses an ink containing an organic Au metal called Au resinate paste, and if it is a color filter used for a liquid crystal display device or the like, red R, green G,
An ink in which a pigment of each color of blue B is dispersed, an ink containing an organic dye, and the like are used.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
上記凹版オフセット印刷方法において、大面積印刷のパ
ターン形状は、中央部と外周部では、印刷工程でのイン
キ溶剤雰囲気が異なっているために、外周部でのインキ
乾燥が促進され、このため凹版125からブランケット
113へ転移できるインキ107が減少し、外周部の形
状が細くなってしまうといた印刷パターン形状の分布が
生じていた。
However, in the above-described conventional intaglio offset printing method, the pattern shape of large-area printing is such that the ink solvent atmosphere in the printing process is different between the central part and the peripheral part. The drying of the ink in the part was promoted, so that the amount of the ink 107 that could be transferred from the intaglio 125 to the blanket 113 was reduced, resulting in a distribution of the print pattern shape in which the shape of the outer peripheral portion was thinned.

【0013】本発明は、上述のような従来の問題点を解
決するものであって、インキが凹版に充填されてからブ
ランケットに転移されるまでの凹版内インキの乾燥を溶
剤雰囲気によって抑制制御し、全面均一に形状精度の良
好な印刷パターンを印刷可能とする印刷用凹版とそれを
用いたオフセット印刷方法を提供することを目的とする
ものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and suppresses and controls the drying of the ink in the intaglio from the time when the ink is filled into the intaglio until the ink is transferred to the blanket by means of a solvent atmosphere. It is an object of the present invention to provide an intaglio printing plate capable of printing a print pattern with good shape accuracy uniformly over the entire surface and an offset printing method using the same.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明に係る印刷用凹版は、印刷用インキが充填さ
れる凹部からなる実パターンを有し、該実パターンの外
周部にダミーパターンの凹部を形成することを特徴とす
る。形成された前記ダミーパターンは基本的に前記実パ
ターン部と同一深さ、同一形状であることが望ましく、
形成された前記ダミーパターンは後工程で形成される配
線ラインパターン位置に形成されており、最終的にダミ
ーパターンは被覆されてしまう。そのため、除去作業あ
るいは後工程での影響がない。
In order to achieve this object, an intaglio printing plate according to the present invention has an actual pattern consisting of a recess filled with printing ink, and a dummy pattern is provided on the outer periphery of the actual pattern. It is characterized in that a concave portion of the pattern is formed. Preferably, the formed dummy pattern is basically the same depth and the same shape as the actual pattern portion,
The formed dummy pattern is formed at a wiring line pattern position formed in a later step, and the dummy pattern is eventually covered. Therefore, there is no influence on the removing operation or the subsequent process.

【0015】また、本発明に係るオフセット印刷方法
は、前記本発明に係る印刷用凹版を使用し、該印刷用凹
版の実パターン凹部及び周辺のダミーパターン凹部にイ
ンキを充填し、次いでブランケットに全パターンを一旦
転写した後、ワーク上に全パターンを印刷することを特
徴とする。
Further, the offset printing method according to the present invention uses the intaglio printing for printing according to the present invention, fills the actual pattern concave portions and the peripheral dummy pattern concave portions of the printing intaglio with ink, and then completely fills the blanket. After the pattern is once transferred, all the patterns are printed on the work.

【0016】[0016]

【作用】本発明に係る印刷用凹版は、実パターン凹部の
更に外周部にダミーパターン凹部がとりまいて形成され
ており、これにより実パターン全面での形状均一化が可
能になる。これは、通常インキ充填後にブランケットへ
の転移前の時間に凹版パターン外周端部のインキ乾燥は
どうしても中央部に比べて促進されてしまい、外周部パ
ターン形状の細りが生じてしまうが、必要実パターンの
外周部にインキ溜りとしてのダミーパターンを形成して
おくことで、周辺部の溶剤雰囲気がリッチになり、乾燥
が抑制される。
In the printing intaglio plate according to the present invention, the dummy pattern recesses are formed on the outer periphery of the actual pattern recesses so that the shape of the entire real pattern can be made uniform. This is because during the time before the transfer to the blanket after filling the ink, the ink drying at the outer edge of the intaglio pattern is inevitably accelerated compared to the center, and the outer peripheral pattern shape becomes thinner. By forming a dummy pattern as an ink reservoir on the outer peripheral portion of the substrate, the solvent atmosphere in the peripheral portion becomes rich, and drying is suppressed.

【0017】このとき付加するダミーパターンは、実パ
ターンと深さが同一でよく、単一エッチング工程で形成
できるため、凹版製作コストの上昇にはならずに乾燥対
策に効果がある。
At this time, the dummy pattern to be added may have the same depth as the actual pattern and can be formed by a single etching process, so that it is effective in preventing drying without increasing the intaglio manufacturing cost.

【0018】また、本発明に係る印刷方法では、前記本
発明に係る印刷用凹版を使用し、この凹版の凹部にイン
キを充填し、次いでブランケットに全パターンを一旦転
写した後、ワーク上に全パターンを印刷転写する。この
時、溶剤雰囲気制御に必要な容量インキを保持できる凹
部パターンであるため、ワークに最終的にダミーパター
ンが印刷されてしまうが、このダミーパターン部は後工
程の配線ライン等の印刷位置に配置することで、後工程
で被覆されてしまい、影響がなく、コスト高の起因にな
る除去工程などが不要である。
Further, in the printing method according to the present invention, the intaglio for printing according to the present invention is used, ink is filled in the recesses of the intaglio, and then all the patterns are once transferred to a blanket, and then are completely transferred onto the work. Print-transfer the pattern. At this time, a dummy pattern is finally printed on the work because the concave pattern can hold the ink required for controlling the solvent atmosphere, but this dummy pattern portion is disposed at a printing position such as a wiring line in a later process. By doing so, it is covered in a later step, there is no influence, and a removing step or the like that causes an increase in cost is unnecessary.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の印刷用
凹版は、実パターンの外周部に実パターン凹部と同じ深
さの近似形状のダミーパターン凹部を形成したことを特
徴とするものであり、ダミーパターン凹部に保持された
インキの揮発により、外周部の実パターンも乾燥が抑制
され、全面に渡り均一な印刷パターン形状が得られると
いう作用を有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The intaglio printing plate according to the first aspect of the present invention is characterized in that a dummy pattern concave portion having an approximate shape having the same depth as the actual pattern concave portion is formed on the outer periphery of the actual pattern. In addition, due to the volatilization of the ink held in the dummy pattern concave portions, the actual pattern on the outer peripheral portion is also suppressed from drying, and has an effect that a uniform print pattern shape can be obtained over the entire surface.

【0020】本発明の請求項2に記載の印刷用凹版は、
請求項1に記載のダミーパターンが実パターンと同じ深
さであることを特徴としたものであり、凹版製作時の工
程が複雑にならず、コストが抑えられるという作用を有
する。
The intaglio printing for printing according to claim 2 of the present invention comprises:
The dummy pattern according to the first aspect has the same depth as the actual pattern, and has an effect that a process for producing an intaglio is not complicated and cost is suppressed.

【0021】本発明の請求項3に記載の印刷用凹版は、
請求項1に記載のダミーパターンの形成位置が、後工程
の配線ライン等の印刷位置に配置することを特徴とした
ものであり、印刷されたダミーパターンは後工程で被覆
されてしまうため、後工程にも影響がなく、コスト高の
起因になる除去工程などが不要であり、コストが抑えら
れるという作用を有する。
The intaglio printing for printing according to claim 3 of the present invention comprises:
The formation position of the dummy pattern according to claim 1 is arranged at a printing position of a wiring line or the like in a later process, and the printed dummy pattern is covered in a later process. There is no effect on the process, and there is no need for a removal process or the like that causes an increase in cost, which has the effect of reducing costs.

【0022】本発明の請求項4に記載のオフセット印刷
方法は、請求項1〜3のいずれかに記載の印刷用凹版を
使用して、外周に形成されたダミーパターンまで印刷す
るものであり、これにより実パターン部の外周部もダミ
ーパターンのインキ揮発により、乾燥が抑制されるの
で、印刷全面で高精度のパターン形状が得られる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an offset printing method for printing up to a dummy pattern formed on the outer periphery using the intaglio printing for printing according to any one of the first to third aspects. As a result, the outer peripheral portion of the actual pattern portion is also suppressed from drying due to volatilization of the ink of the dummy pattern, so that a highly accurate pattern shape can be obtained over the entire printing surface.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。図1(a)は本発明に係る印刷用凹版
の実施例を示し、(1)が平面図であり、(2)が断面
図である。ここで、凹版105は、ガラス基材(青板)
あるいは金属基材(真鍮にNi−Crコーティング付
き)であって、幅350×長さ300×厚み2.8mm
サイズであり、必要実パターン112は長辺210mm
×短辺160mmの範囲にあり、幅100μm、長さ3
00μm、深さ8μmの矩形パッドパターンが多数個整
列配置されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A shows an embodiment of a printing intaglio according to the present invention, wherein FIG. 1A is a plan view and FIG. 1B is a sectional view. Here, the intaglio 105 is a glass substrate (blue plate)
Alternatively, it is a metal base material (brass with Ni-Cr coating) and has a width of 350 x a length of 300 x a thickness of 2.8 mm.
The actual pattern 112 is 210 mm long.
× In the range of short side 160mm, width 100μm, length 3
A large number of rectangular pad patterns of 00 μm and 8 μm in depth are arranged.

【0024】また、更に実パターン部の外周部に100
×150サイズで実パターンと同一深さ8μmの矩形ダ
ミーパターン120が上下左右5行5列ずつ整列配置さ
れている。なお、印刷方向左右のパターン間隔は30μ
mが設計値である(概略図では上下等間隔に図示されて
いる)。ここで外周部に形成されているダミーパターン
は後工程で150μmの直線配線が形成される位置に配
置されている。なお、凹版105は印刷ステージ102
上に真空吸着(図示せず)されて印刷工程中移動する。
Further, the outer periphery of the actual pattern portion is
A rectangular dummy pattern 120 having a size of × 150 and a depth of 8 μm, which is the same as the actual pattern, is arranged and arranged in 5 rows, 5 columns and 5 columns. The pattern interval on the left and right in the printing direction is 30μ.
m is a design value (illustrated at equal intervals in the schematic diagram). Here, the dummy pattern formed on the outer peripheral portion is arranged at a position where a 150 μm linear wiring is formed in a later step. The intaglio 105 is used for the printing stage 102.
It is vacuum-absorbed (not shown) and moves during the printing process.

【0025】ここで本実施例に係る印刷凹版を使用した
オフセット印刷方法について、更に図1を用いて説明す
る。図1(b)に示すように、まず凹版105上でディ
スペンサ装置101よりインキ107が供給され、次い
でドクタブレード(MDC社製レギュラ)117が所定
の角度(ここでは凹版面との角度60度)、押し込み量
1.5mmの状態にて凹版105に接触したまま移動
し、インキ充填工程が行われる。また、インキ107
は、有機金属から成るPtレジネートペースト(エヌ・
イー・ケムキャット(株)社製、エム・オー・ペースト
のE−3100)をBCA溶剤にて希釈して用いてい
る。次いで、図1(c)に示すように、ブランケット胴
110に取り付けられたブランケット113に凹版10
5から印刷パターン114を受理する。
Here, the offset printing method using the intaglio printing according to the present embodiment will be further described with reference to FIG. As shown in FIG. 1B, first, the ink 107 is supplied from the dispenser device 101 onto the intaglio 105, and then the doctor blade (MDC regular) 117 is set at a predetermined angle (here, the angle with the intaglio surface is 60 degrees). Then, it moves while being in contact with the intaglio 105 with the indentation amount of 1.5 mm, and the ink filling step is performed. In addition, the ink 107
Is a Pt resinate paste composed of an organic metal (N.
E-Chemcat Co., Ltd., MO Paste E-3100) is diluted with a BCA solvent and used. Next, as shown in FIG. 1C, the intaglio 10 is placed on a blanket 113 attached to the blanket cylinder 110.
5, the print pattern 114 is received.

【0026】さらに、図1(d)に示すブランケット1
13からワーク106に印刷パターン114が転移印刷
される。図1(e)はワーク106に印刷パターン11
4がオフセット印刷された基板を示す平面図である。
Further, the blanket 1 shown in FIG.
From 13, the print pattern 114 is transferred and printed on the work 106. FIG. 1E shows a print pattern 11 on the work 106.
FIG. 4 is a plan view showing a substrate on which offset printing is performed.

【0027】さらに図1(f)は、ワーク106にライ
ン配線115及び116を形成した後の印刷基板を示し
ており、周辺のダミーパターンは必要な範囲でライン配
線115,116により被覆されている。
FIG. 1F shows the printed circuit board after the line wirings 115 and 116 are formed on the work 106. The peripheral dummy pattern is covered with the line wirings 115 and 116 in a necessary range. .

【0028】また、図2(a)はインキ充填後の凹版1
05上インキ揮発雰囲気の模式図であり、溶剤雰囲気1
21が形成されることで、凹版105の凹部内インキ1
07の乾燥が抑制される。さらに図2(b)はワーク1
06に転移印刷された印刷パターン114の形状概略図
であり、中央部実パターン(1)の印刷間隔は設計値3
0μmに対して乾燥が抑制されて31μm、外周部実パ
ターン(2)の印刷間隔もまた乾燥抑制されて、33μ
mとなって印刷実パターン全面に渡り、形状精度よく印
刷できた。なお、最外周部のダミーパターン(3)は乾
燥が進み、印刷間隔は40μmでパターン形状が細くな
ってしまったが、このパターン部は機能上不要であり、
なた図1(f)で示したようにライン配線で被覆される
ため、後工程で問題は生じない。なお、凹版105周辺
部に配置するダミーパターンの凹部形状はインキ保持能
力が実パターンの凹部と同様のレベルである必要がある
が、近似矩形や、円形パターンでも構わず、実施例の形
状や実施例の配置に限定するものではない。更にダミー
パターンの形状深さは実パターンと同一深さであり、こ
れにより、凹版105作成のエッチング工程が1回で済
み、凹版製作コストの上昇を抑えられる。次いで比較の
ため、従来の凹版125を使用したオフセット印刷方法
について、図3を用いて説明すると、次の通りである。
FIG. 2A shows an intaglio 1 after ink filling.
FIG. 5 is a schematic diagram of a volatile atmosphere of the upper ink, and a solvent atmosphere 1
21 is formed, the ink 1 in the concave portion of the intaglio 105 is formed.
07 is suppressed. Further, FIG.
06 is a schematic diagram of the shape of the print pattern 114 transferred and printed, and the printing interval of the central actual pattern (1) is a design value 3
Drying is suppressed to 0 μm to 31 μm, and the printing interval of the outer peripheral actual pattern (2) is also suppressed to 33 μm by drying.
m, printing was performed with good shape accuracy over the entire printed actual pattern. The outermost peripheral dummy pattern (3) dries, and the printing interval is 40 μm, and the pattern shape becomes thin. However, this pattern portion is unnecessary in function,
As shown in FIG. 1 (f), the wiring is covered with the line wiring, so that no problem occurs in the subsequent steps. In addition, the concave shape of the dummy pattern disposed around the intaglio 105 needs to have the same level of ink holding ability as the concave portion of the actual pattern, but may be an approximate rectangular or circular pattern. It is not limited to the example arrangement. Further, the shape depth of the dummy pattern is the same as that of the actual pattern, so that only one etching step for forming the intaglio 105 is required, and an increase in intaglio manufacturing cost can be suppressed. Next, for comparison, a conventional offset printing method using the intaglio 125 will be described with reference to FIG.

【0029】まず、凹版125上には、実パターン11
2の凹部が整列配置で形成されており(図3(a))、
凹版125へインキ107を充填した後(図3
(b))、ブランケットへの受理を経てワーク106へ
と印刷パターンが転移印刷される(図示せず)。
First, the actual pattern 11 is placed on the intaglio 125.
2 are formed in an aligned arrangement (FIG. 3A),
After filling the ink 107 into the intaglio 125 (FIG. 3)
(B)), the print pattern is transferred and printed on the work 106 after receiving the blanket (not shown).

【0030】図3(c)はワーク106に印刷パターン
114がオフセット印刷された基板を示す平面図であ
り、図3(d)はライン配線115及び116の形成後
の印刷基板を示す平面図である。ここで図4(a)は従
来の凹版125でのインキ107の充填後の凹版125
上におけるインキ揮発雰囲気を示す模式図であり、溶剤
雰囲気121が形成されることで、凹版125内のイン
キ107の乾燥が抑制されるが、中央部に比べて周辺パ
ターンは溶剤雰囲気121が乏しくなり、乾燥が進んで
しまう。
FIG. 3C is a plan view showing a substrate on which the print pattern 114 is offset-printed on the work 106, and FIG. 3D is a plan view showing the printed substrate after line wirings 115 and 116 are formed. is there. Here, FIG. 4A shows the intaglio 125 after the ink 107 is filled in the conventional intaglio 125.
FIG. 4 is a schematic diagram showing an ink volatilization atmosphere above, and the solvent atmosphere 121 is formed, whereby drying of the ink 107 in the intaglio 125 is suppressed. However, the solvent atmosphere 121 is less in the peripheral pattern than in the center. , Drying proceeds.

【0031】さらに図4(b)はワーク106に転移印
刷された印刷パターン114の形状を示す概略図であ
り、中央部実パターン(1)の印刷間隔は設計値30μ
mに対して乾燥が抑制されて31μmであったが、外周
部実パターン(2)の印刷間隔は乾燥が進み、印刷間隔
は38μmでパターン形状が細くなってしまい、形状ば
らつきの大きい印刷物となった。
FIG. 4B is a schematic view showing the shape of the print pattern 114 transferred and printed on the work 106. The print interval of the central real pattern (1) is set at a design value of 30 μm.
Although the drying was suppressed to 31 μm with respect to m, the printing interval of the outer peripheral actual pattern (2) progressed, and the printing interval became 38 μm, the pattern shape became narrower, and the printed material had large shape variation. Was.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る印刷
用凹版を使用したオフセット印刷方法では、凹版周辺部
でのインキ乾燥を抑制できるので、全面で高精度の印刷
パターン形状を低コストで得られる。
As described above, in the offset printing method using the intaglio printing for printing according to the present invention, the drying of the ink around the intaglio can be suppressed, so that the printing pattern shape with high precision can be formed over the entire surface at low cost. can get.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 (a)は本発明の実施例に係る印刷用凹版を
示しており、(1)が平面図、(2)が断面図であり、
(b)〜(d)は本発明の実施例に係るオフセット印刷
方法の作動工程を示す断面図、(e)は本発明の実施例
で得られたオフセット印刷基板を示す平面図、(f)は
本発明の実施例で得られたライン配線形成後の印刷基板
を示す平面図である。
1A shows an intaglio printing for printing according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a plan view, FIG.
(B) to (d) are cross-sectional views showing operation steps of the offset printing method according to the embodiment of the present invention, (e) is a plan view showing the offset printing substrate obtained in the embodiment of the present invention, and (f). FIG. 3 is a plan view showing a printed circuit board after line wiring formation obtained in an example of the present invention.

【図2】 (a)は本発明の実施例に係る凹版インキ揮
発雰囲気の模式図であり、(b)は本発明の実施例で得
られた印刷パターン形状の概略を示す側面図(部分拡大
平面図(1)〜(3)を含む)である。
FIG. 2A is a schematic view of an intaglio ink volatilizing atmosphere according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a side view (partially enlarged) showing an outline of a print pattern shape obtained in the embodiment of the present invention. It is a top view (including (1)-(3)).

【図3】 (a)は従来の印刷凹版の平面図、(b)従
来のオフセット印刷方法のインキ充填工程を示す断面
図、(c)は従来得られていたオフセット印刷基板を示
す平面図、(d)は従来得られていたライン配線形成後
の印刷基板を示す平面図である。
FIG. 3A is a plan view of a conventional printing intaglio, FIG. 3B is a cross-sectional view showing an ink filling step of a conventional offset printing method, and FIG. 3C is a plan view showing a conventionally obtained offset printing substrate; (D) is a plan view showing a printed board after line wiring formation conventionally obtained.

【図4】 (a)は従来得られていた凹版インキ揮発雰
囲気の模式図であり、(b)は従来得られていた印刷パ
ターン形状の概略を示す側面図であって、(1)及び
(2)はその部分拡大平面図である。
FIG. 4 (a) is a schematic view of a conventionally obtained intaglio ink volatile atmosphere, and FIG. 4 (b) is a side view schematically showing a conventionally obtained print pattern shape, in which (1) and (1) 2) is a partially enlarged plan view thereof.

【図5】 オフセット印刷装置を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an offset printing apparatus.

【図6】 (a)〜(d)はいずれも従来のオフセット
印刷工程を示す概略図である。
FIGS. 6A to 6D are schematic diagrams showing a conventional offset printing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101:ディスペンサ装置、102:印刷ステージ、1
05:凹版、106:ワーク、107:インキ、10
8:本体フレーム、109:ラックギア、110:ブラ
ンケット胴、111:ギア、112:実パターン、11
3:ブランケット、114:印刷パターン、115,1
16:配線パターン、117:ドクタブレード、12
0:ダミーパターン、121:溶剤雰囲気、125:凹
版。
101: dispenser device, 102: printing stage, 1
05: intaglio, 106: work, 107: ink, 10
8: body frame, 109: rack gear, 110: blanket cylinder, 111: gear, 112: actual pattern, 11
3: blanket, 114: print pattern, 115, 1
16: wiring pattern, 117: doctor blade, 12
0: dummy pattern, 121: solvent atmosphere, 125: intaglio.

フロントページの続き (72)発明者 緑川 理子 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 Fターム(参考) 2H113 AA01 AA02 BA03 CA17 2H114 AA03 AA08 DA01 DA04 EA04 5E343 AA02 BB23 DD02 FF02 GG08Continued on the front page (72) Inventor Riko Midorikawa 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo F-term in Canon Inc. (reference) 2H113 AA01 AA02 BA03 CA17 2H114 AA03 AA08 DA01 DA04 EA04 5E343 AA02 BB23 DD02 FF02 GG08

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 印刷用インキが充填される凹部からなる
実パターンを有し、該実パターンの外周部にダミーパタ
ーンの凹部を形成することを特徴とする印刷用凹版。
1. An intaglio printing plate having a real pattern comprising a concave portion filled with a printing ink, wherein a concave portion of a dummy pattern is formed on an outer peripheral portion of the real pattern.
【請求項2】 形成された前記ダミーパターンの凹部が
前記実パターンの凹部と同一深さであることを特徴とす
る請求項1に記載の印刷用凹版。
2. The printing intaglio according to claim 1, wherein the recesses of the formed dummy pattern have the same depth as the recesses of the actual pattern.
【請求項3】 形成された前記ダミーパターンの凹部が
後工程で形成される配線ラインパターン位置に配置され
ていることを特徴とする請求項1または2に記載の印刷
用凹版。
3. The intaglio printing plate according to claim 1, wherein the recesses of the formed dummy pattern are arranged at wiring line pattern positions formed in a later step.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の印刷用
凹版の凹部にインキを充填し、次いでブランケットに全
パターンを一旦転写した後、ワーク上に全パターンを印
刷転写することを特徴とするオフセット印刷方法。
4. The method according to claim 1, wherein the ink is filled in a concave portion of the intaglio printing plate according to any one of claims 1 to 3, and then all the patterns are temporarily transferred to a blanket, and then all the patterns are printed and transferred onto a work. Offset printing method.
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