JP2000066395A - Positive photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and positive image forming method - Google Patents
Positive photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and positive image forming methodInfo
- Publication number
- JP2000066395A JP2000066395A JP16368399A JP16368399A JP2000066395A JP 2000066395 A JP2000066395 A JP 2000066395A JP 16368399 A JP16368399 A JP 16368399A JP 16368399 A JP16368399 A JP 16368399A JP 2000066395 A JP2000066395 A JP 2000066395A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive composition
- group
- substituent
- positive photosensitive
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷
版、印刷校正用カラープルーフ、液晶ディスプレイ用カ
ラーフィルター或いはプラズマディスプレス用のレジス
ト、半導体素子の集積回路用レジスト、配線版やグラビ
ア製版に用いられる銅エッチング用レジストに使用可能
なポジ型感光性組成物、感光性平版印刷版及びポジ画像
形成方法に関する。The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate, a color proof for print proofing, a color filter for a liquid crystal display or a resist for a plasma press, a resist for an integrated circuit of a semiconductor device, a wiring plate or a gravure plate. The present invention relates to a positive photosensitive composition, a photosensitive lithographic printing plate, and a positive image forming method that can be used for a copper etching resist to be used.
【0002】[0002]
【従来の技術】ポジ感光性組成物としては、例えば光照
射によりインデンカルボン酸を生じアルカリ可溶性とな
るオルトキノンジアジド化合物、オルトニトロカルビノ
ールエステル基を有する有機高分子物質、或いは、光に
より酸を発生する化合物(酸発生剤)と酸により加水分
解を生じアルカリ可溶性となる化合物等を含有する組成
物が公知である。また特に、コンピュータ画像処理技術
の進歩に伴い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィ
ルムへの出力を行わずに、レーザー光あるいはサーマル
ヘッド等により、直接レジスト画像を形成する感光また
は感熱ダイレクト製版システムが注目されている。2. Description of the Related Art Positive photosensitive compositions include, for example, an orthoquinonediazide compound which becomes insoluble in alkali by generating indene carboxylic acid upon irradiation with light, an organic polymer substance having an ortho nitrocarbinol ester group, or an acid generating substance by light. There are known compositions containing a compound (acid generator) to be hydrolyzed and a compound or the like which is hydrolyzed by an acid to become alkali-soluble. In particular, with the advance of computer image processing technology, a photosensitive or heat-sensitive direct plate-making system that directly forms a resist image by laser light or a thermal head without outputting digital image information to a silver halide mask film has been developed. Attention has been paid.
【0003】特に、高出力の半導体レーザーやYAGレ
ーザーを用いる、高解像度のレーザー感光ダイレクト製
版システムは、小型化、製版作業時の環境光や版材コス
トの面から、その実現が強く望まれている。近年、化学
増幅型のフォトレジストに長波長光線吸収色素を組み合
せた技術が散見される様になった。例えば特開平6−4
3633号公報には特定なスクアリウム色素に光酸発生
剤およびバインダー等を組合せた感光材料が開示されて
いる。また、更にこれに類する技法として赤外線吸収色
素、潜伏性ブレンステッド酸、レゾール樹脂およびノボ
ラック樹脂を含む感光層を半導体レーザー等により像状
に露光し平版印刷版を作製する技術が提案されており
(特開平7−20629号明細書)、更に、前記潜伏性
ブレンステッド酸に代えs−トリアジン化合物を用いる
技術も開示されている(特開平7−271029号明細
書)。In particular, a high-resolution laser-sensitive direct plate making system using a high-output semiconductor laser or a YAG laser is strongly desired to be realized from the viewpoints of miniaturization, environmental light during plate making work, and plate material cost. I have. In recent years, a technique of combining a chemically amplified photoresist with a long-wavelength light-absorbing dye has come to be seen. For example, JP-A-6-4
No. 3633 discloses a photosensitive material in which a specific squarium dye is combined with a photoacid generator, a binder and the like. Further, as a technique similar to this, there has been proposed a technique of preparing a lithographic printing plate by imagewise exposing a photosensitive layer containing an infrared absorbing dye, a latent Bronsted acid, a resol resin and a novolak resin to an image by a semiconductor laser or the like ( JP-A-7-20629) and a technique using an s-triazine compound in place of the latent Brönsted acid are also disclosed (JP-A-7-271029).
【0004】上記感光材料は、光酸発生剤、潜伏性ブレ
ンステッド酸又はs−トリアジン化合を含むため、いず
れも白色灯下での取扱い性に劣る。又、これらの技術は
画像形成に化学変化が関与するものである。一方、特開
平9−244233号公報には、2つの異なる波長に分
光増感された(A)ラジカル発生剤と増感色素Aの組み
合せ、及び(B)光酸発生剤と増感色素Bの組み合せ、
並びにラジカル重合性モノマー及び酸により分解反応を
生じる化合物を含有する感光性組成物が、又、該感光性
組成物からなる感光層を親水性支持体上に有する平版印
刷版材料が記載されている。該公報の画像形成方法は、
(1)増感色素Bの吸収波長域での露光によって光酸発
生剤から発生した酸が、酸により分解反応を生じる化合
物の酸分解反応を生起し、その結果、親水化された被露
光部を液体現像処理により除去してポジ画像を形成し、
(2)次いで増感色素Aの吸収波長域での一括露光を行
なってラジカル重合性モノマーをラジカル重合して膜硬
化を行う湿式画像形成方法及び、これに類する乾式の画
像形成方法である。即ち、該画像形成方法は、酸分解反
応とラジカル重合の2種の化学反応を伴うものである。
従って、特開平9−244233号公報の感光性組成物
は、ラジカル重合性モノマーと酸により分解反応を生じ
る化合物を含有するを必須のものである。The above photosensitive materials contain a photoacid generator, a latent Bronsted acid or an s-triazine compound, and all of them are inferior in handleability under a white light. Further, these techniques involve a chemical change in image formation. On the other hand, JP-A-9-244233 discloses a combination of (A) a radical generator and a sensitizing dye A spectrally sensitized to two different wavelengths, and (B) a combination of a photoacid generator and a sensitizing dye B. combination,
Further, a lithographic printing plate material is described, which includes a photosensitive composition containing a radical polymerizable monomer and a compound that undergoes a decomposition reaction by an acid, and a photosensitive layer comprising the photosensitive composition on a hydrophilic support. . The image forming method of the publication is
(1) The acid generated from the photoacid generator by exposure to light in the absorption wavelength region of the sensitizing dye B causes an acid decomposition reaction of a compound which undergoes a decomposition reaction by the acid, and as a result, the exposed portion becomes hydrophilic. Is removed by liquid development to form a positive image,
(2) A wet image forming method in which batch exposure is performed in the absorption wavelength region of the sensitizing dye A to radically polymerize a radical polymerizable monomer to cure the film, and a dry image forming method similar thereto. That is, the image forming method involves two kinds of chemical reactions, an acid decomposition reaction and a radical polymerization.
Therefore, the photosensitive composition disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-244233 must contain a radical polymerizable monomer and a compound that undergoes a decomposition reaction by an acid.
【0005】該公報に記載の技術は2種の化学反応を
伴うため感光層の構成成分が複雑となる光酸発生剤を
必須の構成成分として含有するが、該光酸発生剤は通
常、紫外から可視領域に吸収を有するため、上述の技術
と同様白色灯下での作業が困難となる等の欠点がある。
ところで、特開平9−244233号公報には、(A)
ラジカル発生剤と増感色素Aとの組み合せとして、即
ち、ラジカル重合性モノマーのラジカル重合開始剤とし
て、シアニン色素、ポリメチン色素等のカチオン性色素
とラジカル発生剤の組み合せが記載され、その1種とし
て下記構造の、ジインモニウム色素とラジカル発生剤の
組み合せ化合物が示されている。[0005] The technique described in this publication involves, as an essential component, a photoacid generator which complicates the components of the photosensitive layer because it involves two types of chemical reactions. As described above, there is a drawback that work under a white light becomes difficult, as in the case of the above-mentioned technology, since it has absorption in the visible region.
By the way, JP-A-9-244233 discloses (A)
As a combination of a radical generator and a sensitizing dye A, that is, as a radical polymerization initiator of a radical polymerizable monomer, a combination of a cationic dye such as a cyanine dye or a polymethine dye and a radical generator is described. A combination compound of a diimmonium dye and a radical generator having the following structure is shown.
【0006】[0006]
【化6】 Embedded image
【0007】一方、特開平9−43847号明細書にお
いては赤外線の照射により加熱して感光材の結晶性を変
化させるレジスト材およびそれを利用したパターン形成
方法が開示されている。On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-43847 discloses a resist material which changes the crystallinity of a photosensitive material by heating by irradiation of infrared rays, and a pattern forming method using the same.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本出願人は、先に光熱
変換物質とアルカリ可溶性樹脂という光化学的変化を期
待しえない単純な系でポジ画像を形成する感光性組成物
を提案した(特開平10−268512号公報)。しか
しながら、これらの組成物は感度、露光部と未露光部の
溶解度の差に起因する現像ラチチュードが広いことが望
まれるものである。The present applicant has previously proposed a photosensitive composition for forming a positive image with a simple system of a photothermal conversion material and an alkali-soluble resin, which cannot be expected to undergo a photochemical change (see, for example, JP-A-10-268512). However, it is desired that these compositions have a wide development latitude due to a difference in sensitivity and solubility between exposed and unexposed portions.
【0009】従来より広く知られている、アルカリ可溶
性樹脂及び感光性付与成分としてo−キノンジアジド基
含有化合物を含んだポジ型感光性組成物では、o−キノ
ンジアジド基含有化合物が吸収可能な紫外光を照射する
ことによりジアゾ部分が分解し最終的にカルボン酸が生
成することによって、感光性組成物のアルカリ可溶性が
増加し、即ち露光部分のみがアルカリ現像液に溶解する
ことによって画像が形成するものと考えられている。従
って、この系は感光性組成物中の成分が光化学変化を伴
うものである。A positive photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and an o-quinonediazide group-containing compound as a photosensitizing component, which has been widely known, emits ultraviolet light that can be absorbed by the o-quinonediazide group-containing compound. By irradiation, the diazo moiety is decomposed and finally a carboxylic acid is generated, whereby the alkali solubility of the photosensitive composition is increased, that is, an image is formed by dissolving only the exposed part in an alkali developing solution. It is considered. Therefore, in this system, the components in the photosensitive composition are accompanied by a photochemical change.
【0010】これに対し本出願人が先に提案した上記感
光性組成物は、画像形成に化学変化を伴う成分を基本的
に含有しない。このような効果が主として光化学変化以
外の変化によっておこることは、例えば一旦光照射を行
った本発明の感光性組成物を50℃付近で24時間加温
した場合、露光直後には増加した露光部のアルカリ可溶
性が、しばしば露光前に近い状態へ戻るという可逆現象
がみられることからも推察でき、更に、用いている感光
性組成物自体のガラス転移温度(又は軟化点)と該可逆
現象の難易度との関係を調べた結果、前記転移温度が低
い程、同可逆現象が起こり易い傾向が認められたことも
前述の機構を裏付けるものであった。On the other hand, the above-mentioned photosensitive composition proposed by the present applicant basically does not contain a component accompanied by a chemical change in image formation. Such an effect is mainly caused by a change other than the photochemical change. For example, when the photosensitive composition of the present invention once irradiated with light is heated at about 50 ° C. for 24 hours, the exposed portion increases immediately after the exposure. Can be inferred from the reversible phenomenon that the alkali solubility often returns to a state close to that before exposure, and furthermore, the glass transition temperature (or softening point) of the photosensitive composition itself used and the difficulty of the reversible phenomenon. As a result of examining the relationship with the degree, it was confirmed that the lower the transition temperature was, the more the reversible phenomenon was likely to occur.
【0011】上記感光性組成物がこのようなポジ画像を
形成する理由は必ずしも明らかではないが、光熱変換物
質によって吸収された光エネルギーが、熱に変換され、
その熱を受けた部分のアルカリ可溶性樹脂がコンフォメ
ーション変化等の何らかの化学変化以外の変化を起こ
し、その部分のアルカリ可溶性が高まることによって、
アルカリ現像液により画像が形成されるものと考えられ
ている。かかる化学変化以外の変化によって画像を形成
しうる感光性組成物は、光化学的反応に起因して画像を
形成しうる組成物とは異なり比較的単純な組成であり、
しかも光化学変化を生起する化合物を含まないため、白
色灯下の取り扱い性が良好であるという利点を有する。The reason why the photosensitive composition forms such a positive image is not always clear, but the light energy absorbed by the photothermal conversion material is converted into heat,
The alkali-soluble resin in the heated part causes a change other than a chemical change such as a conformational change, and the alkali-solubility of the part increases,
It is believed that an image is formed by the alkali developer. A photosensitive composition capable of forming an image by a change other than such a chemical change is a relatively simple composition unlike a composition capable of forming an image due to a photochemical reaction,
Moreover, since it does not contain a compound that causes a photochemical change, it has an advantage that the handleability under a white light is good.
【0012】しかしながら、これらの、画像形成が化学
的変化以外の変化に起因する感光性組成物はかかる特殊
な画像形成メカニズムである理由から、特に感度、露光
部と未露光部の溶解度の差に起因する現像ラチチュード
が広いことが望まれるものである。本発明の目的は、近
赤外レーザーに対して感度が高く、現像ラチチュードが
広く、感光性組成物の層を形成した場合の塗布欠陥のな
いポジ型感光性組成物及びポジ感光性平版印刷版を提供
することにあり、さらには、近赤外レーザーに対して高
感度なポジ感光性組成物及びポジ感光性平版印刷版を提
供することにある。However, these photosensitive compositions whose image formation is caused by a change other than a chemical change are particularly sensitive to the difference in sensitivity and the difference in solubility between exposed and unexposed areas because of this special image formation mechanism. It is desired that the resulting development latitude is wide. An object of the present invention is to provide a positive photosensitive composition and a positive photosensitive lithographic printing plate having high sensitivity to near-infrared lasers, a wide development latitude, and no coating defects when a layer of the photosensitive composition is formed. Another object of the present invention is to provide a positive photosensitive composition and a positive photosensitive lithographic printing plate having high sensitivity to near-infrared laser.
【0013】本発明の他の目的は、白色灯下での取扱い
性に優れたポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印
刷版を提供することにある。更に、本発明の目的は現像
後露光の如き煩雑な処理工程を要さず、比較的単純な組
成であり、かつ簡便な処理工程で画像を形成しうるポジ
型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版を提供する
ことにある。Another object of the present invention is to provide a positive photosensitive composition and a positive photosensitive lithographic printing plate excellent in handleability under a white light. Furthermore, an object of the present invention is to provide a positive photosensitive composition and a positive photosensitive composition which do not require complicated processing steps such as exposure after development, have a relatively simple composition, and can form an image in a simple processing step. To provide a lithographic printing plate.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】今回我々はある種のN,
N−ジアリールイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリー
ルアミニウム塩骨格を分子中に少なくとも1つ有する色
素を含有することにより、この種のポジ型感光性組成物
の製版時における露光部(非画像部)の抜け性や画像部
の膜減り現象の改善、さらに感応感度の改善を見出した
ものである。即ち本発明の要旨は、近赤外光熱変換物質
とアルカリ可溶性樹脂とを含み、ラジカル重合性モノマ
ーを含有しないポジ感光性組成物において、近赤外光熱
変換物質がN,N−ジアリールイミニウム塩骨格又は
N,N−ジアリールアミニウム塩骨格を少なくとも1つ
分子内に有する近赤外吸収色素であることを特徴とする
ポジ感光性組成物に存する。[Means for solving the problem] This time, we have a certain N,
By containing a dye having at least one N-diaryliminium salt skeleton or at least one N, N-diarylaminium salt skeleton in a molecule, an exposed portion (non-image) of a positive-type photosensitive composition of this type at the time of plate making. Part), improved film-removing phenomena in the image part, and improved sensitivity. That is, the gist of the present invention is to provide a positive photosensitive composition containing a near-infrared light-to-heat conversion material and an alkali-soluble resin, wherein the near-infrared light-to-heat conversion material is an N, N-diaryliminium salt A positive photosensitive composition characterized by being a near-infrared absorbing dye having at least one skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton in the molecule.
【0015】他の要旨は、アルカリ可溶性樹脂と近赤外
光熱変換物質を含有し、ラジカル重合性を有さないポジ
型感光性組成物において、近赤外光熱変換物質が、N,
N−ジアリールイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリー
ルアミニウム塩骨格を少なくとも1つ分子内に有する近
赤外吸収色素であることを特徴とするポジ型感光性組成
物に存する。[0015] Another gist is that, in a positive photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and a near-infrared light-to-heat converting substance and having no radical polymerizability, the near-infrared light-to-heat converting substance is N,
The positive photosensitive composition is a near-infrared absorbing dye having at least one N-diaryliminium salt skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton in a molecule.
【0016】他の要旨は、アルカリ可溶性樹脂と近赤外
光熱変換物質を含有し、主として化学変化以外の変化に
よりポジ画像を形成しうる感光性組成物において、近赤
外光熱変換物質が、N,N−ジアリールイミニウム塩骨
格又はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格を少なくと
も1つ分子内に有する近赤外吸収色素であることを特徴
とするポジ型感光性組成物に存する。Another point is that a photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and a near-infrared light-to-heat conversion material and capable of forming a positive image mainly by a change other than a chemical change, wherein the near-infrared light-to-heat conversion material is N-type , N-diaryliminium salt skeleton or near infrared absorbing dye having at least one N, N-diarylaminium salt skeleton in the molecule.
【0017】他の要旨は、アルカリ可溶性樹脂と近赤外
光熱変換物質を含有し、光酸発生剤を含有しないポジ型
感光性組成物において、近赤外光熱変換物質が、N,N
−ジアリールイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリール
アミニウム塩骨格を少なくとも1つ分子内に有する近赤
外吸収色素であることを特徴とするポジ型感光性組成物
に存する。Another gist is that, in a positive photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and a near-infrared light-to-heat conversion material and not containing a photoacid generator, the near-infrared light-to-heat conversion material is N, N
A near-infrared absorbing dye having at least one -diaryliminium salt skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton in a molecule;
【0018】更に、支持体上に上記記載のポジ型感光性
組成物からなる感光層を有する感光性平版印刷版に存す
る。更に、上記感光性平版印刷版を650〜1300n
mの波長域のレーザーで露光後、アルカリ現像液で現像
することを特徴とするポジ画像形成方法に存する。Further, there is provided a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer comprising the above-mentioned positive photosensitive composition on a support. Further, the photosensitive lithographic printing plate was prepared for 650 to 1300 n.
m, and then developing with an alkali developer after exposure with a laser having a wavelength range of m.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、本発明の感光性組成物は、前提としてラジカル重
合性モノマーを含有しない。これは画像形成に化学変化
を実質使用しないことが本発明の感光性組成物の前提で
あることと関係する。尚、ラジカル重合性モノマーと
は、エチレン性不飽和基含有化合物の様にラジカルの作
用で重合する機能を有する化合物である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
First, the photosensitive composition of the present invention does not contain a radical polymerizable monomer. This is related to the premise of the photosensitive composition of the present invention that substantially no chemical change is used for image formation. The radical polymerizable monomer is a compound having a function of polymerizing by the action of a radical, such as a compound containing an ethylenically unsaturated group.
【0020】本発明で使用される近赤外光熱変換物質
は、N,N−ジアリールイミニウム塩骨格又はN,N−
ジアリールアミニウム塩骨格を少なくとも1つ分子内に
有している色素であり、露光光源の波長域650〜13
00nmの光を吸収し、熱を発生する機能を有する色素
である(以下、本発明色素ということがある。)。The near-infrared light-to-heat conversion material used in the present invention is an N, N-diaryliminium salt skeleton or N, N-
A dye having at least one diarylaminium salt skeleton in a molecule, and having a wavelength range of 650 to 13 of an exposure light source.
It is a dye having a function of absorbing 00 nm light and generating heat (hereinafter, may be referred to as the present dye).
【0021】該N,N−ジアリールイミニウム塩骨格又
はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格を有する近赤外
光熱変換物質のポジ型画像形成性向上効果を発現させる
メカニズムの詳細は不明であるが、近赤外光熱変換物質
のN,N−ジアリールイミニウム塩基又はN,N−ジア
リールアミニウム塩基がアルカリ可溶性樹脂の水酸基、
アミノ基或いはカルボン酸基等の極性基の活性水素を介
して水素結合マトリックスを形成し、アルカリ可溶性樹
脂のアルカリ現像液に対する溶解性を低下させる高い溶
解抑止効果を有する一方、近赤外レーザー、殊に650
〜1300nmの光照射時に露光部分の近赤外光熱変換
物質により発生された熱の作用により該水素結合が緩和
または解離し、アルカリ現像液への感光性層への浸入を
容易にさせ、上記の高い溶解抑止効果を消失させる効果
を有することにより、レーザー露光部分と未露光部分と
のアルカリ現像液に対する溶解性の高いコントラストを
発現させ、その結果、高い感度と、広い現像ラチチュー
ドを与えるものと推定される。The details of the mechanism by which the near-infrared light-to-heat conversion substance having the N, N-diaryliminium salt skeleton or the N, N-diarylaminium salt skeleton exerts the effect of improving the positive image forming property are unknown. A N, N-diaryliminium base or N, N-diarylaminium base of a near-infrared light-to-heat conversion substance is a hydroxyl group of an alkali-soluble resin,
While forming a hydrogen bonding matrix via active hydrogen of a polar group such as an amino group or a carboxylic acid group, and having a high dissolution inhibiting effect of reducing the solubility of an alkali-soluble resin in an alkali developing solution, a near-infrared laser, especially a 650
The hydrogen bond is relaxed or dissociated by the action of heat generated by the near-infrared light-to-heat conversion material in the exposed portion during light irradiation of 〜1300 nm, thereby facilitating penetration of the photosensitive layer into the alkali developing solution. It is presumed that by having the effect of eliminating the high dissolution inhibiting effect, a high contrast between the laser exposed part and the unexposed part in the alkali developing solution is exhibited, resulting in high sensitivity and a wide development latitude. Is done.
【0022】本発明の色素は、N,N−ジアリールイ
ミニウム塩骨格又はN,N−ジアリールアミニウム塩骨
格を有し、かつ650〜1300nmの近赤外線領域
の一部又は全部に吸収帯を有する光吸収色素であれば特
に限定することなく用いることが出来る。該N,N−ジ
アリールイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリールアミ
ニウム塩骨格を有する化合物は、他の色素に比べてポジ
画像形成性能が高く、また、さらに各種の塗布溶剤に対
する溶解性に優れ、高い配合率で添加させることが可能
であると共に、感光性層中での溶解安定性に優れ、結晶
化等の問題が発生しずらい特徴を有する。具体的には、
下記一般式(α)及び(β)The dye of the present invention has an N, N-diaryliminium salt skeleton or an N, N-diarylaminium salt skeleton, and has an absorption band in part or all of the near infrared region of 650 to 1300 nm. Any light absorbing dye can be used without particular limitation. The compound having the N, N-diaryliminium salt skeleton or the N, N-diarylaminium salt skeleton has higher positive image forming performance than other dyes, and furthermore has excellent solubility in various coating solvents. It can be added at a high compounding ratio, has excellent dissolution stability in the photosensitive layer, and has a characteristic that crystallization and other problems are unlikely to occur. In particular,
The following general formulas (α) and (β)
【0023】[0023]
【化7】 Embedded image
【0024】(式(α)(β)中R31,R32は独立に置
換基を有していてもよい炭素数6〜20の芳香族炭化水
素環基を表わす。また、式(β)中の電子結合…は他の
電子結合との共鳴状態を表わす。)で表わされるN,N
−ジアリールイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリール
アミニウム塩骨格を少なくとも1つ有する炭素数15〜
100の色素である。好ましくは一般式(α)(β)で
表わされるN,N−ジアリールイミニウム塩骨格又は
N,N−ジアリールアミニウム塩骨格のR31,R32が独
立して1〜3核、好ましくは1〜2核の置換基を有して
いてもよい芳香族炭化水素環基であり、さらに好ましく
はR31,R32が独立して置換基を有していてもよいフェ
ニル基又はナフチル基であり、R31,R32で示される置
換基を有していてもよい各基のその置換基が置換基を有
していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換
基を有していてもよいアシル基、置換基を有していても
よいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアルコ
キシカルボニル基、置換基を有していてもよいカルボニ
ルオキシ基、置換基を有していてもよいビニル基、臭素
原子、塩素原子、ヨウ素原子、フッ素原子、又はシアノ
基であり、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置
換されていてもよいアミノ基である色素である。即ち、
N,N−ジアリールイミニウム塩骨格又はN,N−ジア
リールアミニウム塩骨格に含まれるアリール基がフェニ
ル基又はナフチル基であり、該アリール基の少なくとも
1つが置換基としてアルキル基で置換されていてもよい
アミノ基を有する色素が好ましい。(In the formulas (α) and (β), R 31 and R 32 each independently represent an aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. The electronic bonds in the symbol represent resonance states with other electronic bonds.)
Having at least one diaryliminium salt skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton
100 dyes. Preferably, R 31 and R 32 of the N, N-diaryliminium salt skeleton or the N, N-diarylaminium salt skeleton represented by the general formulas (α) and (β) are independently 1 to 3 nuclei, preferably 1 to 3 nuclei. To a dinuclear aromatic ring group which may have a substituent, and more preferably, R 31 and R 32 each independently represent a phenyl group or a naphthyl group which may have a substituent. , R 31 and R 32 each of which may have a substituent, the substituent of which may be an amino group which may have a substituent, an alkyl group which may have a substituent, Aryl group which may have a group, acyl group which may have a substituent, acyloxy group which may have a substituent, alkoxycarbonyl group which may have a substituent, substituent A carbonyloxy group which may have The dye is a nyl group, a bromine atom, a chlorine atom, an iodine atom, a fluorine atom, or a cyano group, and is preferably an amino group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. That is,
The aryl group contained in the N, N-diaryliminium salt skeleton or the N, N-diarylaminium salt skeleton is a phenyl group or a naphthyl group, and at least one of the aryl groups is substituted with an alkyl group as a substituent. A dye having a good amino group is preferable.
【0025】更に好ましくは、N,N−ジアリールイミ
ニウム塩骨格又はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格
を1又は2ケ有する化合物であり、ベンゼン環の数が3
以上、好ましくは5以上であり、6以下が好ましくは、
特に5である。ここでベンゼン環とは、共鳴構造をとっ
た6員環であって、共鳴構造が解かれたときにベンゼン
環となり得る骨格も含んでいる。例えば一般式(I)で
はベンゼン環は5個であり、一般式(III)では3個であ
る。又、本発明の色素のカチオン部分の分子量は、30
0〜1000程度である。又、該化合物は対称構造でも
非対称構造でもよいが、対称構造の方が感度が良好な傾
向がある。さらに好ましいN,N−ジアリールイミニウ
ム塩骨格又はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格を有
する色素としては、下記一般式(I)〜(VI)で表わさ
れる色素を挙げることが出来る。More preferably, the compound is a compound having one or two N, N-diaryliminium salt skeletons or N, N-diarylaminium salt skeletons, and having 3 or more benzene rings.
Or more, preferably 5 or more, and preferably 6 or less,
In particular, it is 5. Here, the benzene ring is a six-membered ring having a resonance structure, and also includes a skeleton that can become a benzene ring when the resonance structure is dissolved. For example, in general formula (I), there are five benzene rings, and in general formula (III), there are three. The molecular weight of the cationic portion of the dye of the present invention is 30.
It is about 0 to 1000. The compound may have a symmetrical structure or an asymmetrical structure, but the symmetrical structure tends to have higher sensitivity. More preferred dyes having an N, N-diaryliminium salt skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton include dyes represented by the following formulas (I) to (VI).
【0026】[0026]
【化8】 Embedded image
【0027】[0027]
【化9】 Embedded image
【0028】(式(I)〜(VI)中、R1 〜R8 は独立
に水素原子、炭素数1〜15の置換基を有していてもよ
いアルキル基、炭素数6〜15の置換基を有していても
よい芳香族炭化水素環基、又は炭素数4〜15の置換基
を有していてもよい複素環基、R9 〜R16は独立に水素
原子又は炭素数1〜15の置換基を有していてもよいア
ルキル基、R17〜R24は、水素原子、炭素数1〜15の
置換基を有していてもよいアルキル基、炭素数6〜15
の置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、炭素
数4〜15の置換基を有していてもよい複素環基、炭素
数2〜15の置換基を有していてもよいアシル基、炭素
数2〜15の置換基を有していてもよいアルコキシカル
ボニル基、水酸基、炭素数2〜15の置換基を有してい
てもよいアシルオキシ基、シアノ基、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子又はフッ素原子を表わし、R1 とR9 、
R2 とR10、R3 とR11、R4 とR12、R5 とR13、R
6 とR14、R7 とR15、及びR8 とR16はそれぞれ直接
或いは、酸素原子、イオウ原子及びアミノ基の少なくと
も1つを介して結合し環状構造を形成していてもよく、
X- 及びY- はそれぞれ対アニオンを表わす。また、式
(I),(III),(V)中の電子結合(…)は他の電子
結合との共鳴状態を示す。) 中でも共鳴による電子の分布を考慮すると下記
(I′)、(II′)、(III ′)、(IV′)、(V′)
又は(VI′)が好ましい。(In the formulas (I) to (VI), R 1 to R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent having 1 to 15 carbon atoms, a substituent having 6 to 15 carbon atoms. An aromatic hydrocarbon ring group which may have a group, or a heterocyclic group which may have a substituent having 4 to 15 carbon atoms, and R 9 to R 16 each independently represent a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to 15 carbon atoms. An alkyl group optionally having 15 substituents, R 17 to R 24 are a hydrogen atom, an alkyl group optionally having 1 to 15 carbon atoms, an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms,
An aromatic hydrocarbon ring group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent having 4 to 15 carbon atoms, and a heterocyclic group which may have a substituent having 2 to 15 carbon atoms Good acyl group, alkoxycarbonyl group which may have a substituent having 2 to 15 carbon atoms, hydroxyl group, acyloxy group which may have a substituent having 2 to 15 carbon atoms, cyano group, chlorine atom, bromine An atom, an iodine atom or a fluorine atom, R 1 and R 9 ,
R 2 and R 10, R 3 and R 11, R 4 and R 12, R 5 and R 13, R
6 and R 14 , R 7 and R 15 , and R 8 and R 16 may be bonded directly or via at least one of an oxygen atom, a sulfur atom and an amino group to form a cyclic structure,
X - and Y - is represents a counter anion, respectively. The electronic bond (...) in the formulas (I), (III), and (V) indicates a resonance state with other electronic bonds. In particular, considering the distribution of electrons due to resonance, the following (I '), (II'), (III '), (IV'), (V ')
Or (VI ') is preferable.
【0029】[0029]
【化10】 Embedded image
【0030】[0030]
【化11】 Embedded image
【0031】(式(I′)〜(VI′)中、R1 〜R
24は、前記式(I)〜(VI)に於ける定義と同じ) 好ましい式(I′)〜(VI′)の態様としては、R1 〜
R16が独立に水素原子、炭素数1〜10の置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいフ
ェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基であ
り、R17〜R24が独立に水素原子、炭素数1〜10の置
換基を有していてもよいアルキル基、炭素数1〜10の
置換基を有していてもよいアルコキシ基、水酸基、炭素
数2〜10の置換基を有していてもよいアシル基、フッ
素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子であり、R1
〜R24で表わされる置換基を有していてもよい各基のそ
の置換基がアルキル基、アルコキシ基、水酸基、アミノ
基、臭素基、塩素基、フッ素基、ヨウ素基であり、
X- 、Y- がCl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、BF
4 - 、PF6 - 等の無機酸アニオン、ベンゼンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、
酢酸、下記一般式(L)に示す有機ホウ酸の様な有機酸
アニオンである色素である。(In the formulas (I ') to (VI'), R1~ R
twenty fourIs the same as defined in the above formulas (I) to (VI).1 ~
R16Independently has a hydrogen atom, a substituent having 1 to 10 carbon atoms
Alkyl group which may be substituted,
Phenyl or naphthyl which may have a substituent.
R17~ Rtwenty fourAre independently a hydrogen atom, a group having 1 to 10 carbon atoms.
Alkyl group which may have a substituent, having 1 to 10 carbon atoms
Optionally substituted alkoxy groups, hydroxyl groups, carbon
An acyl group optionally having 2 to 10 substituents,
A hydrogen atom, a bromine atom, a chlorine atom or an iodine atom;1
~ Rtwenty fourOf each group which may have a substituent represented by
Is an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, an amino group
Group, bromine group, chlorine group, fluorine group, iodine group,
X-, Y-Is Cl-, Br-, I-, ClOFour -, BF
Four -, PF6 -Such as inorganic acid anions, benzene sulfone
Acid, p-toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid,
Acetic acid, an organic acid such as an organic boric acid represented by the following general formula (L)
A dye that is an anion.
【0032】[0032]
【化12】 Embedded image
【0033】(式中、RQ1〜RQ4はそれぞれ水素原子、
炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有していてもよ
い炭素数6〜15の芳香族炭化水素環基、置換基を有し
ていてもよい炭素数4〜15の複素環基を表わす。) さらに具体的にはRQ1〜RQ4がそれぞれ、−CH3 、−
C2 H5 、−C3 H7、−C4 H9 、−C4 H9 −t、(Wherein, R Q1 to R Q4 each represent a hydrogen atom,
An alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent, and a heterocyclic group having 4 to 15 carbon atoms which may have a substituent. Express. More specifically, R Q1 to R Q4 are each -CH 3 ,-
C 2 H 5, -C 3 H 7, -C 4 H 9, -C 4 H 9 -t,
【0034】[0034]
【化13】 Embedded image
【0035】等を挙げることができる。尚、上記本発明
の色素の対アニオンはラジカル発生能を含むものも含み
うるが、本発明の感光性組成物はラジカル重合性モノマ
ーを含有せず、ラジカル重合性を有さないため、対アニ
オンもラジカル発生能を有する必要はない。以下に本発
明の好ましいN,N−ジアリールイミニウム塩骨格又は
N,N−ジアリールアミニウム塩骨格を有する具体例を
挙げるが、本発明のN,N−ジアリールイミニウム塩骨
格又はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格を有する色
素はこれら具体例により限定されることはない。And the like. Incidentally, the counter anion of the dye of the present invention may include those having a radical generating ability, but the photosensitive composition of the present invention does not contain a radical polymerizable monomer and has no radical polymerizability. Also need not have radical generating ability. Specific examples having a preferred N, N-diaryliminium salt skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton according to the present invention will be described below. The N, N-diaryliminium salt skeleton or N, N- The dye having a diarylaminium salt skeleton is not limited by these specific examples.
【0036】[0036]
【化14】 Embedded image
【0037】[0037]
【化15】 Embedded image
【0038】ここでXA- 、YA- はCl- 、Br- 、
I- 、ClO4 - 、BF4 - 、PF 6 - 、ベンゼンスル
ホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸、または、Where XA-, YA-Is Cl-, Br-,
I-, ClOFour -, BFFour -, PF 6 -, Benzenesul
Honic acid, p-toluenesulfonic acid, naphthalene sulfone
Acid or
【0039】[0039]
【化16】 Embedded image
【0040】を表わし、R41、R42はそれぞれ−H、−
CH3 、−C2 H5 、−C3 H7 −n、−C4 H9 −n
を表わし、WX、WV、WY、WZはそれぞれWherein R 41 and R 42 are respectively -H,-
CH 3, -C 2 H 5, -C 3 H 7 -n, -C 4 H 9 -n
And WX, WV, WY and WZ represent
【0041】[0041]
【化17】 Embedded image
【0042】を表わす。上記のN,N−ジアリールイミ
ニウム塩骨格又はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格
を少なくとも1つ有する一般式(I′)〜(VI′)の近
赤外光熱変換物質のうち(I′)〜(IV′)の構造のも
のが製造が容易で、かつ約800〜1300nmの波長
の照射光に対する感度が高く好ましい。特に、R1 〜R
8 が独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であ
り、R 9 〜R16が水素原子又は炭素数1〜6のアルキル
基、中でも水素原子であり、R 17〜R20は水素原子であ
るのが好ましい。更に、感度の点で、特に前記式
(I′)又は(II′)の構造の色素が好ましい。Represents the following. The above N, N-diarylimymi
Skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton
Of the general formulas (I ′) to (VI ′) having at least one
Among the infrared light-to-heat conversion materials, those having the structures of (I ′) to (IV ′)
Is easy to manufacture and has a wavelength of about 800 to 1300 nm
Is preferred because of its high sensitivity to irradiation light. In particular, R1 ~ R
8 Is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
R 9 ~ R16Is a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 6 carbon atoms
Group, especially a hydrogen atom, R 17~ R20Is a hydrogen atom
Preferably. Furthermore, in terms of sensitivity, in particular,
Dyes having the structure (I ') or (II') are preferred.
【0043】また、本発明のN,N−ジアリールイミニ
ウム塩骨格又はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格を
有する色素は米国特許3251881、米国特許357
5871、米国特許3484467、特開平5−247
437、特開昭61−69991、特開平1−3169
3号公報、特公平7−51555等に記載の公知の方法
により合成することができ、例えば下記反応式(1)〜
(4)で表わされるように相当するアミンとハロゲン化
ニトロベンゼンから合成される。The dye having an N, N-diaryliminium salt skeleton or an N, N-diarylaminium salt skeleton according to the present invention is disclosed in US Pat. No. 3,251,881, and US Pat.
5871, U.S. Pat. No. 3,484,467, JP-A-5-247.
437, JP-A-61-69991, JP-A-1-3169
No. 3, JP-B-7-51555 and the like, and can be synthesized by, for example, the following reaction formulas (1) to (1).
It is synthesized from the corresponding amine and halogenated nitrobenzene as represented by (4).
【0044】[0044]
【化18】 Embedded image
【0045】また、該N,N−ジアリールイミニウム塩
骨格又はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格を有する
色素は異なる2種以上のものを併用して含有することも
できる。該N,N−ジアリールイミニウム塩骨格又は
N,N−ジアリールアミニウム塩骨格を有する色素の配
合率は全感光性層組成物の固形分に対して0.1〜50
重量%、好ましくは0.5〜30重量%、さらに好まし
くは0.5〜20重量%である。含有量が著しく少ない
と感度の低下を起こし、また著しく多いと現像時感光性
層の露光部分に感光性層の残渣が発生しやすくなり問題
となる怖れがある。The dye having the N, N-diaryliminium salt skeleton or the N, N-diarylaminium salt skeleton may contain two or more different dyes in combination. The compounding ratio of the dye having the N, N-diaryliminium salt skeleton or the N, N-diarylaminium salt skeleton is 0.1 to 50 with respect to the solid content of the entire photosensitive layer composition.
%, Preferably 0.5 to 30% by weight, more preferably 0.5 to 20% by weight. If the content is extremely low, the sensitivity is lowered. If the content is extremely high, a residue of the photosensitive layer is liable to be generated in an exposed portion of the photosensitive layer during development, which may cause a problem.
【0046】次に、本発明に使用されるアルカリ可溶性
樹脂について説明する。該アルカリ可溶性樹脂は公知の
いずれも使用できるが、具体的にはフェノール性水酸基
を有するアルカリ可溶性有機高分子物質であり、ゲルパ
ーミュエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと
略す)測定によるポリスチレン換算重量平均分子量(以
下、GPC測定による重量平均分子量をMwと略す)
は、通常1000〜100,000である。より具体的
にはノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノ
ール樹脂、フェノール性の水酸基を有するアクリル酸誘
導体の共重合体等が挙げられるが、これらのうちノボラ
ック樹脂、レゾール樹脂またはポリビニルフェノール樹
脂が好ましい。特に好ましくは、ノボラック樹脂であ
る。Next, the alkali-soluble resin used in the present invention will be described. Any known alkali-soluble resin can be used. Specifically, it is an alkali-soluble organic polymer having a phenolic hydroxyl group, and has a polystyrene equivalent weight average determined by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC). Molecular weight (hereinafter, weight average molecular weight by GPC measurement is abbreviated as Mw)
Is usually 1000 to 100,000. More specifically, a novolak resin, a resole resin, a polyvinyl phenol resin, a copolymer of an acrylic acid derivative having a phenolic hydroxyl group, and the like can be mentioned. Of these, a novolak resin, a resole resin, or a polyvinyl phenol resin is preferable. Particularly preferred is a novolak resin.
【0047】ノボラック樹脂としては、フェノール、m
−クレゾール、o−クレゾール、p−クレゾール、2,
5−キシレノール、3,5−キシレノール、レゾルシ
ン、ピロガロール、ビスフェノール、ビスフェノール−
A、トリスフェノール、o−エチルフェノール、m−エ
チルフェノール、p−エチルフェノール、プロピルフェ
ノール、n−ブチルフェノール、t−ブチルフェノー
ル、1−ナフトール、2−ナフトール等の芳香族炭化水
素類の少なくとも1種を酸性触媒下、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類及び、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンな
どのケトン類から選ばれた少なくとも1種のアルデヒド
類又はケトン類と重縮合させたものが挙げられる。As the novolak resin, phenol, m
-Cresol, o-cresol, p-cresol, 2,
5-xylenol, 3,5-xylenol, resorcinol, pyrogallol, bisphenol, bisphenol-
A, at least one kind of aromatic hydrocarbons such as trisphenol, o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol, propylphenol, n-butylphenol, t-butylphenol, 1-naphthol and 2-naphthol; Polycondensation with aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde and furfural and at least one aldehyde or ketone selected from ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone under an acidic catalyst Is mentioned.
【0048】ホルムアルデヒド及びアセトアルデヒドの
代わりに、それぞれパラホルムアルデヒド及びパラアル
デヒドを使用してもよい。ノボラック樹脂のゲルパーミ
ュエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略
す)測定によるポリスチレン換算重量平均分子量(以
下、GPC測定による重量平均分子量をMwと略す)M
wが好ましくは1,000〜50,000、特に好まし
くは1,500〜10,000のものが用いられる。Instead of formaldehyde and acetaldehyde, paraformaldehyde and paraaldehyde, respectively, may be used. Novolak resin weight average molecular weight in terms of polystyrene determined by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC) measurement (hereinafter, weight average molecular weight measured by GPC is abbreviated as Mw) M
The w is preferably from 1,000 to 50,000, particularly preferably from 1,500 to 10,000.
【0049】ノボラック樹脂の芳香族炭化水素類として
は、より好ましくは、ピロガロール、フェノール、o−
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5
−キシレノール、及び3,5−キシレノール、レゾルシ
ンから選ばれる少なくとも1種のフェノール類をホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド
などのアルデヒド類の中から選ばれる少なくとも1種と
重縮合したノボラック樹脂が挙げられる。The aromatic hydrocarbons of the novolak resin are more preferably pyrogallol, phenol, o-
Cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5
-Xylenol, and a novolak resin obtained by polycondensing at least one phenol selected from 3,5-xylenol and resorcin with at least one aldehyde selected from formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde and the like.
【0050】中でも、m−クレゾール:p−クレゾー
ル:2,5−キシレノール:3,5−キシレノール:レ
ゾルシンの混合割合がモル比で40〜100:0〜5
0:0〜20:0〜20:0〜20のフェノール類また
は、フェノール:m−クレゾール:p−クレゾールの混
合割合がモル比で1〜100:0〜70:0〜60のフ
ェノール類とアルデヒド類との重縮合物であるノボラッ
ク樹脂が好ましい。アルデヒド類の中でも、特にホルム
アルデヒドが好ましい。尚、本発明の感光性組成物は、
更に溶剤抑止剤を含んでいても良く、その場合、m−ク
レゾール:p−クレゾール:2,5−キシレノール:
3,5−キシレノール:レゾルシンの混合割合がモル比
で70〜100:0〜30:0〜20:0〜20のフェ
ノール類または、フェノール:m−クレゾール:p−ク
レゾールの混合割合がモル比で10〜100:0〜6
0:0〜40のフェノール類とアルデヒド類との重縮合
物であるノボラック樹脂が好ましい。Among them, the mixing ratio of m-cresol: p-cresol: 2,5-xylenol: 3,5-xylenol: resorcin was 40 to 100: 0 to 5 in molar ratio.
Phenols of 0: 0 to 20: 0 to 20: 0 to 20 or phenols and aldehydes having a molar ratio of phenol: m-cresol: p-cresol of 1 to 100: 0 to 70: 0 to 60 Novolak resins which are polycondensates with the compounds are preferred. Of the aldehydes, formaldehyde is particularly preferred. Incidentally, the photosensitive composition of the present invention,
It may further contain a solvent inhibitor, in which case m-cresol: p-cresol: 2,5-xylenol:
The mixing ratio of 3,5-xylenol: resorcinol in a molar ratio of 70 to 100: 0 to 30: 0 to 20: 0 to 20 or a mixing ratio of phenol: m-cresol: p-cresol in a molar ratio 10 to 100: 0 to 6
Novolak resins which are polycondensates of phenols and aldehydes at 0: 0 to 40 are preferred.
【0051】ポリビニルフェノール樹脂としては、o−
ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒ
ドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プロピレ
ン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレンなどの
ヒドロキシスチレン類の単独または2種以上の重合体が
挙げられる。ヒドロキシスチレン類は芳香環に塩素、臭
素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンあるいはC1 〜C4 の
アルキル置換基等の置換基を有していてもよく、従って
ポリビニルフェノール類としては、芳香環にハロゲン又
はC1 〜C4 のアルキル置換基を有していても良いポリ
ビニルフェノールが挙げられる。As the polyvinyl phenol resin, o-
Hydroxystyrenes such as hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (o-hydroxyphenyl) propylene, 2- (m-hydroxyphenyl) propylene, and 2- (p-hydroxyphenyl) propylene; Two or more polymers are mentioned. Hydroxystyrenes may have a halogen such as chlorine, bromine, iodine or fluorine or a substituent such as a C 1 -C 4 alkyl substituent on the aromatic ring. or include better polyvinyl phenol which may have an alkyl substituent of C 1 -C 4.
【0052】ポリビニルフェノール樹脂は、通常、置換
基を有していてもよいヒドロキシスチレン類を単独で又
は2種以上をラジカル重合開始剤またはカチオン重合開
始剤の存在下で重合することにより得られる。かかるポ
リビニルフェノール樹脂は、一部水素添加を行なったも
のでもよい。The polyvinylphenol resin is usually obtained by polymerizing hydroxystyrenes which may have a substituent alone or two or more in the presence of a radical polymerization initiator or a cationic polymerization initiator. Such a polyvinyl phenol resin may be partially hydrogenated.
【0053】ポリビニルフェノール樹脂としては、より
好ましくは、芳香環に炭素数C1 〜C4 のアルキル置換
基を有していてもよいポリビニルフェノールが挙げら
れ、未置換のポリビニルフェノールが特に好ましい。以
上のノボラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂の
Mwが、上記範囲よりも小さいと十分な塗膜が得られ
ず、この範囲よりも大きいと未露光部分のアルカリ現像
液に対する溶解性が小さくなり、パターンが得られない
傾向にある。The polyvinyl phenol resin is more preferably a polyvinyl phenol which may have an alkyl substituent having 1 to 4 carbon atoms on the aromatic ring, and unsubstituted polyvinyl phenol is particularly preferred. If the Mw of the novolak resin or the polyvinyl phenol resin is smaller than the above range, a sufficient coating film cannot be obtained. If the Mw is larger than this range, the solubility of the unexposed portion in the alkali developing solution becomes small, and a pattern is obtained. Tend not to be.
【0054】また、レゾール樹脂はノボラック樹脂合成
において酸触媒を用いる替わりにアルカリ触媒を用いる
以外他は同様にして得ることができ、ノボラック樹脂と
同様の好ましい分子量、縮重合モノマー組成のものが好
ましい。該アルカリ可溶性樹脂の配合率は、感光性組成
物中の全固形分に対して1〜98重量%、好ましくは5
〜95重量%、さらに好ましくは10〜90重量%であ
る。The resol resin can be obtained in the same manner as in the synthesis of the novolak resin except that an alkali catalyst is used instead of using an acid catalyst, and a resin having the same preferable molecular weight and polycondensation monomer composition as the novolak resin is preferable. The compounding ratio of the alkali-soluble resin is 1 to 98% by weight, preferably 5 to 98% by weight based on the total solid content in the photosensitive composition.
It is preferably from 95 to 95% by weight, more preferably from 10 to 90% by weight.
【0055】本発明のポジ型感光性組成物は、アルカリ
可溶性樹脂と、N,N−ジアリールイミニウム塩骨格又
はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格を少なくとも1
つ分子内に有する色素を必須成分とし、ラジカル重合性
モノマーを含有せず、前述の如き熱によるアルカリ可溶
性樹脂のコンフォメーション変化と推定される変化によ
りポジ型感光性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性
が変化しうる限り、他の成分を含みうる。但し、前述の
如く、画像形成のメカニズムに光化学反応が関与しない
こと及び白色灯下での取扱い性が良好である特徴を有す
るため、上記2成分を必須成分とする本発明のポジ型感
光性組成物は、下記の要件をも満足するものである。The positive photosensitive composition of the present invention comprises an alkali-soluble resin and at least one N, N-diaryliminium salt skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton.
The dye in the molecule is an essential component, does not contain a radical polymerizable monomer, and dissolves the positive photosensitive composition in an alkali developing solution by a change presumed to be the conformational change of the alkali-soluble resin due to heat as described above. Other ingredients may be included as long as the sex can change. However, as described above, since the photochemical reaction is not involved in the mechanism of image formation and the handleability under a white light is excellent, the positive photosensitive composition of the present invention containing the above two components as essential components The product also satisfies the following requirements.
【0056】(1)感光性組成物が、主として化学変化
以外の変化が関与してポジ画像を形成しうるものである
こと。 (2)感光性組成物がラジカル重合性を有さないこと。 (3)感光性組成物が光酸発生剤を含有しないこと。 上記(1)は、ポジ画像を形成するための光照射によっ
て化学結合の変化が起こりうる様な成分を含まないこと
に起因する。又、前述の如く、一旦光照射を行なった感
光性組成物を50℃程度の温和な条件で加温することに
より露光部のアルカリ溶解性に可逆現像が認められるこ
とがあることから推定される。(1) The photosensitive composition is capable of forming a positive image mainly due to a change other than a chemical change. (2) The photosensitive composition does not have radical polymerizability. (3) The photosensitive composition does not contain a photoacid generator. The above (1) is due to the fact that components that may cause a change in chemical bond due to light irradiation for forming a positive image are not included. Further, as described above, it is presumed that reversible development may be observed in the alkali solubility of the exposed part by heating the photosensitive composition once irradiated with light under mild conditions of about 50 ° C. .
【0057】又、上記(2)の「ラジカル重合性を有さ
ない」とは、例えば、付加重合性のエチレン性化合物等
のラジカル重合性モノマーと本発明の感光性組成物を共
存下、本発明の感光性組成物が感光する近赤外光を照射
しても、付加重合性エチレン化合物の光重合による硬化
が認められないことを意味する。又、上記(3)の光酸
発生剤を含まないとは、酸の作用でアルカリ溶解性が増
大する様な樹脂を含むポジ型感光性組成物とは画像形成
メカニズムが異なることに起因し、ハロメチルトリアジ
ン系化合物、ジフェニルイオドニウム塩、トリフェニル
スルフォニウム塩等のオニウム塩化合物、ジスルホメタ
ン化合物、ジスルホジアゾメタン化合物の様な250〜
450nmの波長の光照射により酸を発生する化合物を
含まないことを意味する。In the above (2), “having no radical polymerizability” means, for example, that a radical polymerizable monomer such as an addition-polymerizable ethylenic compound and the photosensitive composition of the present invention coexist. This means that even when the photosensitive composition of the present invention is irradiated with near-infrared light to which the photosensitive composition is exposed, the addition-polymerizable ethylene compound is not cured by photopolymerization. Further, the absence of the photoacid generator of the above (3) is due to the fact that the image forming mechanism is different from that of the positive photosensitive composition containing a resin whose alkali solubility is increased by the action of an acid, Onium salt compounds such as halomethyltriazine compounds, diphenyliodonium salts, triphenylsulfonium salts, etc .; disulfomethane compounds, disulfodiazomethane compounds, etc.
It means that it does not contain a compound that generates an acid upon irradiation with light having a wavelength of 450 nm.
【0058】本発明のポジ型感光性組成物には、必要に
応じて本発明のN,N−ジアリールイミニウム塩骨格又
はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格を有する近赤外
吸収色素の他に、波長域650〜1300nmの光照射
により熱を発生する有機または無機の顔料、有機色素、
金属などを併用し、含有させることができる。The positive photosensitive composition of the present invention may contain, if necessary, a near infrared absorbing dye having an N, N-diaryliminium salt skeleton or an N, N-diarylaminium salt skeleton of the present invention. An organic or inorganic pigment, an organic dye, which generates heat by light irradiation in a wavelength range of 650 to 1300 nm;
Metals and the like can be used in combination.
【0059】具体的には、例えば、カーボンブラック、
黒鉛;チタン、クロム等の金属;酸化チタン、酸化ス
ズ、酸化亜鉛、酸化バナジウム、酸化タングステン等の
金属酸化物;チタンカーバイド等の金属炭化物;金属ホ
ウ化物;特開平4−322219号公報に記載されてい
る無機黒色顔料、アゾ系のブラック顔料、「リオノール
グリーン2YS」、「緑色顔料7」等の黒または緑の有
機顔料、更には、特開平2−2074号、同2075、
同2076、特開平3−97590号、同97591
号、同63185号、同26593号、同97589号
の各公報に記載された有機色素等が挙げられる。これら
のジアリールイミノ塩を有さない近赤外光熱変換物質の
配合率は感光性組成物の全固形分の0〜20重量%、好
ましくは0.1〜15重量%更に好ましくは1〜10重
量%である。Specifically, for example, carbon black,
Graphite; metals such as titanium and chromium; metal oxides such as titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, vanadium oxide and tungsten oxide; metal carbides such as titanium carbide; metal borides; described in JP-A-4-322219. Inorganic black pigments, azo black pigments, black or green organic pigments such as "Lionol Green 2YS" and "Green Pigment 7", and further JP-A-2-2074, JP-A-2075,
2076; JP-A-3-97590;
And organic dyes described in JP-A Nos. 63185, 26593, and 97589. The compounding ratio of the near-infrared light-to-heat conversion material having no diarylimino salt is 0 to 20% by weight, preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 1 to 10% by weight of the total solids of the photosensitive composition. %.
【0060】また、さらに感光性層中には、必要に応
じ、可視画性付与の目的で光熱変換物質以外の着色材料
を含有させることが出来る。着色材料としては、顔料ま
たは染料が使用され、さらに具体的には例えば、ビクト
リアピュアブルー(42595)、クリスタルバイオレ
ット、クリスタルバイオレットラクトン、オーラミンO
(41000)、カチロンブリリアントフラビン(ベー
シック13)、ローダミン6GCP(45160)、ロ
ーダミンB(45170)、サフラニンOK70:10
0(50240)、エリオグラウシンX(4208
0)、ファーストブラックHB(26150)、No.
120/リオノールイエロー(21090)、リオノー
ルイエローGRO(21090)、シムラーファースト
イエロー8GF(21105)、ベンジジンイエロール
4T−564D(21095)、シムラーファーストレ
ッド4015(12355)、リオノールレッドB44
01(15850)、ファーストゲンブルーTGR−L
(74160)、リオノールブルーSM(26150)
等が挙げられる。なお、上記の( )内の数字はカラー
インデックス(C.I.)を意味する。Further, in the photosensitive layer, if necessary, a coloring material other than the light-to-heat conversion substance can be contained for the purpose of imparting a visible image. As the coloring material, a pigment or a dye is used. More specifically, for example, Victoria Pure Blue (42595), crystal violet, crystal violet lactone, auramine O
(41000), Catillon Brilliant Flavin (Basic 13), Rhodamine 6 GCP (45160), Rhodamine B (45170), Safranin OK 70:10
0 (50240), Erioglaucine X (4208)
0), First Black HB (26150), No.
120 / Lionol Yellow (21090), Lionol Yellow GRO (21090), Shimla Fast Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4T-564D (21095), Shimla Fast Red 4015 (12355), Lionol Red B44
01 (15850), Fast Gen Blue TGR-L
(74160), Lionol Blue SM (26150)
And the like. The numbers in parentheses above indicate the color index (CI).
【0061】該着色材料を含む場合、その配合率は全感
光性層組成物の固形分に対して0〜50重量%、好まし
くは1〜30重量%である。さらに、本発明のポジ型感
光性組成物中には、露光部分と未露光部分の溶解性の差
をさらに増大する目的で、溶解抑止剤を含有するのが好
ましい。溶解抑止剤とは、本発明のポジ型感光性組成物
の未露光部のアルカリ現像液への溶解性を低下させるこ
とにより実質的に上記溶解性の差を増大する化合物で、
これがアルカリ可溶性有機高分子物質と水素結合を形成
し、アルカリ可溶性有機高分子物質の溶解性を低下させ
る機能を有すると推定される。中でも、近赤外光による
吸収を実質有さず即ち、近赤外光の1%以下の吸収効率
を有し、近赤外光で光分解されないある種の溶解抑制剤
を含有させることが出来る。When the coloring material is contained, its compounding ratio is from 0 to 50% by weight, preferably from 1 to 30% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer composition. Further, the positive photosensitive composition of the present invention preferably contains a dissolution inhibitor for the purpose of further increasing the difference in solubility between the exposed part and the unexposed part. A dissolution inhibitor is a compound that substantially increases the difference in solubility by reducing the solubility of an unexposed portion of the positive photosensitive composition of the present invention in an alkali developer,
It is presumed that this forms a hydrogen bond with the alkali-soluble organic polymer substance, and has a function of reducing the solubility of the alkali-soluble organic polymer substance. Among them, a certain dissolution inhibitor having substantially no absorption by near-infrared light, that is, having an absorption efficiency of 1% or less of near-infrared light, and not being photolyzed by near-infrared light can be contained. .
【0062】本発明に使用される溶解抑制剤としては、
特願平9−205789号記載の酸無水物、スルホン酸
エステル、リン酸エステル、芳香族カルボン酸エステ
ル、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、
芳香族エーテル、特願平9−301915号記載のノニ
オン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、特願平9−2
91880号記載の酸発色性色素、特願平9−3019
15号記載の塩基発色性色素、を挙げることが出来る。
これら溶解抑制剤の配合率としては感光性組成物の全固
形分に対して、0〜50重量%、好ましくは0〜30重
量%、さらに好ましくは0〜20重量%である。但し、
本発明の感光性組成物は白色灯下での取扱い性が良好で
あることから、UV光に感受性を有する成分を有さず、
従って、感光性組成物が紫外光(以下UV光と略すこと
がある)により感光せず、UV光照射により露光部が実
質的にアルカリ可溶性とならない性質を有することか
ら、上記の任意の添加成分としては、UV光に感受性を
有さない成分を選択する必要がある。尚、感光性組成物
がUV感受性を有さないとは、UV光、特に360〜4
50nmの領域の光の照射によっても露光部が実質的に
アルカリ可溶性とならない性質を有する、即ち、アルカ
リ現像液に対する溶解性に有意差を生じないことを意味
する。The dissolution inhibitors used in the present invention include:
Japanese Patent Application No. 9-205789 describes acid anhydrides, sulfonic esters, phosphoric esters, aromatic carboxylic esters, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines,
Aromatic ethers, nonionic surfactants described in Japanese Patent Application No. 9-301915, fluorinated surfactants, Japanese Patent Application No. 9-2930
No. 91880 No. 9-3019
No. 15 base color-forming dyes.
The compounding ratio of these dissolution inhibitors is 0 to 50% by weight, preferably 0 to 30% by weight, and more preferably 0 to 20% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition. However,
Since the photosensitive composition of the present invention has good handleability under a white lamp, it has no component sensitive to UV light,
Accordingly, since the photosensitive composition is not exposed to ultraviolet light (hereinafter sometimes abbreviated as UV light) and has a property that the exposed portion is not substantially alkali-soluble by UV light irradiation, It is necessary to select a component that is not sensitive to UV light. It should be noted that the photosensitive composition does not have UV sensitivity when it is referred to as UV light,
The exposed portion has the property of not being substantially alkali-soluble even when irradiated with light in the region of 50 nm, that is, it means that there is no significant difference in solubility in an alkali developing solution.
【0063】さらに具体的には、白色蛍光灯(三菱電機
社製36W白灯蛍光灯ネオルミスーパーFLR40S−
W/M/36)下、400ルックスの光強度の光照射下
において10時間放置しても、ポジ型感光性組成物(ポ
ジ感光体の感光性層)の溶解性が変化しないのが好まし
く、かかる性質を達成しうる溶解抑止剤を適宜選択して
使用することが好ましい。本発明に使用するポジ型感光
性組成物は、通常、上記各成分を適当な溶媒に溶解して
用いられる。溶媒としては、使用成分に対して十分な溶
解度を持ち、良好な塗膜性を与える溶媒であれば特に制
限はないが、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
トなどのセロソルブ系溶媒、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエー
テル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプ
ロピレングリコールジメチルエーテルなどのプロピレン
グリコール系溶媒、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチ
ル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エ
チル、エチル−2−ヒドロキシブチレート、エチルアセ
トアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、2−メトキシ
プロピオン酸メチルなどのエステル系溶媒、ヘプタノー
ル、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリル
アルコールなどのアルコール系溶媒、シクロヘキサノ
ン、メチルアミルケトンなどのケトン系溶媒、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロ
リドンなどの高極性溶媒、あるいはこれらの混合溶媒、
さらにはこれらに芳香族炭化水素を添加したものなどが
挙げられる。溶媒の使用割合は、感光性組成物の総量に
対して通常重量比として1〜20倍程度の範囲である。More specifically, a white fluorescent lamp (36 W white fluorescent lamp manufactured by Mitsubishi Electric Corporation, NEOLMI Super FLR40S-
W / M / 36), it is preferable that the solubility of the positive photosensitive composition (photosensitive layer of the positive photoreceptor) does not change even when left for 10 hours under light irradiation of light intensity of 400 lux, It is preferable to use a dissolution inhibitor capable of achieving such properties as appropriate. The positive photosensitive composition used in the present invention is usually used by dissolving each of the above components in an appropriate solvent. The solvent is not particularly limited as long as it has a sufficient solubility for the components used and gives good coating properties, but cellosolve solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, and ethyl cellosolve acetate. Propylene glycol solvents such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, and dipropylene glycol dimethyl ether; butyl acetate; Amyl acetate, ethyl butyrate, butyl butyrate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl-2-hydroxy Ester solvents such as tylate, ethyl acetoacetate, methyl lactate, ethyl lactate, and methyl 2-methoxypropionate; alcohol solvents such as heptanol, hexanol, diacetone alcohol, and furfuryl alcohol; ketone solvents such as cyclohexanone and methyl amyl ketone Solvents, dimethylformamide, dimethylacetamide, highly polar solvents such as N-methylpyrrolidone, or a mixed solvent thereof,
Further, those obtained by adding an aromatic hydrocarbon to these are also exemplified. The usage ratio of the solvent is usually in the range of about 1 to 20 times by weight based on the total amount of the photosensitive composition.
【0064】なお、本発明のポジ型感光性組成物は、そ
の性質を損なわない範囲で種々の添加剤、例えば塗布性
改良剤、現像改良剤、密着性改良剤、感度改良剤、感脂
化剤等を含有することも可能である。本発明の感光性組
成物は支持体上に塗設して感光性平版印刷版として有利
に使用できる。支持体表面に感光性層を設ける際に用い
る塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等を用
いることが可能である。その乾燥条件としては、例えば
60〜170℃、5秒〜10分間、好ましくは70〜1
50℃、10秒〜5分間が採用される。The positive-working photosensitive composition of the present invention may contain various additives, for example, a coating improver, a development improver, an adhesion improver, a sensitivity improver, a sensitizing agent, as long as the properties are not impaired. It is also possible to contain agents and the like. The photosensitive composition of the present invention can be advantageously used as a photosensitive lithographic printing plate by coating on a support. As a coating method used when the photosensitive layer is provided on the support surface, a conventionally known method, for example, spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, curtain coating, or the like may be used. Is possible. As drying conditions, for example, 60 to 170 ° C., 5 seconds to 10 minutes, preferably 70 to 1
50 ° C., 10 seconds to 5 minutes are employed.
【0065】感光性層の膜厚は、通常0.3〜7μm、
好ましくは0.5〜5μm、更に好ましくは1.0〜3
μmである。本発明に使用する感光性組成物を用いた感
光層を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、
銅、鋼等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等のシート等が挙げ
られる。感光性平版印刷版用の支持体としては、塩酸ま
たは硝酸溶液中での電解エッチングまたはブラシ研磨に
よる砂目立て処理、硫酸溶媒中での陽極酸化処理および
必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されているアル
ミニウム板を用いることがより好ましい。The thickness of the photosensitive layer is usually 0.3 to 7 μm,
Preferably 0.5-5 μm, more preferably 1.0-3
μm. As a support on which a photosensitive layer using the photosensitive composition used in the present invention is provided, aluminum, zinc,
Metal plates such as copper and steel, and metal plates, paper, plastic films and glass plates plated or deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc., paper coated with resin, metal foil such as aluminum And a sheet such as a plastic film subjected to a hydrophilic treatment. As the support for the photosensitive lithographic printing plate, surface treatment such as graining treatment by electrolytic etching or brush polishing in a hydrochloric acid or nitric acid solution, anodizing treatment in a sulfuric acid solvent, and if necessary, sealing treatment, etc. It is more preferable to use a coated aluminum plate.
【0066】支持体表面の粗面度に関しては、一般的
に、表面粗さRaの値で示される。これは表面粗度計を
用いて測定することができる。本発明において用いられ
る支持体としてはその平均粗さRaとして0.3〜1.
0μmのアルミニウム板が好ましく、更に、0.4〜
0.8μmのものがより好ましい。本支持体は、必要に
応じ、更に有機酸化合物による表面処理を施して用いる
ことができる。The roughness of the support surface is generally indicated by the value of the surface roughness Ra. This can be measured using a surface roughness meter. The support used in the present invention has an average roughness Ra of 0.3 to 1.
0 μm aluminum plate is preferable,
0.8 μm is more preferable. The support can be used after further performing a surface treatment with an organic acid compound, if necessary.
【0067】本発明のポジ型感光性組成物を画像露光す
る光源としては特に、光を吸収し、発生した熱により画
像形成させる場合には、650〜1300nmの近赤外
レーザー等の光線を発生する光源が好ましく、例えばル
ビーレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー、LE
D、その他の固体レーザー等を挙げることが出来、特に
小型で長寿命な半導体レーザーやYAGレーザーが好ま
しい。これらのレーザー光源により、通常、走査露光
後、現像液にて現像し画像を得ることができる。As a light source for imagewise exposing the positive photosensitive composition of the present invention, a light source such as a near-infrared laser having a wavelength of 650 to 1300 nm is generated particularly when absorbing light and forming an image by generated heat. Light source, such as a ruby laser, a YAG laser, a semiconductor laser, and an LE
D, other solid-state lasers, etc., and particularly a small-sized and long-life semiconductor laser or a YAG laser is preferable. With these laser light sources, usually, after scanning exposure, development can be performed with a developer to obtain an image.
【0068】また、レーザー光源は、通常、レンズによ
り集光された高強度の光線(ビーム)として感光材表面
を走査するが、それに感応する本発明のポジ型平版印刷
版の感度特性(mJ/cm2 )は感光材表面で受光する
レーザービームの光強度(mJ/s・cm2 )に依存す
ることがある。ここで、レーザービームの光強度(mJ
/s・cm2 )は、版面上でのレーザービームの単位時
間当たりのエネルギー量(mJ/s)を光パワーメータ
ーにより測定し、また感光材表面におけるビーム径(照
射面積;cm2 )を測定し、単位時間当たりのエネルギ
ー量を照射面積で除することにより求めることができ
る。レーザービームの照射面積は、通常、レーザーピー
ク強度の1/e2 強度を超える部分の面積で定義される
が、簡易的には相反則を示す感光材を感光させて測定す
ることもできる。The laser light source normally scans the surface of the photosensitive material as a high-intensity light beam (beam) condensed by a lens. The sensitivity characteristic of the positive type lithographic printing plate of the present invention (mJ / cm 2 ) may depend on the light intensity (mJ / s · cm 2 ) of the laser beam received on the photosensitive material surface. Here, the light intensity of the laser beam (mJ
/ S · cm 2 ) is the amount of energy (mJ / s) of the laser beam on the plate surface per unit time measured with an optical power meter, and the beam diameter (irradiated area; cm 2 ) on the surface of the photosensitive material is measured. It can be obtained by dividing the amount of energy per unit time by the irradiation area. The irradiation area of the laser beam is usually defined as the area of the portion exceeding 1 / e 2 intensity of the laser peak intensity, but it can be simply measured by exposing a photosensitive material exhibiting a reciprocity law.
【0069】本発明に用いられる光源の光強度として
は、2.0×106 mJ/s・cm2以上であることが
好ましく、1.0×107 mJ/s・cm2 以上である
ことが更に好ましい。光強度が上記の範囲であれば、本
発明のポジ型感光性組成物の感度特性が向上し、走査露
光時間を短くすることができ実用的に大きな利点が得ら
れる。The light intensity of the light source used in the present invention is preferably 2.0 × 10 6 mJ / s · cm 2 or more, and 1.0 × 10 7 mJ / s · cm 2 or more. Is more preferred. When the light intensity is within the above range, the sensitivity characteristics of the positive photosensitive composition of the present invention are improved, and the scanning exposure time can be shortened.
【0070】本発明の感光性組成物及び感光性平版印刷
版は露光後、現像することによりポジ画像を形成しう
る。本発明の感光性組成物の現像に用いる現像液として
は特にアルカリ水溶液を主体とするアルカリ現像液が好
ましい。上記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、
第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアル
カリ金属塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃
度は0.1〜20重量%が好ましい。又、該現像液中に
必要に応じアニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性
剤、両性界面活性剤等やアルコール等の有機溶媒を加え
ることができる。現像は、通常25〜35℃で通常10
秒〜2分程度で行なわれる。The photosensitive composition and the photosensitive lithographic printing plate of the present invention can form a positive image by developing after exposure. As the developer used for developing the photosensitive composition of the present invention, an alkali developer mainly containing an aqueous alkali solution is particularly preferred. Examples of the alkali developer include, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium metasilicate, potassium metasilicate,
An aqueous solution of an alkali metal salt such as dibasic sodium phosphate and tribasic sodium phosphate is exemplified. The concentration of the alkali metal salt is preferably from 0.1 to 20% by weight. If necessary, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant or an organic solvent such as an alcohol can be added to the developer. Development is usually performed at 25 to 35 ° C. for 10
It takes about 2 seconds to 2 minutes.
【0071】[0071]
【実施例】以下に本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの
実施例に限定されるものではない。 実施例1〜4 厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調
質H16)を、5重量%の水酸化ナトリウム水溶液中で
60℃で1分間脱脂処理を行った後、0.5モル/リッ
トルの濃度の塩酸水溶液中で、温度28℃、電流密度6
0A/dm2 、処理時間40秒の条件で電解エッチング
処理を行った。次いで4重量%水酸化ナトリウム水溶液
中で60℃、12秒間のデスマット処理を施した後、2
0重量%硫酸溶液中で、温度20℃、電流密度3.5A
/dm2 、処理時間1分の条件で陽極酸化処理を行っ
た。更に、80℃の熱水で20秒間熱水封孔処理を行
い、平版印刷版支持体用のアルミニウム板を作製した。
表面粗度計(小坂研究所社製、「SE−3DH」)によ
るこの板の平均粗さRaの値は0.60μmであった。
得られたアルミニウム板支持体表面に、下記成分よりな
る感光液をワイヤーバーで塗布し、100℃にて1分間
乾燥させた後、55℃で16時間加熱処理し感光性平版
印刷版を得た。塗膜量は2.5g/m2 であった。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the scope of the present invention. Examples 1-4 A 0.24 mm thick aluminum plate (material 1050, tempered H16) was degreased in a 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 1 minute, and then 0.5 mol / mol. In a hydrochloric acid solution having a concentration of 1 liter, a temperature of 28 ° C. and a current density of 6
Electrolytic etching was performed under the conditions of 0 A / dm 2 and a processing time of 40 seconds. Then, after subjecting to a desmutting treatment at 60 ° C. for 12 seconds in a 4% by weight aqueous sodium hydroxide solution,
0% by weight sulfuric acid solution, temperature 20 ° C, current density 3.5A
Anodizing treatment was performed under the conditions of / dm 2 and a treatment time of 1 minute. Further, a hot water sealing treatment was performed with hot water of 80 ° C. for 20 seconds to prepare an aluminum plate for a lithographic printing plate support.
The average roughness Ra of this plate measured by a surface roughness meter (“SE-3DH”, manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.) was 0.60 μm.
A photosensitive solution comprising the following components was applied to the surface of the obtained aluminum plate support with a wire bar, dried at 100 ° C. for 1 minute, and then heat-treated at 55 ° C. for 16 hours to obtain a photosensitive planographic printing plate. . The coating amount was 2.5 g / m 2 .
【0072】 (感光液) ・高分子化合物:フェノール:m−クレゾール:p−クレゾール(20:50: 30モル比)をホルムアルデヒドと共縮合されたノボラック樹脂(Mw700 0) 100重量部 ・近赤外光熱変換物質:表1に記載のもの 表1に記載の配合量 ・着色色材料:クリスタルバイオレットラクトン 10重量部 ・溶媒:メチルセロソルブ 900重量部(Photosensitive solution) Polymer compound: phenol: m-cresol: p-cresol (20:50:30 molar ratio) co-condensed with formaldehyde 100 parts by weight of novolak resin (Mw7000) Light-to-heat conversion substance: listed in Table 1 Compounded amount described in Table 1-Colored material: 10 parts by weight of crystal violet lactone-Solvent: 900 parts by weight of methyl cellosolve
【0073】次に、上記試料を1064nmの半導体レ
ーザーを光源とする感光性平版印刷露光装置(ガーバー
社製Crescent 3030T)を用いて各種の露
光エネルギーで200線、1〜99%の網点画像を画像
露光し、次いでアルカリ性現像液(富士写真フィルム社
製DP−4の10倍希釈液)を用いて、28℃にて現像
処理を行い、1〜99%の網点画像を再現させた印刷版
を作製した。3%の網点画像が再現する平版印刷版上の
露光量を用いて、感度の評価を行った。露光量が低い程
高感度であることを示す。Next, using a photosensitive lithographic exposure apparatus (Crescent 3030T manufactured by Gerber Co.) using a 1064 nm semiconductor laser as a light source, the sample was converted to halftone images of 200 lines and 1-99% with various exposure energies. A printing plate which is exposed to an image and then developed at 28 ° C. using an alkaline developing solution (a 10-fold diluted solution of DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to reproduce a 1-99% halftone image. Was prepared. The sensitivity was evaluated using the exposure amount on the lithographic printing plate on which a 3% halftone image was reproduced. The lower the exposure, the higher the sensitivity.
【0074】比較例1 実施例1において近赤外光熱変換物質を後記のSS−3
に変更する以外は同様に感光性試料を作製した。SS−
3は溶塗溶媒に対する溶解が低く、塗布試料の感光層中
に未溶解結晶粒子が残留する塗布欠陥が見られた。さら
に、この試料を実施例1と同様に評価を行った。結果を
表1に示す。Comparative Example 1 The near-infrared light-to-heat conversion material in Example 1 was replaced with SS-3 described below.
A photosensitive sample was prepared in the same manner except that the sample was changed to. SS-
Sample No. 3 had low solubility in the solvent for solvent coating, and coating defects in which undissolved crystal particles remained in the photosensitive layer of the coated sample were observed. Further, this sample was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【0075】比較例2 実施例1において近赤外光熱変換物質を後記のSS−4
に変更する以外は同様に感光性試料を作製した。感光性
試料の感光性層中には比較例1と同様のSS−4の未溶
解結晶粒子による塗布欠陥が見られた。この試料を実施
例1と同様に評価を行った。結果を表−1に示す。Comparative Example 2 The near-infrared light-to-heat conversion material in Example 1 was replaced with SS-4 described below.
A photosensitive sample was prepared in the same manner except that the sample was changed to. In the photosensitive layer of the photosensitive sample, coating defects due to undissolved crystal particles of SS-4 were observed as in Comparative Example 1. This sample was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
【0076】[0076]
【表1】 1)表1中のカッコ内(*) は重量部を表わす。 2)表1中のFは500 mJ/cm2でも感光性層が全面流れ画像が形成しなかった事を 示す。即ち、500mJ/cm2 の露光後現像した場合、露光部を除去するまで 現像液に試料を浸漬した場合、未露光部分の感光性層も全て除去されることを意 味する。[Table 1] 1) (*) in parenthesis in Table 1 indicates parts by weight. 2) F in Table 1 indicates that even at 500 mJ / cm 2 , the photosensitive layer flowed over the entire surface and no image was formed. In other words, when development is performed after exposure of 500 mJ / cm 2 , if the sample is immersed in a developing solution until the exposed portion is removed, all the unexposed portions of the photosensitive layer are also removed.
【0077】[0077]
【化19】 Embedded image
【0078】[0078]
【化20】 Embedded image
【0079】実施例5〜8 実施例1において、感光液を下記の組成に変更し、アル
カリ性現像液を富士写真フィルム社製DP−4の8倍希
釈液を作成し、評価した。 (感光液) ・高分子化合物(1):フェノール:m−クレゾール:p−クレゾール(20: 50:30モル比)をホルムアルデヒドと共縮合させたノボラック樹脂(Mw5 000) 100重量部 ・高分子化合物(2):下記SC−1 10重量部 ・近赤外光熱変換物質:表−2に記載のもの 表−2に記載の配合量 ・着色色材料:クリスタルバイオレットラクトン 10重量部 ・添加剤: ・ポリオキシエチレン (PEG#2000:東邦化学工業(株)製) 3重量部 ・cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 4重量部 ・溶媒:メチルセロソルブ 900重量部Examples 5 to 8 In Example 1, the photosensitive solution was changed to the following composition, and an 8-fold diluted solution of DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was prepared as an alkaline developer, and evaluated. (Photosensitive solution)-Polymer compound (1): 100 parts by weight of novolak resin (Mw5000) obtained by co-condensing phenol: m-cresol: p-cresol (20:50:30 molar ratio) with formaldehyde (2): 10 parts by weight of the following SC-1 ・ Near-infrared light-to-heat conversion material: those described in Table-2 Compounding amount described in Table-2 ・ Coloring material: 10 parts by weight of crystal violet lactone ・ Additive: ・Polyoxyethylene (PEG # 2000: manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) 3 parts by weight ・ cis-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid 4 parts by weight ・ Solvent: methyl cellosolve 900 parts by weight
【0080】[0080]
【化21】 Embedded image
【0081】[0081]
【表2】 1)表2中のカッコ内(*) は重量部を表わす。[Table 2] 1) In Table 2, parentheses (*) indicate parts by weight.
【0082】[0082]
【化22】 Embedded image
【0083】SS−5(前記式(IV)に包含される化合
物):上記構造の化合物、但し X- =PF6 - ,Ra =C4 H9 −n SS−6(前記式(IV)に包含される化合物):上記構
造の化合物、但し X- =PF6 - ,Ra =C2 H5 −n[0083] SS-5 (compound encompassed in the formula (IV)): compounds of the above structure, where X - = PF 6 -, R a = C 4 H 9 -n SS-6 ( Formula (IV) Embedded image): a compound having the above structure, provided that X − = PF 6 − and R a = C 2 H 5 −n
【0084】[0084]
【化23】 Embedded image
【0085】SS−7(前記式(IV)に包含される化合
物):上記構造の化合物、但し X- =SbF6 - ,Rb =C4 H9 −n SS−8(前記式(IV)に包含される化合物):上記構
造の化合物、但し X- =SbF6 - ,Rb =C2 H5 −nSS-7 (compound included in the above formula (IV)): a compound having the above structure, provided that X − = SbF 6 − , R b = C 4 H 9 −n SS-8 (the above formula (IV) Embedded image): a compound having the above structure, provided that X − = SbF 6 − , R b = C 2 H 5 −n
【0086】〔参考例〕実施例1〜8の試料を、400
ルックスの白色蛍光灯下に10時間放置した後、同様に
感度を測定することにより、いずれも同様の感度が得ら
れた。Reference Example The samples of Examples 1 to 8 were
After leaving under a white fluorescent lamp of looks for 10 hours, the same sensitivity was obtained by measuring the sensitivity in the same manner.
【0087】[0087]
【発明の効果】本発明により、感度に優れ、塗布欠陥の
生じないポジ型感光性組成物、及びそれを用いた感光性
平版印刷版を提供することができる。特に、近赤外レー
ザー光に於て、上記特性に優れ、白色灯下での作業が可
能なポジ型感光性平版印刷版を提供することができる。According to the present invention, it is possible to provide a positive photosensitive composition excellent in sensitivity and free from coating defects, and a photosensitive lithographic printing plate using the same. In particular, it is possible to provide a positive photosensitive lithographic printing plate which is excellent in the above-mentioned characteristics in near infrared laser light and can be operated under a white light.
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C09D 7/12 C09D 7/12 Z 201/00 201/00 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) // C09D 7/12 C09D 7/12 Z 201/00 201/00
Claims (17)
脂とを含み、ラジカル重合性モノマーを含有しないポジ
感光性組成物において、近赤外光熱変換物質がN,N−
ジアリールイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリールア
ミニウム塩骨格を少なくとも1つ分子内に有する近赤外
吸収色素であることを特徴とするポジ感光性組成物。1. A positive photosensitive composition containing a near-infrared light-to-heat conversion material and an alkali-soluble resin, and containing no radically polymerizable monomer, wherein the near-infrared light-to-heat conversion material is N, N-
A positive photosensitive composition comprising a near-infrared absorbing dye having at least one diaryliminium salt skeleton or at least one N, N-diarylaminium salt skeleton in a molecule.
質を含有し、ラジカル重合性を有さないポジ型感光性組
成物において、近赤外光熱変換物質が、N,N−ジアリ
ールイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリールアミニウ
ム塩骨格を少なくとも1つ分子内に有する近赤外吸収色
素であることを特徴とするポジ型感光性組成物。2. A positive photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and a near-infrared light-to-heat conversion material and having no radical polymerizability, wherein the near-infrared light-to-heat conversion material is an N, N-diaryliminium salt. A positive photosensitive composition, which is a near-infrared absorbing dye having at least one skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton in a molecule.
質を含有し、主として化学変化以外の変化によりポジ画
像を形成しうる感光性組成物において、近赤外光熱変換
物質が、N,N−ジアリールイミニウム塩骨格又はN,
N−ジアリールアミニウム塩骨格を少なくとも1つ分子
内に有する近赤外吸収色素であることを特徴とするポジ
型感光性組成物。3. A photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and a near-infrared light-to-heat conversion material and capable of forming a positive image mainly by a change other than a chemical change, wherein the near-infrared light-to-heat conversion material is N, N- A diaryliminium salt skeleton or N,
A positive photosensitive composition comprising a near-infrared absorbing dye having at least one N-diarylaminium salt skeleton in a molecule.
質を含有し、光酸発生剤を含有しないポジ型感光性組成
物において、近赤外光熱変換物質が、N,N−ジアリー
ルイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリールアミニウム
塩骨格を少なくとも1つ分子内に有する近赤外吸収色素
であることを特徴とするポジ型感光性組成物。4. In a positive photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and a near-infrared light-to-heat conversion material and not containing a photoacid generator, the near-infrared light-to-heat conversion material is an N, N-diaryliminium salt. A positive photosensitive composition, which is a near-infrared absorbing dye having at least one skeleton or N, N-diarylaminium salt skeleton in a molecule.
質を含有し、紫外光に実質的に感受性を有さないポジ型
感光性組成物において、近赤外光熱変換物質が、N,N
−ジアリールイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリール
アミニウム塩骨格を少なくとも1つ分子内に有する近赤
外吸収色素であることを特徴とするポジ型感光性組成
物。5. A positive-type photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and a near-infrared light-to-heat conversion material and having substantially no sensitivity to ultraviolet light, wherein the near-infrared light-to-heat conversion material is N, N
A positive photosensitive composition, which is a near-infrared absorbing dye having at least one diaryliminium salt skeleton or at least one N, N-diarylaminium salt skeleton in a molecule.
質を含有するポジ型感光性組成物において、近赤外光熱
変換物質が、N,N−ジアリールイミニウム塩骨格又は
N,N−ジアリールアミニウム塩骨格を少なくとも1つ
分子内に有する近赤外吸収色素であり、かつ、該組成物
が400ルクスの光強度の白色灯下、10時間放置にお
いて、アルカリ現像液に対する溶解性が変化しないこと
を特徴とするポジ型感光性組成物。6. A positive photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and a near-infrared light-to-heat conversion material, wherein the near-infrared light-to-heat conversion material is an N, N-diaryliminium salt skeleton or an N, N-diarylamido salt. A near-infrared absorbing dye having at least one chromium salt skeleton in the molecule, and the composition does not change its solubility in an alkali developer when left for 10 hours under a white light having a light intensity of 400 lux. A positive photosensitive composition characterized by the following.
ルイミニウム塩骨格又はN,N−ジアリールアミニウム
塩骨格を1又は2ケ有する近赤外吸収色素であることを
特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のポジ感光性
組成物。7. The near-infrared light-to-heat conversion substance is a near-infrared absorbing dye having one or two N, N-diaryliminium salt skeletons or one or more N, N-diarylaminium salt skeletons. Item 7. The positive photosensitive composition according to any one of Items 1 to 6.
はN,N−ジアリールアミニウム塩骨格に含まれるアリ
ール基がフェニル基又はナフチル基であり、該アリール
基の少なくとも1つが置換基としてアルキル基で置換さ
れていてもよいアミノ基を有する請求項1〜7のいずれ
かに記載のポジ型感光性組成物。8. The aryl group contained in the N, N-diaryliminium salt skeleton or the N, N-diarylaminium salt skeleton is a phenyl group or a naphthyl group, and at least one of the aryl groups is an alkyl group as a substituent. The positive photosensitive composition according to any one of claims 1 to 7, which has an amino group which may be substituted with:
ゼン環を3ケ以上6ケ以下含有することを特徴とする請
求項1〜8のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。9. The positive photosensitive composition according to claim 1, wherein the near-infrared absorbing dye contains 3 to 6 benzene rings in its structure. .
(I)〜(IV)で表わされる色素であることを特徴とす
る請求項1〜9のいずれかに記載のポジ感光性組成物。 【化1】 【化2】 【化3】 (式中、R1 〜R8 は独立に水素原子、置換基を有して
いてもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有し
ていてもよい炭素数6〜15の芳香族炭化水素環基、又
は置換基を有していてもよい炭素数4〜15の複素環
基、R9 〜R16は独立に水素原子又は置換基を有してい
てもよい炭素数1〜15のアルキル基、R17〜R20は、
独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜
15のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6
〜15の芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよ
い炭素数4〜15の複素環基、置換基を有していてもよ
い炭素数2〜15のアシル基、置換基を有していてもよ
い炭素数2〜15のアルコキシカルボニル基、水酸基、
置換基を有していてもよい炭素数2〜15のアシルオキ
シ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又は
フッ素原子を表わし、R 1 とR9 、R2 とR10、R3 と
R11、R4 とR12、R5 とR13、R6 とR14、R 7 とR
15、及びR8 とR16はそれぞれ直接或いは、酸素原子、
イオウ原子及びアミノ基の少なくとも1つを介して結合
し環状構造を形成していてもよく、X- 及びY- はそれ
ぞれ対アニオンを表わす。また、式(I)中の電子結合
(…)は他の電子結合との共鳴状態を示す。)10. The near-infrared light-to-heat conversion material has the following general formula:
Characterized by being a dye represented by (I) to (IV)
The positive photosensitive composition according to claim 1. Embedded imageEmbedded imageEmbedded image(Where R1 ~ R8 Independently has a hydrogen atom and a substituent
Optionally having an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms and a substituent
An aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 15 carbon atoms which may be
Is a heterocyclic ring having 4 to 15 carbon atoms which may have a substituent
Group, R9 ~ R16Independently has a hydrogen atom or a substituent
An alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,17~ R20Is
Independently a hydrogen atom, carbon number 1 to 1 which may have a substituent
15 alkyl groups, 6 carbon atoms which may have a substituent
To 15 aromatic hydrocarbon ring groups, which may have a substituent
May have a heterocyclic group having 4 to 15 carbon atoms and substituents.
Acyl groups having 2 to 15 carbon atoms,
C2-15 alkoxycarbonyl group, hydroxyl group,
Acyloxy having 2 to 15 carbon atoms which may have a substituent
Si, cyano, chlorine, bromine, iodine or
Represents a fluorine atom; 1 And R9 , RTwo And RTen, RThree When
R11, RFour And R12, RFive And R13, R6 And R14, R 7 And R
Fifteen, And R8 And R16Is directly or an oxygen atom,
Linked via at least one of a sulfur atom and an amino group
And may form a ring structure.-And Y-Is it
Each represents a counter anion. In addition, the electronic bond in the formula (I)
(...) indicates a resonance state with another electronic bond. )
〜(IV′)で表わされる色素であることを特徴とする請
求項1に記載のポジ型感光性組成物。 【化4】 【化5】 (式(I′)〜(IV′)中、R1 〜R8 は独立に水素原
子、置換基を有していてもよい炭素数1〜15のアルキ
ル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜15の芳香
族炭化水素環基、又は置換基を有していてもよい炭素数
4〜15の複素環基、R9 〜R16は独立に水素原子又は
置換基を有していてもよい炭素数1〜15のアルキル
基、R17〜R20は、独立に水素原子、置換基を有してい
てもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有して
いてもよい炭素数6〜15の芳香族炭化水素環基、置換
基を有していてもよい炭素数4〜15の複素環基、置換
基を有していてもよい炭素数2〜15のアシル基、置換
基を有していてもよい炭素数2〜15のアルコキシカル
ボニル基、水酸基、置換基を有していてもよい炭素数2
〜15のアシルオキシ基、シアノ基、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子又はフッ素原子を表わし、R1 とR9 、
R2 とR10、R3 とR11、R4 とR12、R5 とR 13、R
6 とR14、R7 とR15、及びR8 とR16はそれぞれ直接
或いは、酸素原子、イオウ原子及びアミノ基の少なくと
も1つを介して結合し環状構造を形成していてもよく、
X- 及びY- はそれぞれ対アニオンを表わす。また、式
(I)中の電子結合(…)は他の電子結合との共鳴状態
を示す。)11. The near-infrared absorbing dye represented by the following general formula (I ′)
A dye represented by the formula (IV ′):
The positive photosensitive composition according to claim 1. Embedded imageEmbedded image(In the formulas (I ′) to (IV ′), R1 ~ R8 Is an independent hydrogen source
And alkyl having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent
, An aromatic group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent
Group hydrocarbon ring group or carbon number which may have a substituent
4 to 15 heterocyclic groups, R9 ~ R16Is independently a hydrogen atom or
C1-C15 alkyl optionally having substituent (s)
Group, R17~ R20Has a hydrogen atom and a substituent independently
Having an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, which may have a substituent
An aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 15 carbon atoms which may be substituted
An optionally substituted heterocyclic group having 4 to 15 carbon atoms,
An acyl group having 2 to 15 carbon atoms which may have a group,
C2-C15 alkoxycarb optionally having a group
Carbonyl group, hydroxyl group, carbon atom 2 which may have a substituent
~ 15 acyloxy groups, cyano groups, chlorine atoms, bromine atoms
Represents an atom, an iodine atom or a fluorine atom;1 And R9 ,
RTwo And RTen, RThree And R11, RFour And R12, RFive And R 13, R
6 And R14, R7 And RFifteen, And R8 And R16Are each directly
Alternatively, at least oxygen, sulfur and amino groups
May also be connected via one to form a cyclic structure,
X-And Y-Each represents a counter anion. Also, the formula
The electronic bond (...) in (I) is a resonance state with other electronic bonds.
Is shown. )
1 〜R8 が独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル
基であり、R9 〜R16が水素原子又は炭素数1〜6のア
ルキル基であり、R17〜R20が水素原子である請求項1
1に記載のポジ型感光性組成物。12. In the general formulas (I ′) to (IV ′), R
1 to R 8 are independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 9 to R 16 are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 17 to R 20 are each a hydrogen atom. Certain claim 1
2. The positive photosensitive composition according to item 1.
(II′)で表わされる色素である請求項12に記載のポ
ジ型感光性組成物。13. The positive photosensitive composition according to claim 12, wherein the near-infrared absorbing dye is a dye represented by formula (I ′) or (II ′).
水酸基を有するアルカリ可溶性有機高分子物質である請
求項1〜13のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。14. The positive photosensitive composition according to claim 1, wherein the alkali-soluble resin is an alkali-soluble organic polymer having a phenolic hydroxyl group.
脂である請求項14に記載のポジ型感光性組成物。15. The positive photosensitive composition according to claim 14, wherein the alkali-soluble resin is a novolak resin.
に記載のポジ型感光性組成物からなる層を有する感光性
平版印刷版。16. A photosensitive lithographic printing plate comprising a support and a layer comprising the positive photosensitive composition according to claim 1. Description:
を650〜1300nmの波長域のレーザー光により露
光した後、アルカリ現像液で現像してポジ画像を形成す
るポジ画像形成方法。17. A method of forming a positive image, comprising exposing the photosensitive lithographic printing plate according to claim 16 to laser light having a wavelength range of 650 to 1300 nm, and developing the resultant with an alkali developer to form a positive image.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16368399A JP2000066395A (en) | 1998-06-11 | 1999-06-10 | Positive photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and positive image forming method |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-163444 | 1998-06-11 | ||
JP16344498 | 1998-06-11 | ||
JP16368399A JP2000066395A (en) | 1998-06-11 | 1999-06-10 | Positive photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and positive image forming method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000066395A true JP2000066395A (en) | 2000-03-03 |
Family
ID=26488888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16368399A Pending JP2000066395A (en) | 1998-06-11 | 1999-06-10 | Positive photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and positive image forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000066395A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1621338A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
KR101554527B1 (en) * | 2007-11-14 | 2015-09-21 | 후지필름 가부시키가이샤 | Topcoat composition alkali developer-soluble topcoat film using the composition and pattern forming method using the same |
-
1999
- 1999-06-10 JP JP16368399A patent/JP2000066395A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1621338A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
KR101554527B1 (en) * | 2007-11-14 | 2015-09-21 | 후지필름 가부시키가이샤 | Topcoat composition alkali developer-soluble topcoat film using the composition and pattern forming method using the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3726766B2 (en) | Image forming method | |
EP0934822B1 (en) | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image | |
JP3731356B2 (en) | Positive photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and method for forming positive image | |
JP2000105454A (en) | Positive type photosensitive composition and positive type photosensitive planographic printing plate | |
JPH10282643A (en) | Positive photosensitive material for lithographic printing plate | |
JP3836617B2 (en) | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and positive image forming method | |
JP4563556B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP3949884B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP2000066395A (en) | Positive photosensitive composition, photosensitive planographic printing plate and positive image forming method | |
JP4006665B2 (en) | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate, and positive image forming method | |
JP3681268B2 (en) | Positive photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate | |
JP3946940B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP3860361B2 (en) | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate, and positive image forming method | |
JP3949882B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP3772542B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP3833840B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP2001296653A (en) | Positive-type photosensitive composition and positive-type photosensitive planographic printing plate | |
JP4153269B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP3802270B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JPH10282652A (en) | Positive photosensitive lithographic printing plate | |
JPH11174672A (en) | Negative photosensitive composition | |
JP4584487B2 (en) | Positive type image forming material and positive image forming method using the same | |
JP2001296652A (en) | Positive-type photosensitive composition and positive-type photosensitive planographic printing plate | |
JP4377392B2 (en) | Positive photosensitive composition and positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP4068320B2 (en) | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate, and positive image forming method using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040510 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050913 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20051109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060509 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061031 |