JP2001342178A - 4−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物の製造方法 - Google Patents

4−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物の製造方法

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JP2001342178A
JP2001342178A JP2000166935A JP2000166935A JP2001342178A JP 2001342178 A JP2001342178 A JP 2001342178A JP 2000166935 A JP2000166935 A JP 2000166935A JP 2000166935 A JP2000166935 A JP 2000166935A JP 2001342178 A JP2001342178 A JP 2001342178A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】1,3−ジアルキル−4−メチルピラゾール−
5−カルボン酸化合物の製造法の提供する。 【解決手段】式(I): 【化1】 (式中、R1、R2およびR3は、各々独立して水素原子
またはC1-4のアルキル基を表わす。)で表わされるピ
ラゾール−5−カルボン酸化合物を有機溶媒中、ホルム
アルデヒドおよびその等価体から選ばれた1種以上、鉱
酸およびルイス酸から選ばれた1種以上の酸触媒、並び
に塩化水素の存在下に反応させて式(II): 【化2】 (式中、R1、R2およびR3は、前記と同様の意味を表
わす。)で表わされる4−クロロメチルピラゾール−5
−カルボン酸化合物を得て、続いて還元条件下に脱クロ
ロ化を行なうことを特徴とする、式(III): 【化3】 (式中、R1、R2およびR3は、前記と同様の意味を表
わす。)で表わされる1,3−ジアルキル−4−メチル
ピラゾール−5−カルボン酸化合物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、1,3−ジアルキ
ル−4−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物を製
造する方法に関する。
【0002】1,3−ジアルキル−4−メチルピラゾー
ル−5−カルボン酸化合物は、医農薬等を始めとするフ
ァインケミカルズの中間体として有用な化合物である。
例えば、後述するように、該化合物は殺ダニ活性を有す
るアクリロニトリル化合物の中間体として有用である。
【0003】
【従来の技術及び課題】従来、1,3−ジアルキル−4
−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物は、その効
率的な合成法が知られておらず、1,3,4−トリメチ
ルピラゾール−5−カルボン酸化合物を例にとると、以
下に示す合成例が報告されているのみである。 (1)1,3,4,5−テトラメチルピラゾールを酢酸
中塩素によりクロロ化して、1、3,4−トリメチル−
5−トリクロロメチルピラゾールを得た後に、加水分解
により1,3,4−トリメチルピラゾール−5−カルボ
ン酸を得る方法(Ann.,598巻、186頁、19
56年)。 (2)モノクロロ酢酸誘導体とヒドラジンより2−ヒド
ラジノ酢酸エステルを合成し、次いでジアセチルとの反
応により対応するヒドラゾンを合成、このものを環化し
て3(5),4−ジメチルピラゾール−5(3)−カル
ボン酸エステルを合成し、最後に1位をメチル化して目
的とする1,3,4−トリメチルピラゾール−5−カル
ボン酸エステルを得る方法(Gazz.Chim.It
al.,93巻、748頁、1963年およびAgri
c.Biol.Chem.,48巻、45頁、1984
年)。
【0004】しかし、(1)の方法は、原料のテトラメ
チルピラゾールを大量の塩素ガスで処理するが、目的と
する1,3,4−トリメチル−5−トリクロロメチルピ
ラゾールの収率は61%と低く、1,4−ジメチル−
3,5−ビス(トリクロロメチル)ピラゾールを始め種
々のポリ塩素化化合物が副生する。これらの分離や副生
する塩化水素の処理を含め、容易に実施可能な方法とは
言えない。
【0005】また、(2)の方法は、ヒドラジノ酢酸誘
導体の収率が50%、続くジアセチルとのヒドラゾン合
成が85%、最終のアルキル化工程が31%と低収率で
あり、また合成原料の一つであるジアセチルは、その安
定性や臭気に問題があり、工程の長さを考えあわせると
必ずしも実用性が高い方法とは言えない。
【0006】なお、4−位が無置換のピラゾール−5−
カルボン酸化合物はAnn.279,219頁(189
4).に記載の方法に従い、2−ヒドロキシ−4−オキ
ソ−2−アルケン酸エステルとアルキルヒドラジンとの
反応または2−ヒドロキシ−4−オキソ−2−アルケン
酸エステルにヒドラジンを反応させた後、アルキル化を
行うことにより合成することができる。しかし、本合成
の中間体である2−ヒドロキシ−4−オキソ−2−アル
ケン酸エステルの3−位のメチル化による2−ヒドロキ
シ−3−メチル−4−オキソ−2−アルケン酸エステル
の合成は極めて困難であり、現在まで有効な合成法が知
られていないのが現状である。
【0007】一方、ピラゾールのクロロメチル化につい
ては、特開平7−224041号公報、特開平7−25
8219および特開平11−5972号公報に、5−エ
トキシカルボニル−1,3−ジメチルピラゾールもしく
は5−エトキシカルボニル−3−エチル−1−メチルピ
ラゾールをリン酸、濃塩酸および酢酸の存在下、パラホ
ルムアルデヒドを反応させることによる方法が記載され
ているが、クロロメチル化された生成物の収率が30〜
40%と低く、ヒドロキシメチル体などの副生成物が生
じるという点で改良の余地を残している。
【0008】本発明の目的は、従来、有効な合成手段が
知られていなかった1,3−ジアルキル−4−メチルピ
ラゾール−5−カルボン酸化合物のより簡便でかつ優れ
た合成方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく本目的化合物の各種新規合成経路を徹底的
に精査した。その結果、従来容易に得られることが知ら
れている4−位無置換のピラゾールを原料とし、ピラゾ
ール核のクロロメチル化を有機溶媒中で行い、さらに還
元的脱クロロ化を行なうことで目的とする1,3−ジア
ルキル−4−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物
が高収率で得られることを見出し、本発明を完成するに
至った。
【0010】すなわち、本発明は式(I):
【0011】
【化5】
【0012】(式中、R1、R2およびR3は、各々独立
して水素原子またはC1-4のアルキル基を表わす。)で
表わされるピラゾール−5−カルボン酸化合物を有機溶
媒中、ホルムアルデヒドおよびその等価体から選ばれた
1種以上、鉱酸およびルイス酸から選ばれた1種以上の
酸触媒、並びに塩化水素の存在下に反応させて式(I
I):
【0013】
【化6】
【0014】(式中、R1、R2およびR3は、前記と同
様の意味を表わす。)で表わされる4−クロロメチルピ
ラゾール−5−カルボン酸化合物を得て、続いて還元条
件下に脱クロロ化を行なうことを特徴とする、式(II
I):
【0015】
【化7】
【0016】(式中、R1、R2およびR3は、前記と同
様の意味を表わす。)で表わされる1,3−ジアルキル
−4−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物の製造
方法、特に、式(I)、(II)および(III)において、
1およびR3がメチル基を表わし、R2が水素原子また
はC1-4のアルキル基を表わす製造方法に関するもので
ある。
【0017】また、本発明は式(III):
【0018】
【化8】
【0019】(式中、R1およびR3はメチル基を表し、
2はエチル基を表わす。)で表される化合物に関する
ものである。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【0021】本発明における1,3−ジアルキル−4−
メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物の製造経路
は、式(I)で表わされるピラゾール−5−カルボン酸
化合物を有機溶媒中、ホルムアルデヒドおよびその等価
体から選ばれた1種以上、鉱酸およびルイス酸から選ば
れた1種以上の酸触媒、並びに塩化水素の存在下に反応
させて式(II)で表わされる4−クロロメチルピラゾー
ル−5−カルボン酸化合物を得る段階と、先に得られた
式(II)の4−クロロメチルピラゾール−5−カルボン
酸化合物を、還元条件下に脱クロロ化を行ない式(II
I)で表わされる1,3−ジアルキル−4−メチルピラ
ゾール−5−カルボン酸化合物を得る段階の2段階から
構成される。
【0022】この2段階の反応は、各々独立に行なって
も良いが、前段の生成物を単離精製することなく連続的
に行なうことも可能である。
【0023】本発明の原料となる4−位が無置換のピラ
ゾール−5−カルボン酸化合物は、前述の通りAnn.
279,219頁(1894).に記載の方法に従い、
下記に示す縮合、環化の2段階またはアルキル化を加え
た3段階の反応により容易に得ることができる。
【0024】
【化9】
【0025】(式中、R1、R2およびR3は前記と同様
の意味を表わす) 第1段階の縮合段階はメチルケトン化合物とシュウ酸エ
ステルを塩基の存在下に縮合させて2−ヒドロキシ−4
−オキソ−2−アルケン酸エステルを得る反応であり、
種々の条件下で収率良く進行する。
【0026】第2段階の環化・アルキル化段階は、置換
ヒドラジンを用いて一段階で、または無置換ヒドラジン
により、N−無置換のピラゾールを得て、次いでアルキ
ル化により二段階で、本発明の原料となる1,3−ジア
ルキルピラゾール−5−カルボン酸化合物を合成する反
応であり、いずれも高収率で目的物を得ることができ
る。
【0027】特に、二段階反応で行なう場合でも、アル
キル化反応はメチル化の場合、ジメチル硫酸を用いて、
低温で行なうことで極めて高選択的に1,3−ジアルキ
ルピラゾール−5−カルボン酸化合物を得ることができ
る。
【0028】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。
【0029】式(I)−(III)のピラゾール化合物にお
いて、置換基R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素
原子またはC1-4のアルキル基を表わす。
【0030】C1-4のアルキル基としては、通常、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n
−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル
基が挙げられる。
【0031】各置換基について原料事情や合成の簡便さ
を考慮した場合、R1としてはメチル基、エチル基、ノ
ルマルプロピル基、イソブチル基等が好ましいが、特に
メチル基が好ましい。R2としては水素原子、メチル
基、エチル基、n−ブチル基が好ましく、特に水素原
子、メチル基、エチル基が好ましい。R3としては、合
成的には種々の化合物が得られるものの、実用上は水素
原子、メチル基、エチル基が好ましく、特にメチル基が
好ましい。
【0032】次に、本発明の反応の各段階について詳細
に述べる。
【0033】本発明の第1段階は、ピラゾール−5−カ
ルボン酸化合物を、ホルムアルデヒドおよびその等価体
から選ばれた1種以上、鉱酸およびルイス酸から選ばれ
た1種以上の酸触媒、並びに塩化水素の存在下に反応さ
せて4−クロロメチルピラゾール−5−カルボン酸化合
物を得る段階である。
【0034】反応に用いるホルムアルデヒドの等価体と
しては、ホルマリン水溶液、パラホルムアルデヒド、
1,3,5−トリオキサン等が挙げられるが、パラホル
ムアルデヒドまたは1,3,5−トリオキサンが、取扱
い、収率などの点から好ましい。
【0035】これらホルムアルデヒド類の使用量は、基
質のピラゾールに対して、0.5〜10当量が好まし
く、特に0.8〜3当量を用いることが操作上も好まし
い。
【0036】反応に用いる塩化水素としては、塩化水素
ガス、塩酸等を用いることができるが、生産性を考慮す
ると、反応系内の塩化水素が高濃度の方が好ましく、塩
化水素ガスまたは通常入手可能な塩酸(35%濃度以
上)を用いることがさらに好ましい。塩化水素の使用量
は、基質のピラゾールに対して、0.5〜15当量が好
ましく、特に0.8〜4当量が好ましい。但し塩化水素
ガスとして系内に連続的に供給する場合は、さらに過剰
量を供給し、過剰分を反応系外で処理することもでき
る。
【0037】反応に用いる酸触媒としては、上記塩化水
素も当然触媒作用を有するが、その他各種の酸を単独に
または組み合せて使用することで、さらに良好な結果を
得ることができる。例えば、硫酸、リン酸、酢酸、クロ
ロスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸等のプロトン酸、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩
化第二鉄、三フッ化ホウ素、塩化第一スズ、塩化第二ス
ズ等のルイス酸等を用いることができるが、鉱酸または
ルイス酸が好ましく、その中では硫酸、リン酸、塩化亜
鉛、塩化アルミニウムが一般的であり、特に、硫酸、リ
ン酸が好ましい。
【0038】酸触媒の使用量としては、基質のピラゾー
ルに対して、0.001〜1.0当量が好ましく、特に
0.01〜0.5当量を用いることが収率の点また後処
理の操作上からも好ましい。
【0039】反応に用いる溶媒としては、本反応に不活
性な溶媒であれば特に制限は無く、例えば、ジエチルエ
−テル、メチル−t−ブチルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエ−テル、ジメトキシメタン、ジエトキ
シメタン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、エチ
レングリコ−ルジエチルエ−テル、エチレングリコ−ル
ジブチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−
テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエチ
レングリコ−ルジブチルエ−テル、トリエチレングリコ
−ルジメチルエ−テル、1,4−ジオキサン等のエ−テ
ル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシ
クロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族
炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、テトラクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、o−
ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、p−ジクロ
ロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラヒドロナフタリン
等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニト
リル等のニトリル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、プロピオン酸エチル等のエステル類、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N−メチルピロリドン等のアミド類、1,3−ジメチル
イミダゾリジノン、N,N,N’,N’−テトラメチル
尿素等の尿素類および水が挙げられる。これらは単独ま
たは組合せて使用できる。
【0040】上述のように、本反応は水を含む系でも実
施が可能であるが、反応条件によっては、生成物中にヒ
ドロキシメチル体やその類縁体のように、本反応の目的
に好ましくない副生物を大量に副生する場合がある。従
って、本反応を目的にあった結果を与えるようにするに
は、反応に用いる酸、溶媒等に由来する水分を、反応系
内濃度として20%以下に制御することが好ましい。
【0041】本反応は、通常、室温から高温で行なうこ
とができる。しかし、反応試剤の使用量を含めて経済的
な製造を考慮した場合の温度範囲としては、30〜20
0℃が好ましく、特に50〜150℃または用いる溶媒
の沸点の範囲で行なうことが好ましい。
【0042】反応時間は、用いる試剤の量、濃度、反応
温度等により一定しないが、通常は0.5〜20時間、
好ましくは1〜10時間の範囲で終了するように、条件
を設定することが好ましい。
【0043】反応終了後は、必要により溶媒を留去し、
粗反応物に水および水と混合しない溶媒を加えて充分に
洗浄後、有機層より蒸留、カラムクロマトグラフィ−等
の常法により目的とする4−クロロメチルピラゾール−
5−カルボン酸化合物を高収率で単離することが可能で
あるが、本発明の目的をより合理的に達成するために
は、第1段階で得られた抽出液をそのまま次の第2段階
に使用することが好ましい。
【0044】本発明の第2段階は、4−クロロメチルピ
ラゾール−5−カルボン酸化合物を、還元的に脱クロロ
化して4−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物を
得る段階である。
【0045】本反応の還元反応条件としては、遷移金属
触媒を用いた接触還元方法または金属水素化物あるいは
金属水素錯化合物を用いた還元方法が好ましい。
【0046】遷移金属触媒を用いた接触還元方法として
はパラジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、ニッケル
等の各種遷移金属を触媒として用いることができるが、
生産性、経済性等からパラジウムまたはニッケルを含む
触媒が最も一般的であり好ましい。
【0047】触媒の形態としては、遷移金属錯体、金属
化合物、担持固体触媒等の形態が好ましいが、パラジウ
ム担持シリカ触媒、パラジウム担持アルミナ触媒、パラ
ジウム担持炭素触媒、パラジウム担持硫酸バリウム触
媒、パラジウム担持ゼオライト触媒、パラジウム担持シ
リカ・アルミナ触媒、ラネ−ニッケル等の担持または固
体触媒が操作性、経済性を考慮して特に好ましい。
【0048】触媒の使用量は、触媒上の金属担持量、比
表面積等により一定しないが、使用する基質のピラゾー
ル1モルあたり、触媒金属として0.00001〜0.
1グラム原子が好ましく、0.0001〜0.05グラ
ム原子がさらに好ましい。
【0049】反応には水素を共存させることが一般的で
ある。使用する水素としては、純水素ガスでも、反応に
不活性な窒素、アルゴン等のガスにより希釈された水素
ガスを用いてもよい。
【0050】反応系内の水素分圧は、通常0.005〜
10MPaの範囲から選択することが好ましく、また水
素分圧の高い方が反応そのものは短時間で進行するが、
操作性や設備の点から0.01〜5MPaの範囲で反応
を行なうことが特に好ましい。また希釈水素ガスを使用
する場合の全圧も0.01〜5MPaに準じた圧力範囲
に設定することが好ましい。
【0051】何れの圧力においても、量論量以上の水素
が反応系内に共存するように制御することが必要であ
る。
【0052】本反応では水素ガスを使用せずに、水素源
として以下の化合物を共存させて、接触的加水分解によ
り目的物を得ることもできる。
【0053】この場合に用いることのできる水素源とし
ては、ギ酸アンモニウム、ギ酸トリメチルアンモニウ
ム、ギ酸トリエチルアンモニウム、亜リン酸ニ水素ナト
リウム等が挙げられる。
【0054】水素源の使用量としては、基質のピラゾー
ルに対して0.8〜10当量が好ましく、特に0.9〜
3当量を用いることが操作上も好ましい。
【0055】本反応では、脱クロロ化反応に伴い、量論
量の塩化水素が生成する。この塩化水素は、反応系に存
在していても特に問題はないが、系内に塩基を存在させ
て中和を行ないながら反応を行なうこともできる。
【0056】反応に用いることのできる塩基類として
は、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、ト
リ−n−ブチルアミン、ピリジン、2−ピコリン、3−
ピコリン、4−ピコリン、メチルエチルピリジン、N,
N−ジメチルアニリン等の有機塩基類、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリ
ウム等の無機塩基類等が使用可能である。
【0057】上記塩基の使用量は基質のピラゾールに対
して、0.5〜5当量が好ましく、特に0.9〜3当量
を用いることが操作上も好ましい。
【0058】本発明のもう一つの脱クロロ化方法として
金属水素化物または金属水素錯化合物を用いる方法が挙
げられる。
【0059】反応に用いることのできる金属水素化物ま
たは金属水素錯化合物としては、水素化アルミニウムリ
チウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素
ナトリウム、水素化銅リチウム等が挙げられる。
【0060】上記金属水素化物または金属水素錯化合物
の使用量は基質のピラゾールに対して、ハイドライド基
準で0.8〜5当量が好ましく、特に0.9〜3当量を
用いることが操作上も好ましい。
【0061】本発明の第2段階は、通常、基質のピラゾ
ール化合物を有機溶媒中に溶解して反応を行なうことが
好ましい。
【0062】反応に用いることのできる溶媒としては、
反応に直接関与しないものであれば各種のものを用いる
ことが可能であり、上記何れかの還元方法に使用可能な
ものを列挙すれば、メタノ−ル、エタノ−ル、1−プロ
パノ−ル、2−プロパノ−ル、1−ブタノ−ル、2−ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、2−メチル−2−プロパノ
−ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、i−プロ
ピルセロソルブ、ジエチレングリコ−ルモノメチルエ−
テル、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テル、ジエ
チレングリコ−ルモノブチルエ−テル、シクロヘキサノ
−ル、ベンジルアルコ−ル等のアルコ−ル類、ジエチル
エ−テル、メチル−t−ブチルエ−テル、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエ−テル、ジメトキシメタン、ジエト
キシメタン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、エ
チレングリコ−ルジエチルエ−テル、エチレングリコ−
ルジブチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ
−テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエ
チレングリコ−ルジブチルエ−テル、トリエチレングリ
コ−ルジメチルエ−テル、1,4−ジオキサン等のエ−
テル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪
族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエ
タン、テトラクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、
o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、p−ジ
クロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラヒドロナフタ
リン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、プロピオ
ニトリル等のニトリル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、プロピオン酸エチル、安息香酸メチル、安息
香酸エチル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロ
リドン等のアミド類、1,3−ジメチルイミダゾリジノ
ン、N,N,N’,N’−テトラメチル尿素等の尿素類
および水が挙げられる。これらは単独または組合せて使
用することができる。
【0063】本反応は、反応試剤、方法等にもよるが、
通常、−50℃以上の温度範囲で行なうことができる。
但し、操作性や生産性の点から、0〜120℃の温度範
囲が好ましく、20〜100℃または用いる溶媒の沸点
の範囲で行なうことが特に好ましい。
【0064】反応時間は、用いる試剤の量、濃度、反応
温度等により一定しないが、0.5〜20時間で反応が
終了するように条件を設定することが好ましく、1〜1
0時間で終了するように条件を設定することがさらに好
ましい。
【0065】本発明における反応の終了後は、触媒の分
離、溶媒の留去、有機溶媒による抽出、洗浄等の常法に
よる後処理の後、目的化合物である1,3−ジアルキル
−4−メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物を蒸
留、結晶化等の方法により、純粋な形で高収率で単離す
ることができる。
【0066】
【実施例】以下、実施例をあげ本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0067】〔実施例1〕4−クロロメチル−1,3−
ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの
合成 1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエ
ステル16.9g(0.1モル)を、塩化水素7.30
g(0.2モル)および98%硫酸1.00g(0.0
1モル)を含む1,4−ジオキサン100mlに室温で
添加した。続いてパラホルムアルデヒド6.00g
(0.2モル)を添加した後に、撹拌しながら温度を上
昇させ、温度約90℃において5時間反応させた。同温
にて減圧とし、溶媒を留去した後に冷却し、反応液を氷
水200ml中に注ぎ、次いで生成物をトルエン150
mlで2回抽出した。トルエン層をあわせて水洗した後
の有機層中の成分を、内部標準物質を用いた高速液体ク
ロマトグラフィ−により分析した結果、目的の4−クロ
ロメチル−1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン
酸エチルエステルが、91.5%の収率で得られてい
た。さらにトルエンを減圧下に留去したところ目的物が
純度95%の油状物として20.7g得られた。単離収
率は95%であった。
【0068】得られた4−クロロメチル−1,3−ジメ
チルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの1
−NMRを以下に示す。
【0069】1H−NMRδ(ppm):1.43(3
H,t,J=7.1HZ)、2.30(3H,s)、
4.10(3H,s)、4.40(2H,q,J=7.
1HZ)、4.80(2H,s) 〔実施例2〕4−クロロメチル−1,3−ジメチルピラ
ゾール−5−カルボン酸エチルエステルの合成 1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエ
ステル16.9g(0.1モル)を、35%塩酸10.
43g(0.1モル)、95%硫酸1.00g(0.0
1モル)およびトルエン100mlの混合物に室温で添
加した。続いてパラホルムアルデヒド6.00g(0.
2モル)を添加した後に、撹拌しながら温度を上昇さ
せ、温度90〜100℃において5時間反応させた。冷
却後、反応液に氷水150ml中に注ぎ、有機層を分離
し、引き続き水層にトルエン100mlを加え抽出し
た。トルエン層をあわせて水洗した後の有機層中の成分
を、内部標準物質を用いた高速液体クロマトグラフィ−
により分析した結果、目的の4−クロロメチル−1,3
−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステル
が、69.0%の収率で得られていた。
【0070】〔実施例3〕4−クロロメチル−1,3−
ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの
合成 1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエ
ステル16.9g(0.1モル)を、95%硫酸1.0
0g(0.01モル)および1,4−ジオキサン50m
lの混合物に室温で添加した。続いてパラホルムアルデ
ヒド6.00g(0.2モル)を添加した後に、撹拌し
ながら温度を上昇させ、温度約90℃において塩化水素
ガスを50ml/minの速度で吹き込みながら5時間
反応させた。同温にて減圧とし、溶媒を留去した後に冷
却し、反応液を氷水100ml中に注ぎ、次いで生成物
をトルエン60mlで2回抽出し、水50mlにて2回
洗浄を行なった。得られた有機層中の成分を、内部標準
物質を用いた高速液体クロマトグラフィ−により分析し
た結果、目的の4−クロロメチル−1,3−ジメチルピ
ラゾール−5−カルボン酸エチルエステルが、96.5
%の収率で得られていた。さらにトルエンを減圧下に留
去したところ目的物が純度97%の油状物として21.
10g得られた。単離収率は97%であった。
【0071】〔実施例4〕4−クロロメチル−1,3−
ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの
合成 1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエ
ステル16.9g(0.1モル)を、塩化水素7.30
g(0.2モル)、85%リン酸1.16g(0.01
モル)および1,4−ジオキサン50mlの混合物に室
温で添加した。続いてパラホルムアルデヒド6.00g
(0.2モル)を添加した後に、撹拌しながら温度を上
昇させ、温度約90℃において5時間反応させた。同温
にて減圧とし、溶媒を留去した後に冷却し、反応液を氷
水100ml中に注ぎ、次いで生成物をトルエン60m
lで2回抽出し、水50mlにて2回洗浄を行なった。
得られた有機層中の成分を、内部標準物質を用いた高速
液体クロマトグラフィ−により分析した結果、目的の4
−クロロメチル−1,3−ジメチルピラゾール−5−カ
ルボン酸エチルエステルが、93.1%の収率で得られ
ていた。さらにトルエンを減圧下に留去したところ目的
物が純度95%の油状物として19.80g得られた。
単離収率は91%であった。
【0072】〔実施例5〕4−クロロメチル−1,3−
ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの
合成 1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエ
ステル16.9g(0.1モル)を、塩化アルミニウム
1.33g(0.01モル)、塩化水素9.1g(0.
25モル)および1,4−ジオキサン200mlの混合
溶液に室温で添加した。続いてパラホルムアルデヒド
6.00g(0.2モル)を添加した後に、撹拌しなが
ら温度を上昇させ、温度約90℃において5時間反応さ
せた。同温にて減圧とし、溶媒を留去した後に冷却し、
反応液を氷水100ml中に注ぎ、次いで生成物をトル
エン100mlで2回抽出し、水50mlにて2回洗浄
を行なった。得られた有機層中の成分を、内部標準物質
を用いた高速液体クロマトグラフィ−により分析した結
果、目的の4−クロロメチル−1,3−ジメチルピラゾ
ール−5−カルボン酸エチルエステルが、87.5%の
収率で得られていた。
【0073】〔実施例6〕4−クロロメチル−1,3−
ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの
合成 1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエ
ステル16.9g(0.1モル)を、塩化亜鉛4.09
g(0.03モル)、塩化水素9.1g(0.25モ
ル)および1,4−ジオキサン100mlの混合溶液に
室温で添加した。続いてパラホルムアルデヒド6.00
g(0.2モル)を添加した後に、撹拌しながら温度を
上昇させ、温度約90℃において8時間反応させた。同
温にて減圧とし、溶媒を留去した後に冷却し、反応液を
氷水100ml中に注ぎ、次いで生成物をトルエン10
0mlで2回抽出し、水100mlにて2回洗浄を行な
った。得られた有機層中の成分を、内部標準物質を用い
た高速液体クロマトグラフィ−により分析した結果、目
的の4−クロロメチル−1,3−ジメチルピラゾール−
5−カルボン酸エチルエステルが、81.3%の収率で
得られていた。
【0074】〔実施例7〕4−クロロメチル−3−エチ
ル−1−メチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエス
テルの合成 3−エチル−1−メチルピラゾール−5−カルボン酸エ
チルエステル18.3g(0.1モル)を、95%硫酸
1.00g(0.01モル)および1,4−ジオキサン
50mlの混合物に室温で添加した。続いてパラホルム
アルデヒド6.00g(0.2モル)を添加した後に、
撹拌しながら温度を上昇させ、温度約90℃において塩
化水素ガスを50ml/minの速度で吹き込みながら
5時間反応させた。以下,実施例3と同様の処理と分析
を行ない目的の4−クロロメチル−3−エチル−1−メ
チルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルが、9
2.5%の収率で得られていた。
【0075】〔実施例8〕1,3,4-トリメチルピラ
ゾール-5-カルボン酸エチルエステルの合成 窒素雰囲気下にて、4-クロルメチル-1,3-ジメチル
ピラゾール-5-カルボン酸エチルエステル21.7g
(0.1モル)、5%活性炭担持パラジウム触媒(50
%含水品)1.09g(5wt%)、メタノール50mL、
水10mLを混合した後、ガスビュレットを装着し、水素
ガスを充填して反応器内を撹拌しながら常圧の水素ガス
で5回置換した。 その後、反応温度を25℃に保ち、
水素ガスの供給を8時間続けた。
【0076】反応後、触媒を濾過してメタノール溶媒を
減圧にて留去した後、水80mL、ヘプタン100mLを加
えて抽出を行なった。有機層を分液後、引き続き水層に
ヘプタン50mLを加え抽出した。ヘプタン層をあわせて
水洗した後の有機層中の成分を内部標準法による分析の
結果、目的の1,3,4-トリメチルピラゾール-5-カ
ルボン酸エチルエステルが、93.0%の収率で得られ
ていた。その抽出液より溶媒を減圧下に留去し、続けて
減圧蒸留を行なって目的の1,3,5-トリメチルピラ
ゾール-5-カルボン酸エチルエステルを油状物として1
6.4g得た(沸点:102?103℃/1mmHg、単離収
率:90%)。
【0077】得られた1,3,4-トリメチルピラゾー
ル-5-カルボン酸エチルエステルの1H-NMRを以下に
示す。
【0078】1H-NMRδ(ppm):1.39(3
H,t,J=7.1Hz)、2.18(3H,s)、
2.19(3H,s)、4.07(3H,s)、4.3
6(2H,q,J=7.1Hz) 〔実施例9〕1,3,4−トリメチルピラゾール−5−
カルボン酸エチルエステルの合成 内容量200mlのステンレス製オ−トクレ−ブに窒素
雰囲気下にて、4−クロロメチル−1,3−ジメチルピ
ラゾール−5−カルボン酸エチルエステル21.7g
(0.1モル)、ラネ−ニッケル触媒(50%含水スラ
リ−品)1.09g(5重量%)、メタノ−ル50ml
および水10mlを混合した後、内部を0.5MPaの
水素ガスで5回置換した。 その後、1.0MPaの水
素圧をかけ、反応温度を25〜30℃に保ち、水素ガス
の吸収がなくなるまで水素ガスの供給を続けた。反応終
了後、触媒を濾過してメタノ−ル溶媒を減圧にて留去し
た後、水80ml、ヘプタン100mlを加えて抽出を
行なった。有機層を分液後、引き続き水層にヘプタン5
0mlを加え抽出した。ヘプタン層をあわせて水洗した
後の有機層中の成分を、内部標準物質を用いた高速液体
クロマトグラフィ−により分析した結果、目的の1,
3,4−トリメチルピラゾール−5−カルボン酸エチル
エステルが、95.0%の収率で得られていた。
【0079】〔実施例10〕1,3,4−トリメチルピ
ラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの合成 4−クロロメチル−1,3−ジメチルピラゾール−5−
カルボン酸エチルエステル21.7g(0.1モル)の
メタノ−ル200ml溶液に、水素化ホウ素ナトリウム
7.57g(0.2モル)を室温にて1時間かけて分割
投入した。その後、1時間撹拌した後、加熱還流を2時
間行なった。ヨウ化メチルで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解し、溶媒を減圧にて留去した後、水80ml
およびヘプタン100mlを加えて抽出を行なった。有
機層を分液後、引き続き水層にヘプタン50mlを加え
抽出した。ヘプタン層より溶媒を減圧下に留去し、続け
て減圧蒸留を行なって目的の1,3,4−トリメチルピ
ラゾール−5−カルボン酸エチルエステルを油状物とし
て17.5g得た。単離収率は96%であった。
【0080】〔実施例11〕1,3,4-トリメチルピ
ラゾール-5-カルボン酸エチルエステルの合成 200mL容積のステンレス製オートクレーブに、窒素雰
囲気下にて、4-クロルメチル-1,3-ジメチルピラゾ
ール-5-カルボン酸エチルエステル21.7g(0.1
モル)、5%活性炭担持パラジウム触媒(50%含水
品)1.09g(5wt%)、トルエン100mLを混合し
た後、系内を水素ガスにて5 kg/cm2の圧力にて3回置
換した。その後を水素ガスを5kg/cm2にて充填して、反
応温度を30℃に保ち、水素ガスの吸収がなくなるまで
圧力を保つように水素ガスを供給した。
【0081】反応後、系内を脱圧後、系内を窒素ガスに
て充分に置換した後に、内容物を取り出し、触媒を濾過
した。得られたトルエン相を高速液体クロマトグラフィ
ーによる定量分析に供したところ、目的の1,3,4-
トリメチルピラゾール-5-カルボン酸エチルエステルが
収率98.5%で得られていた。
【0082】トルエン相に水80mLを加えて2回洗浄
後、溶媒を減圧下に留去し、続けて減圧蒸留を行なって
目的の1,3,5-トリメチルピラゾール-5-カルボン
酸エチルエステルを油状物として16.8g得た(単離
収率:92%)。
【0083】〔実施例12〕1,3,4−トリメチルピ
ラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの合成(連続
的方法による合成) 1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエ
ステル16.9g(0.1モル)を、95%硫酸1.0
0g(0.01モル)および1,4−ジオキサン50m
lの混合物に室温で添加した。続いてパラホルムアルデ
ヒド6.00g(0.2モル)を添加した後に、撹拌し
ながら温度を上昇させ、温度約90℃において塩化水素
ガスを50ml/minの速度で吹き込みながら5時間
反応させた。同温にて減圧とし、溶媒を留去した後に冷
却し、反応液を氷水100ml中に注ぎ、次いで生成物
をトルエン60mlで2回抽出し、水50mlにて2回
洗浄を行なった。得られたトルエン層を反応フラスコに
移し、内部を窒素で充分に置換した後に、5%活性炭担
持パラジウム触媒(50%含水品)1.09g(5重量
%)を加え、ガスビュレットを装着し、水素ガスを充填
して反応器内を撹拌しながら常圧の水素ガスで5回置換
した。その後、反応温度を40℃に保ち、水素ガスを吸
収が認められなくなるまで続けた。冷却後、金属触媒を
濾過して得られた有機層を水50mlで2回洗浄し、溶
媒を減圧下に留去し、続けて減圧蒸留を行なって目的の
1,3,4−トリメチルピラゾール−5−カルボン酸エ
チルエステルを油状物として15.9g得た。1,3−
ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルか
らの単離収率は87%であった。
【0084】〔比較例〕4−クロロメチル−1,3−ジ
メチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエステルの合
成 1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン酸エチルエ
ステル16.9g(0.1モル)を、塩化水素7.30
g(0.2モル)および1,4−ジオキサン50mlの
混合物に室温で添加した。続いてパラホルムアルデヒド
6.00g(0.2モル)を添加した後に、撹拌しなが
ら温度を上昇させ、温度約90℃において3時間反応さ
せた。この時、高速液体クロマトグラフィ−で分析した
結果、原料が83%残存しており、目的物は5%程度生
成しているにすぎなかった。続いて反応系内に塩化水素
ガスをさらに7.30g(0.2モル)添加して、加熱
撹拌を行なったが、同様の高速液体クロマトグラフィ−
での分析の結果、原料が77%残存しており、目的物は
8%程度生成しているにすぎなかった。
【0085】〔参考例1〕1,3−ジメチルピラゾール
−5−カルボン酸エチルエステルの合成 3(5)−メチルピラゾール−5(3)−カルボン酸エ
チルエステル30.8g(融点:83.0℃、0.2モ
ル)を結晶のまま100mlの反応フラスコに加え、撹
拌しながら、ジメチル硫酸26.5g(0.21モル)
をフラスコ内の温度が30℃を越えないようにして加え
た。その後、2時間撹拌して得られた均一の反応物をト
ルエン150ml中に溶解し、水100mlで3回洗浄
した。得られた有機層から溶媒を減圧下に留去し、さら
に減圧蒸留(117℃/25mmHg)を行なうことに
より目的の1,3−ジメチルピラゾール−5−カルボン
酸エチルエステルが30.6g得られた。単離収率は9
1%であった。
【0086】得られた1,3−ジメチルピラゾール−5
−カルボン酸エチルエステルの1H−NMRを以下に示
す。
【0087】1H−NMRδ(ppm):1.36(3
H,t,J=7.1HZ)、2.26(3H,s)、
4.10(3H,s)、4.32(2H,q,J=7.
1HZ)、6.60(1H,s) 〔参考例2〕(1Z)−2−シアノ−2−(5−エチル
−2−フェニル( 1,2,3−トリアゾ−ル−4−イ
ル))−1−(1,3,4−トリメチルピラゾール−4
−イル)ビニル2,2−ジメチルプロパノエ−トおよび
(1E)−2−シアノ−2−(5−エチル−2−フェニ
ル( 1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル))−1−
(1,3,4−トリメチルピラゾール−4−イル)ビニ
ル2,2−ジメチルプロパノエ−トの合成 1)1,3,4−トリメチルピラゾール−5−カルボン
酸の合成 先の実施例で得た1,3,4−トリメチルピラゾール−
5−カルボン酸エチルエステル118.2g(0.1モ
ル)を、水酸化カリウム8.42g(0.15モル)の
水−エタノ−ル(1:1)溶液100ml中に加え、3
0℃で3時間反応させた。その後、減圧下に溶媒を約半
量まで留去した粗反応液を、15%塩酸120ml中に
温度50℃で加えて酸性とし、室温まで冷却した。得ら
れた結晶を濾過、水洗後、減圧下に乾燥することで、目
的の1,3,4−トリメチルピラゾール−5−カルボン
酸(融点:182℃)を14.2g得た(収率:92
%) 2)1,3,4−トリメチルピラゾール−5−カルボン
酸クロライドの合成 上記の1,3,4−トリメチルピラゾール−5−カルボ
ン酸12.33g(0.08モル)を触媒量のN,N−
ジメチルホルムアミド(0.03g)を含む塩化チオニ
ル14.28g(0.12モル)中に、温度50℃を越
えないように徐々に添加した。そのまま3時間反応を行
なった後に、トルエン50mlを加え過剰の塩化チオニ
ルを減圧にて留去した。残査にヘプタン30mlを加え
てスラリ−化させ、さらに5℃まで冷却して結晶を濾取
し、温度25℃で減圧下に乾燥することで、目的の1,
3,4−トリメチルピラゾール−5−カルボン酸クロラ
イドを13.0g得た(融点:41℃、収率:94
%)。 3)2−シアノ−2−(5−エチル−2−フェニル(
1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル))−1−(1,
3,4−トリメチルピラゾール−4−イル)ビニル2,
2−ジメチルプロパノエ−トの合成 カリウム−t−ブトキシド12.90g(0.115モ
ル)の1,4−ジオキサン350ml溶液を窒素気流下
に2時間撹拌後、1,3,4−トリメチルピラゾール−
5−カルボン酸クロライド9.49g(0.055モ
ル)および4−シアノメチル−5−エチル−2−フェニ
ル−1,2,3−トリアゾ−ル10.61g(0.05
モル)の1,4−ジオキサン50ml溶液を、温度を2
5〜30℃に保ちながら2時間かけて滴下した。その
後、同温にて2時間撹拌後、ピバロイルクロライド8.
14g(0.0675モル)の1,4−ジオキサン10
ml溶液を、温度を25〜30℃に保ちながら1時間か
けて滴下した。さらに5時間撹拌を続けた後に、溶媒を
減圧下、50℃にて留去した。残査にトルエン150m
lを加えて得た溶液を水100mlで2回洗浄した。こ
のトルエン層をHPLCの内部標準法により定量分析し
た結果、この溶液には、(1Z)−2−シアノ−2−
(5−エチル−2−フェニル( 1,2,3−トリアゾ
−ル−4−イル))−1−(1,3,4−トリメチルピ
ラゾール−4−イル)ビニル2,2−ジメチルプロパノ
エ−トが13.41g(収率:62%)および(1E)
−2−シアノ−2−(5−エチル−2−フェニル(
1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル))−1−(1,
3,4−トリメチルピラゾール−4−イル)ビニル2,
2−ジメチルプロパノエ−トが6.06g(収率:28
%)が含まれていた。
【0088】トルエン層より溶媒を減圧下、50℃にて
留去して得られた粗生成物をアセトニトリル80mlに
より再結晶したところ、一方の立体である(1Z)−2
−シアノ−2−(5−エチル−2−フェニル( 1,
2,3−トリアゾ−ル−4−イル))−1−(1,3,
4−トリメチルピラゾール−4−イル)ビニル2,2−
ジメチルプロパノエ−ト(以下、化合物Aと称する。)
を純粋な形で11.89g(融点:143℃、収率:5
5%)得ることができた。
【0089】〔参考例3〕化合物Aのミカンハダニに対
する残効試験 参考例2で製造した化合物Aの5%乳剤を展着剤の入っ
た水で希釈して、所定濃度に調整し、この液をミカン鉢
植え1ポット当たり250mlづつ、回転式散布塔を用
いて散布した。その後、野外に放置し、所定日数後に葉
をリーフパンチを用いて径3.0cmの円形に切り取り、
径7cmのスチロールカップ上の湿った濾紙上に置い
た。これにミカンハダニ雌成虫を1葉当たり10頭接種
した。25℃の恒温室に収容し、48時間後の死虫率を
以下の計算式から求めた。試験は4区制で行った。結果
を第1表に示す。
【0090】
【数1】死虫率(%)={死虫数/(死虫数+生存虫
数)}×100
【0091】なお、比較化合物として、WO97/40
009に記載された以下の化合物Bを用いた。
【0092】
【化10】
【0093】
【表1】 第1表 ―――――――――――――――――――――――――――――――― 死中率(%) 化合物 薬液濃度 ――――――――――――――――――――――― (ppm) ミカン鉢植えの薬液散布後野外放置日数 2 4 5 7 9 13 15 ―――――――――――――――――――――――――――――――― A 50 100 100 100 100 100 90.0 52.5 B 100 17.5 40.0 - - - - - ――――――――――――――――――――――――――――――――
【0094】
【発明の効果】本発明の方法により、従来、その合成が
困難であった1,3−ジアルキル−4−メチルピラゾー
ル−5−カルボン酸化合物が、比較的穏和な反応条件
で、しかも高収率で得られる。本目的化合物群は、医農
薬等のファインケミカルズ中間体として重要であり、今
後その利用がさらに期待できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近藤 康夫 山口県小野田市大字小野田6903番1 日産 化学工業株式会社小野田工場内 (72)発明者 田中 規生 千葉県船橋市坪井町722番地1日産化学工 業株式会社中央研究所内 Fターム(参考) 4H039 CA42 CD10 CF40

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式(II): 【化1】 (式中、R1、R2およびR3は、各々独立して水素原子
    またはC1-4のアルキル基を表わす。)で表わされる4
    −クロロメチルピラゾール−5−カルボン酸化合物を、
    還元条件下に脱クロロ化を行なうことを特徴とする式
    (III): 【化2】 (式中、R1、R2およびR3は、前記と同じ意味を表わ
    す。)で表わされる1,3−ジアルキル−4−メチルピ
    ラゾール−5−カルボン酸化合物の製造方法。
  2. 【請求項2】式(I): 【化3】 (式中、R1、R2およびR3は、前記と同じ意味を表わ
    す。)で表わされるピラゾール−5−カルボン酸化合物
    を有機溶媒中、ホルムアルデヒドおよびその等価体から
    選ばれた1種以上、鉱酸およびルイス酸から選ばれた1
    種以上の酸触媒、並びに塩化水素の存在下に反応させる
    ことにより製造された式(II)で表わされる4−クロロ
    メチルピラゾール−5−カルボン酸化合物を用いる、請
    求項1記載の製造方法。
  3. 【請求項3】式(I)(式中、R1、R2およびR3は、前記
    と同じ意味を表わす。)で表わされるピラゾール−5−
    カルボン酸化合物を有機溶媒中、ホルムアルデヒドおよ
    びその等価体から選ばれた1種以上、鉱酸およびルイス
    酸から選ばれた1種以上の酸触媒、並びに塩化水素の存
    在下に反応させることを特徴とする式(II)で表わされ
    る4−クロロメチルピラゾール−5−カルボン酸化合物
    の製造方法。
  4. 【請求項4】式(II)および(III)において、R1およ
    びR3がメチル基を表わし、R2が水素原子またはC1-4
    のアルキル基を表わす、請求項1記載の製造方法。
  5. 【請求項5】式(I)、(II)および(III)において、
    1およびR3がメチル基を表わし、R2が水素原子また
    はC1-4のアルキル基を表わす請求項2記載の製造方
    法。
  6. 【請求項6】式(I)および(II)において、R1および
    3がメチル基を表わし、R2が水素原子またはC1-4
    アルキル基を表わす、請求項3記載の製造方法。
  7. 【請求項7】ホルムアルデヒドおよびその等価体から選
    ばれた1種以上が、パラホルムアルデヒドおよび1,
    3,5−トリオキサンから選ばれた1種以上である、請
    求項2、3、5または6記載の製造方法。
  8. 【請求項8】酸触媒が、硫酸およびリン酸から選ばれる
    1種以上である、請求項2、3、5、6または7記載の
    製造方法。
  9. 【請求項9】反応系内に含まれる水濃度が20%以下で
    あることを特徴とする、請求項2,3,5,6、7また
    は8記載の製造方法。
  10. 【請求項10】還元条件が、遷移金属触媒を用いた接触
    還元条件または金属水素化物もしくは金属水素錯化合物
    を用いた還元条件である請求項1,2,4または5記載
    の製造方法。
  11. 【請求項11】還元条件が、担持パラジウム触媒または
    ラネ−ニッケル触媒を用いた接触還元条件である請求項
    1,2,4または5記載の製造方法。
  12. 【請求項12】式(III): 【化4】 (式中、R1およびR3はメチル基を表し、R2はエチル
    基を表わす。)で表される化合物。
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