DE2852788A1 - Verfahren zur ausbildung eines bildes - Google Patents
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description
DR. E. WIEGAND DIPL-ING. W. NIEMANN DR. M. KÖHLER DIPL-ING. C. GERNHARDT
MDNCHEN (ζ HAMBURG ώ Q 9 <£ ' Q 8
TELEFON: 55547« 8000 M D N CH E N 2,
telegramme:karpatent Herzog-Wilhelm-Str. 16
W. 43342/78 - Ko/Ne 6.Dezember 19 7 8
Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami, Ashigara-Shi, Kanagawa (Japan)
Verfahren zur Ausbildung eines Bildes
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, insbesondere ein Verfahren zur Erzielung
eines Reliefbildes, wobei bildweise ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial belichtet und einer Abschälentwicklung
unterzogen wird.
Geraäss der Erfindung wird ein Verfahren zur Ausbildung
eines Bildes vorgeschlagen, wobei ein lichtempfindliches Material, das aus einem Träger und einer Schicht
aus einer lichtempfindlichen Masse, welche eine Diazonium-
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verbindung, eine o-Chinondiazidverbindung oder ein aromatisches
Azid enthält, aufgebaut ist, belichtet wird und dann durch Erhitzen in innigem Kontakt mit einem
Abschälentwicklungsträgerblatt entwickelt wird und anschliessend das Trägerblatt von dem lichtempfindlichen
Material abgeschält wird.
Zahlreiche Verfahren zur Ausbildung von Bildern durch Entwicklung von lichtempfindlichen Massen wurden vorgeschlagen
und diese umfassen beispielsweise die Entwicklung eines belichteten lichtempfindlichen Materials durch Erhitzen
nach einem thermischen Entwicklungsverfahren, durch Anwendung geeigneter Strahlung, durch Behandlung mit einem
Gas, durch elektrostatische Behandlung und durch Anwendung
von Druck.
Ein typisches Trockenverfahren ist das sogenannte Ab schälentwicklungsverfahren unter Anwendung eines lichtempfindlichen
Bildausbildungsmaterials, das einen Träger mit einer darauf befindlichen Schicht aus einer lichtempfindlichen
Masse und einem Deckblatt auf der lichtempfindlichen Schicht umfasst, wobei die Haftung der
lichtempfindlichen Schicht an dem Träger und dem Deckblatt sich bei der Belichtung ändert. Nach der Belichtung
wird das Deckblatt von dem Träger abgeschält, wobei die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht auf
dem Träger oder dem Deckblatt und die unbelichteten Bereiche auf dem anderen Material, jeweils in Form eines
Reliefbildes, hinterbleiben.
Die Bildausbildung durch eine Abschälentwicklung ist einfacher als die gewöhnliche Flüssigkeitentwicklung,
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die eine grosse Menge an Wasser oder Lösungsmittel benötigt,
da sie im trockenen Zustand ausgeführt wird. Ferner verbleibt
lediglich der Bildbereich der lichtempfindlichen Schicht aus der Bildausbildungsmasse auf dem Träger nach
der Abschälung und der Nicht-Bildbereich wird entfernt.
Infolgedessen kann die Stabilisierung, d. h. die Fixierung,
des Nicht-Bildbereiches, welche für die nach einem gewöhnlichen
Flüssigkeitsentwicklungsverfahren oder thermischen Entwicklungsverfahren entwickelten lichtempfindlichen
Materialien wesentlich ist, gleichzeitig mit dem Entwicklungsarbeit
sgang ausgeführt werden. Beim Abschälentwicklungsverfahren
wird die lichtempfindliche Masse in den Nicht-Bildbereichen auf dem Abschälblatt als feste
Schicht fixiert und kann leicht beseitigt werden, was vom Gesichtspunkt der Umgebungsverschmutzung günstig ist.
Falls die Masse brauchbare Bestandteile enthält, können diese vollständig zurückgewonnen und leicht wieder verwendet
werden». Dieses Behandlungsverfahren ist somit auch vom Gesichtspunkt der Einsparung der Rohstoffe und Energiequellen
wertvoll.
Seit dem Zeitpunkt, wo ein allgemeines Verfahren zur Bildausbildung durch Abschälen in der japanischen
Patent-Veröffentlichung 9663/63 veröffentlicht wurde, wurden zahlreiche weitere Verfahren zur Abschälentwicklung
vorgeschlagen. Diese Verfahren lassen sich auf Grund ihrer charakteristischen Gründmerkmale klassifizieren und sind
nachfolgend kurz abgehandelt.
Eine Drei-Schichtstruktur, die aus einem Träger mit
einer darauf befindlichen lichtempfindlichen Schicht mit einem photöpoiymerisierbaren Monomeren und einem auf der
lichtempfindlichen Schicht aufgeschichteten Deckblatt auf-
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gebaut ist, stellt die wichtige Grundlage auf diesem Fachgebiet dar. Die Absehalentwicklung bei dieser Art des
lichtempfindlichen Materials wird auf der Basis der Tatsache durchgeführt, dass die Polymerisation im belichteten
Bereich des Materials erfolgt, wenn das Material bildweise belichtet wird>und dass sich die Haftung der lichtempfindlichen
Schicht an dem Träger und an dem Deckblatt zwischen dem belichteten Bereich und dem unbelichteten
Bereich unterscheidet. Dies ist beispielsweise in der japanischen Patent-Veröffentlichung 3193/62 (entsprechend
der US-Patentschrift 3 060 024), der japanischen Patent-Veröffentlichung
22901/68 (entsprechend der US-Patentschrift 3 353 955) , der Japanischen Patentanmeldung
7728/72 (entsprechend der US-Patentschrift 3 770 438) und
den US-Patentschriften 3 060 023 und 3 525 615 beschrieben.
In den US-Patentschriften 3 627 529, 3 591 377 und
3 607 264 sind ähnliche lichtempfindliche Abschälentwicklungsraaterialien
angegeben, die im wesentlichen aus einem Träger, einer lichtempfindlichen Schicht und einem transparenten
Deckblatt bestehen, wobei die lichtempfindliche Masse einen photohärtbaren Polyester (US-Patentschrift
3 591 377), eine photohärtbare Olefinverbindung (US-Patentschrift 3 607 264) oder einen photohärtbaren Katalysator
und ein thiolhaltiges Olefinpolymeres (US-Patentschrift
3 627 529) enthalten.
Bei den vorstehend angegebenen Verfahren wird die Abschälentwicklung auf der Basis von Änderungen der Haftung
auf Grund der photoehemisehen Reaktion eines photopolymerisierbaren
Monomeren oder einer photohärtbaren Verbindung erreicht. Verfahren unter Anwendung anderer lichtempfind-
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licher Verbindungen sind gleichfalls bekannt. Beispielsweise
ist in der japanischen Patentanmeldung 57819/77 ein Verfahren angegeben, welches auf einer Schichtstruktur
aufbaut, die aus einem Bogen aus einem Träger mit einer darauf ausgebildeten Schicht einer klebenden Masse und
einem mit einer lichtempfindlichen Masse mit dem Gehalt
eines Diazoniumsalzes und eines Binders überzogenen transparenten
Kunststoffilm aufgebaut ist, wobei die Schichtstruktur
belichtet wird und dann abgeschält wird, so dass der unbelichtete Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse auf dem transparenten Kunststoffilm und der belichtete Bereich auf dem Träger hinterbleibt.
In der japanischen Patentanmeldung 3215/78 (US-Patentanmeldung Serial No. 810 828 vom 28. Juni 1977) und
126220/77 ist ein lichtempfindliches Material beschrieben, das aus einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse,
einem Träger und einer dünnen Filmschicht aus einem Metall oder einer Chalcogen-Verbindung zwischen dem Träger und
der lichtempfindlichen Schicht aufgebaut ist und gegebenenfalls ein Blatt mit einer Schicht aus einer klebenden Masse,
das auf der lichtempfindlichen Schicht ausgebildet ist,
enthält. Dieses Blatt wird auf der Basis der Erscheinung entwickelt, dass die Abschälentwicklung nach der Belichtung
eine selektive Trennung an der Grenzfläche zwischen der nicht empfindlichen dünnen Filmschicht und dem Träger einleitet.
Bei dem in der japanischen Patentanmeldung 23632/78 beschriebenen Verfahren wird eine lichtempfindliche Masse
mit dem Gehalt einer Polyhalogenverbindung und eines Polymeren mit einem Phenolkern verwendet und durch Abschälen
des an dar Schicht aus der lichtempfindlichen Masse vor
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oder nach der Belichtung anhaftenden transparenten filmartigen Materials wird ein Bild entsprechend dem belichteten
Bild auf dem Träger erhalten.
In der britischen Patentschrift 1 319 295 ist ein Abschäl en twi ckl ung sve rf ahr en beschrieben, welches die Aufschichtung
einer wärmeerweichbaren polymeren Schicht und eines zur Absorption von Infrarotstrahlen fähigen Pulvers
auf einem Träger, die Aussetzung des erhaltenen Materials an Infrarotstrahlen zur Erzielung einer bildweisen Klebrigkeit
der wärmeerweichbaren polymeren Schicht und die Abtrennung der polymeren Schicht von dem Träger unter Ausbildung
eines Bildes auf dem Träger umfasst.
Vorstehend wurden die grundsätzlichen Eigenschaften der bekannten Verfahren zur Bildausbildung durch die Abschälentwicklung
abgehandelt. Das Grundprinzip der Abschälentwicklung war bisher der Unterschied der Haftung zwischen
der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem
Träger, die bei der Aussetzung an Licht eingeleitet wurde. Beispielsweise wird bei der Abschälentwicklung eine photopolymerisierbare
oder photohärtbare lichtempfindliche Masse verwendet und bei der Belichtung nimmt die Haftung der
photoehemisehen Masse in dem belichteten Bereich gegenüber
derjenigen vor der Belichtung zu oder ab,-wodurch Bilder
im belichteten Bereich und unbelichteten Bereich wie auf unterschiedlichen Trägern ausgebildet werden. Beispielsweise
ist in der japanischen Patent-Veröffentlichung
9663/63 ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes angegeben, welches die Belichtung einer lichtempfindlichen Masse in
innigem Kontakt mit einem Deckblatt und die Abschälung des Deckblattes unter Ausnützung der Tatsache umfasst, dass die
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lichtempfindliche Haftungsschicht eine geeignete Klebrigkeit
bei Raumtemperatur besitzt.
Ferner ist in den japanischen Patentanmeldungen 57819/77, 3215/78 (US-Patentanmeldung Serial No. 810 828
vom 28. Juni 1977) und 14-1003/76 beispielsweise ein Verfahren angegeben, bei dem die Haftfähigkeit der lichtempfindlichen
Massenschicht selbst bei Raumtemperatur nicht wesentlich ist. Bei diesem Verfahren wird die zur
Abschälentwicklung erforderliche Klebrigkeit durch Ausbildung einer druckempfindlichen Klebschicht auf dem als
Deckblatt verwendeten Abschälblatt erhalten. Bei diesen Verfahren wird ein klebendes Abschälblatt innig an die
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse vor oder nach
der bildweisen Belichtung angeheftet und dann abgeschält. Infolgedessen besteht dort eine grössere Breite der Auswahl
der charakteristischen Eigenschaften der lichtempfindlichen Masse als bei den vorstehenden Verfahren, die lediglich
auf einer photopolymsrisierbaren Verbindung beruhen und
die Klebrigkeit der Schiclru aus der lichtempfindlichen
Masse selbst bei Raumtemperatur ausnützen.
Es wurden auch einige Verfahren, bei denen die Abschichtung des Bildes durch Erhitzen des Bildausbildungsmaterials zum Zeitpunkt der Abschälung verbessert wird,
angegeben. Inder US-Patentschrift 3 060 023 ist ein Verfahren beschrieben, welches die Anwendung eines Gemisches aus einem photopolymerisierbaren Monomeren und einem
thermoplastischen Polymeren als Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse umfasst, wobei nach der Belichtung die lichtempfindliche Schicht in innigem Kontakt mit einem
Aufnahmeblatt bei einer Temperatur von mindestens 40° C
gebracht wird, so dass selektiv der unbelichtete Bereich,
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d. h. der unpolymerisierte Bereich, aus dem photopolymerisierbaren
Monomeren, erweicht wird und thermisch das Bild auf das Aufnahmeblatt übertragen wird. Bei diesem Verfahren
wird die Übertragung des unbelichteten (ünpolymerisierten)
Bereiches der thermoplastischen photopolymerisierbaren
Masse auf das Aufnahmeblatt unter Wärme ausgenützt und es ermöglicht eine grosse Anzahl von Kopien, indem
die belichtete Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse in Kontakt mit einem geeigneten Träger zur Übertragung
des unbelichteten Bereiches unter Wärme gebracht wird. Da bei diesem Verfahren ein aus dem unpolymerisierten Bereich
aufgebautes Übertragungsbild stets als Bild verwendet wird, ist es, wenn man das auf dem Träger erhaltene Bild
weiterhin für eine Druckplatte oder einem Photowiderstand ausnützen will, notwendig, eine zusätzliche Stufe der
Härtung des übertragenen Bildes durch eine Nachbehandlung, wie Belichtung, anzuwenden.
In der japanischen Patentanmeldung 39025/76 ist ein Verfahren angegeben, wobei bildweise ein dreischichtiges
Bildausbildungsmaterial, das aus einem Metallsubstrat,
einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse mit dem Gehalt eines additionspolymerisierbaren Monomeren und
Polyvinylbutyral und aus einem Deckblatt und die Abschälung des belichteten Materials unter Erhitzen desselben umfasst,
wodurch eine Kohäsionszerstörung des unbelichteten Bereiches,
d. h. des unpolymerisierten Bereiches, der lichtempfindlichen Schicht eingeleitet wird und das gleiche
positive Bild,wie es zur bildweisen Belichtung verwendet wurde, auf dem Metallsubstrat erhalten wird, wobei dieses
Bild als Photowiderstandsbild ausgenützt wird.
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Im Vorstehenden wurden Beispiele gegeben, bei denen ein Erhitzen zum Zeitpunkt der Abschälung ausgeführt wurde.
Bei diesen sämtlichen Beispielen wird eine Schicht aus einer photopolymerisierbaren Masse angewandt und die
"übertragung des Bildes auf ein Bildaufnahmeblatt wird
durch Erhöhung der Fliessfähigkeit des unbelichteten Bereiches
durch Erhitzen erleichtert.
Ein Verfahren zur Erzielung eines Übertragungsbildes
aus einem lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterial mit dem Gehalt einer Azidverbindung durch Trockenbehandlung
ist in der deutschen Patentschrift Λ 926 658 beschrieben. Bei diesem Verfahren wird ein Bild auf einem vorbehandelten
Bildaufnahmeblatt durch thermische Übertragung ausgebildet. Jedoch wird lediglich ein sublimierbarer Bestandteil auf
das Bildaufnahmeblatt übertragen und dadurch ergibt sich die Ausbildung eines sichtbaren Bildes, jedoch wird kein
Reliefbild gebildet.
Im Gegensatz hierzu ist bei dem in der japanischen Patentanmeldung 57819/77 angegebenen Verfahren eine Schicht
aus einer klebenden Masse in innigem Kontakt mit der aus einer Diazoniumverbindung und einem Binder aufgebauten
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse ausgebildet und
nach der bildweisen Belichtung werden die beiden Elemente voneinander abgeschält, so dass ein Reliefbild entsprechend
dem belichteten Bild erzielt wird.
Eine Hauptaufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Abschälentwicklung, wobei das Abschälentwicklungsträgerblatt:
bei Raumtemperatur nicht klebend oder klebrig ist.
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Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Abschalentwicklungsverfahren, wobei eine Diazoniumverbindung
oder eine aromatische Azidverbindung als lichtempfindliches Material eingesetzt wird.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Abschälentwicklung, wobei die lichtempfindliche
Schicht bei Raumtemperatur nicht klebend oder klebrig ist.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Abschalentwicklungsverfahren, welches nicht die Anwendung
eines Deckblattes vor der Belichtung erfordert, so dass ein inniger Kontakt zwischen der lichtempfindlichen Schicht
und einem Dia aufrechterhalten werden kann.
Die vorliegende Erfindung liefert ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, wobei bildweise ein lichtempfindliches
Bildausbildungsmaterial, das aus einem Träger mit einer darauf aufgezogenen Schicht aus einer lichtempfindlichen
Masse, welche bei gewöhnlicher Temperatur fest und nicht klebend oder klebrig ist, jedoch.beim Erhitzen erweicht
,aufgebaut ist, belichtet wird und innig das belichtete Material unter Erhitzen mit einem bahnartigen Träger
mit einer wärmeerweichbaren Kunststoffschicht, die nicht klebend bei gewöhnlicher Temperatur ist, kontaktiert wird,
indem beispielsweise die beiden Elemente zwischen Heizwalzen durchgeführt werden, und dann das Bildausbildungsmaterial
von dem Abschälentwicklungsträger abgetrennt wird, wodurch der belichtete Bereich oder der unbelichtete Bereich
der lichtempfindlichen Schicht selektiv auf dem Abschälentwicklungsträgerblatt fixiert wird und das entspre-
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chende Reliefbild auf dem Träger fixiert wird, wobei mit
dem hier angewandten Ausdruck "gewöhnliche Temperatur" Temperaturen im Be:
bezeichnet werden.
bezeichnet werden.
Temperaturen im Bereich von etwa 5° C bis etwa 40° C
Ein charakteristisches Merkmal der Erfindung liegt darin, dass ein Bildausbildungsmaterial mit einer Schicht
aus einer lichtempfindlichen Masse mit dem Gehalt einer Diazoniumverbindung oder einer Azidverbindung und einem
thermoplastischen Binder bildweise belichtet wird und dann in innigem Kontakt mit einem Abschälentwicklungsträgerblatt
erhitzt wird, welches zumindest bei gewöhnlicher Temperatur nicht klebend ist, worauf die beiden
Elemente voneinander unter Übertragung und Anhaftung des
belichteten (oder unbelichteten) Bereiches der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse selektiv auf dem bahnartigen
Abschälentwicklungsträger getrennt werden und gleichzeitig ein aus dem entsprechenden unbelichteten (oder belichteten)
Bereich auf dem Träger aufgebautes Reliefbild ausgebildet wird.
Ein weiteres charakteristisches Merkmal der Erfindung
liegt darin, dass die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse aus einer festen Schicht besteht, die bei gewöhnlicher
Temperatur nicht klebrig ist. Da sie nicht klebrig ist, ist es nicht notwendig, vor der Belichtung ein Deckblatt
aufzubringen, wie es wesentlich ist, falls eine lichtempfindliche Schicht verwendet wird, die ein bei gewöhnlicher
Temperatur fliessfähiges oder klebriges photopolymerisierbares
Monomeres enthält. Da kein Deckblatt erforderlich ist, können das eingesetzte Dia und die lichtempfindliche
Schicht bei der Belichtung in vollständig anhaftendem Zustand verwendet werden. Deshalb können Stö-
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rungen, wie Streuung, Reflexion und dgl., des aufstrahlenden
Lichtes, die auftreten, wenn ein Deckblatt vorhanden ist, auf einem Minimum gehalten werden. Deshalb wird eine
markante Verbesserung der Auflösungsstärke der Bilder
erreicht, die bei den gewöhnlichen Abschältentwicklungsverfahren
als mangelhaft zu betrachten ist. Nach dem erfindungsgemässen
Verfahren können beispielsweise Bilder mit einer Linienbreite von 5/um ohne Schwierigkeiten aufgelöst
werden.
Die Erfindung wird nachfolgend im einzelnen erläutert.
In den Zeichnungen stellen
Pig. 1 ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial gemäss der Erfindung, das an ein Dia ausgesetzt ist,
Fig. 2 das belichtete Bildausbildungsmaterial in innigem Kontakt mit dem Abschälentwicklungsträgerblatt,
Fig. 3 die Abtrennung des Abschältentwicklungsträgerblattes
von dem Bildausbildungsmaterial, und
die Fig. 4· und 5 weitere Ausführungsformen der
vorliegenden Erfindung
dar.
dar.
Im Rahmen der ausführlichen Beschreibung der Erfindung umfasst die erfindungsgemäss eingesetzte lichtempfindliche
Masse eine Diazoniumverbindung oder eine Azidverbindung und einen thermoplastischen Binder und enthält gegebenenfalls
Zusätze, beispielsweise zur Konservierung und Stabilisierung des lichtempfindlichen Materials, zur Verbesserung
des Verhaltens bei der Bildausbildung und der Abschälentwicklung oder, um die Bilder sichtbar zu machen, sowie
für andere Zwecke.
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-M-
4* 285270S
Die zur Anwendung gemass der Erfindung geeigneten
aromatischen Diazoniumverbindungen lassen sich durch die allgemeine Formel
ArN2 +X"
wiedergeben, worin N~ die Diazoniumgruppe (-N~=N ) und
Ar die den Fachleuten als brauchbar zur Bildung stabiler lichtempfindlicher Diazoniumverbindungen bekannten aromatischen
Einheiten bedeuten, wobei unter "stabil" zu verstehen ist, dass die Verbindung unter nicht-aktinischem
Licht, d. h. sichtbarem Licht und nahem Infrarotlicht stabil ist. Derartige Beste sind beispielsweise in
J. Kosar, Light-Sensitive Systems, John Wiley & Sons, Inc., New York, N.Y. (1965), Seite 202 bis 214 und Glafkides,
Photographic Chemistry, Band 11, Fountain Press, London, England (1960), Seite 709 bis 725 beschrieben.
Die erfindungsgemäss einsetzbaren Diazoniumsalze lassen sich entsprechend ihrer chemischen Struktur klassifizieren
und sind nachfolgend erläutert.
Die Einheit Ar in den Verbindungen der allgemeinen Formel bezeichnet eine N-substituierte 4-Aminobenzoldiazoniumgruppe,
eine Ν,Ν-substituierte 4-aminosubstituierte
Benzoldiazoniumgruppe oder eine S-substituierte 4-Mercaptobenzöldiazoniumgruppe
und X bedeutet ein Anion. Zu den N-substituierten Aminogruppen gehören beispielsweise Alkylaminogruppen,
Dialkylaminogruppen, Dialkylaminogruppen,
worin die beiden Alkylgruppen voneinander unterschiedlich sind, wobei Beispiele für Alkylgruppen Methyl-, Äthyl-,
Propyl-, Isopropylgruppen oder dgl., sind, Phenylaminogruppen oder heterocyclische Gruppen, wie Morpholino-,
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Piperidino-, Piperazinyl- oder Pyrrolidinylgruppen. Der
Benzolring kann durch Alkylgruppen,Alkoxygruppen, Phenoxygruppen
oder Trifluormethylgruppen oder Halogenatome substituiert sein. Die substituierte Mercaptogruppe kann aus
einer Alkylthio- oder Arylthiogruppe bestehen, wobei Beispiele
für die Alkylgruppe die gleichen sind, wie vorstehend für die Alkylaminogruppe angegeben. Die Arylgruppen umfassen
Phenyl-, Tolyl-, Ithylphenyl-, Naphthylgruppen und dgl.
Beispiele für Anionen sind solche der Metallhalogenide, wie Zinkchlorid oder Zinnchlorid, Borverbindungen, wie
Tetrafluorborat oder Tetraphenylborat, Perchlorsäure, organische
Säuren, wie p-Toluolsulfonsäure, Hexafluorphosphat,
Hexafluorarsenat und Hexafluorantimonat.Diese bilden normale
Salze oder Doppelsalze mit den vorstehenden Diazoniumverbindungen und tragen zu ihrer Stabilität bei.
Einige Diazoniumsalze der allgemeinen Formel Ar^X
sind nachfolgend spezifisch aufgeführt.
Diazoniumsalze mit einer Dialkylaminogruppe als N-sübstituierte
Aminogruppe sind beispielsweise das 4-(N,N-Diäthylamino)-benzoldiazoniumsalz,
4-(N,N-Dimethylamino)-benzoldiazoniumsalz,
2-Methyl-4-(N,N-diäthylamino)-benzoldiazoniumsalz
und 2-Chlor-4-(N,N-diäthylamino)-benzodiazoniumsalz.
Diazoniumsalze mit dem Gehalt einer Dialkylaminogruppe
als N-substituierter Aminogruppe, wobei die beiden Alkylgruppen
voneinander unterschiedlich sind, sind beispielsweise das 4-(N-Methy1-N-äthylamino)-benzoldiazoniumsalz.
Diazoniumsalze mit dem Gehalt einer Phenylaminogruppe als N-substituierte Aminogruppe umfassen beispielsweise
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Al
das 4-(N-Äthyl-N-lienzylamino)-benzoldiazoniumsalz und
das 4—Anilinobenzoldiazoniurasalz.
Diazoniumsalze mit dem Gehalt einer heterocyclischen
Gruppe als N-substituierte Äminogruppe in der vorstehenden Formel sind beispielsweise das 4—Morpholinobenzoldiazoniumsalz,
sas 2,5-Dibutoxy-4—morpholinobenzoldiazoniumsalz,
das 2,5-Diäthoxy-4~morpholinobenzoldiazoniumsalz, das 2,5-Diäthoxy-4-morpholinobenzoldiazoniumsalz
und das 3-Methyl-4-pyrrolidinylbenzoldiazoniumsalz.
Die Diazoniumsalze mit S-substituierten 4-Mercaptogruppen
umfassen beispielsweise das 4-Äthylmercapto-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumsalz
und das 4-Tolylmercapto-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumsalz.
Weiterhin geeignet sind Diazoniumsalze, welche durch
Polykondensation von Diazοdiphenylamin und Formaldehyd
erhalten wurden. Ein speaifi seiles Beispiel ist ein Polymeres
mit der folgenden Struktur:
NX
CH.
η > 1
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worin X die gleiche Bedeutung wie vorstehend besitzt.
Ortho- oder para-Chinondiazide können gleichfalls im Rahmen der Erfindung eingesetzt werden. Spezifische
Beispiele sind die folgenden:
Naphthalin- 1,2-diazooxid-4-sulfonsäuren als Verbindungen
der Formel
SO9-N-R,
Il
worin R^ ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, beispielsweise
Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Isopropylgruppe und dgl.,
oder eine Aralkylgruppe, beispielsweise Benzyl-, Phenäthyl-, gruppe und dgl., und Rp ei°e Arylgruppe, beispielsweise
Phenyl-, ToIyI-, JLthylphenyl-, Naphthylgruppe und dgl.,
bedeuten^und Verbindungen der Formel
SO3R3
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worin R7, eine Alkoxygruppe, beispielsweise Methoxy-,
Äthoxy-, Propoxygruppe und dgl., Aryloxygruppe, beispielsweise Phenoxy-, Tolyloxygruppe und dgl., Alkylaminogruppe,
beispielsweise Methylamino-, Ethylamino-,
Dimethylamino-, Diäthylarainogruppe und dgl., Aralkylaminogruppe,
beispielsweise Benzylaminq-, Dibenzylaminogruppe und dgl., oder Carb oxy alkoxy alkyl gruppe, beispielsweise
Carboxymethoxymethylgruppe und dgl., bedeuten oder Verbindungen der Formel
SO2- N-Y-Z-SO-
worin Xx, und X^ die Gruppen Np oder 0 bedeuten, Y eine
Arylengruppe, beispielsweise Phenylen-, Naphthylengruppe
und dgl., oder eine Alkylengruppe, beispielsweise Methylen-, Äthylen-, Trimethylen-, Tetramethylengruppe und
dgl., Z die Gruppen 0 oder -NR^, wobei R^ ein Wasserstoffatom,
eine Alkylgruppe, z. B. Methyl-, Äthyl-, Propyl-,
Isopropylgruppe und dgl., oder Arylgruppe, beispielsweise
Phenyl-, Tolyl-, Äthylphenyl-, Naphthylgruppe und dgl.,
darstellt, bedeuten.
Besonders brauchbare Diazoniumsalze zur Anwendung beim erfindungsgemässen Verfahren sind solche, die relativ
hohe Löslichkeiten in organischen Lösungsmitteln besitzen und die in relativ hoher Konzentration bezüglich des Binders
bei der Ausbildung einer Lösung in einem organischen Lö-
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ORlGfNAL INSPECTED
sungsmittel zur Bildung der lichtempfindlichen Bildausbildungsmasse
zusammen mit dem Binder verwendet werden können, wie nachfolgend erläutert.
Üblicherweise stehen zwei Massnahmen zur Verfügung, um diese Bedingungen zu erzielen. Die erste Massnahme
besteht darin, das Diazoniumkation der Formel ArN^
in der allgemeinen Formel ArüTp^·^ oleophil oder weniger
hydrophil beispielsweise durch Einführung einer Alkoxygruppe in den aromatischen Ring zu machen. Die zweite
Massnahme besteht darin, den anionischen Anteil 2F^ oleophil
oder weniger hydrophil zu machen und zu diesem Zweck werden Tetraphenylborat, Tetrafluorborat, Hexafluorphosphat,
Hexafluorarsenat, p-Toluolsulfonsäure und Hexafluorantimonat
anstelle der Metallhalogenide, wie sie üblicherweise eingesetzt werden, verwendet. Diese Verbindungen
bilden Doppelsalze zusammen mit den Diazoniumkationen und erhöhen deren Löslichkeit in organischen Lösungsmitteln.
Selbst wenn beispielsweise infolgedessen ein in einem organischen Lösungsmittel lösliches Polymeres als Binder
verwendet wird, kann das Verhältnis des Diazoniumsalzes
zu dem Binder auf beispielsweise 1 : 5 oder bis zu 1 : 1 erhöht werden und eine hohe Konzentration des lichtempfindlichen
Materials kann erhalten werden. Die leichte Bildausbildung wird deshalb markant erhöht.
Als Diazoniumsalze können auch solche verwendet werden, die nach bekannten Verfahren polymer gemacht wurden.
Ein Beispiel ist das sogenannte Diazoharz, welches durch Polykondensation von p—Diazodiphenylamin mit Formaldehyd
erhalten wurde.
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Die Diazoniumsalze können auch zusammen mit Verbindungen, die zur Umsetzung mit den Diazoniumsalzen unter
Bildung von Farbstoffen oder zu deren Stabilisierung fähig sind, wie sie den Fachleuten als Diazokuppler geläufig
sind, zugesetzt werden. Falls ein Diazokuppler zusammen mit dem Diazoniumsalz vorliegt, ist es möglich,
eine Kupplungsreaktion nach der Ausbildung eines Reliefbildes
auf dem Träger auszuführen und dadurch die Diazoniumverbindung
nicht-empfindlich zu machen. Infolgedessen
wird das Bild gegenüber Licht oder Wärme stabilisiert und wird dauerhafter.
Derartige Diazokuppler können solche sein, die gleichzeitig eine Färbildungsreaktion einleiten, können jedoch
auch solche sein, die lediglich die Diazoniumverbindung
nicht-empfindlich machen, anders ausgedrückt solche, die die Verbindung fixieren. Solche mit einem hohen Molekulargewicht
werden besonders zur Bildung starker Bilder bevorzugt.
Beispiele derartiger Diazokuppler sind beispielsweise
auf den Seiten 215 bis 248 von Kosar,Light-Sensitive System,
supra, aufgeführt, beispielsweise 3-Acetamidophenol, 3-(N-3l-Aminobenzoyl)-aminophenol,
m-Hydroxybenζylalkohol,
Λ, 2-Dihydroxybenzol, 1 * 3--Dihydroxybenzol, 4-Fluorre sorcin,
Resorcin-o-essigsäure, Hydrochinonmonomethyläther, Phloroglucinol,
α-Naphthol, 2,3-Dinydroxynaphthalin und dgl.
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Aromatische Azidverbindungen, die erfindungsgemäss eingesetzt werden können, sind diejenigen der allgemeinen
Formel 11,-R-CH=CH-R^, worin R eine Phenylengruppe
und R^j eine Acylgruppe, beispielsweise p-Azidobenzoyl-,
Benzoyl-, 4- Azido-1-sulfostyrylcarbonylgruppe und dgl.,
oder eine Azidoarylgruppe, beispielsweise p-Azidophenyl-,
4—Azid-1-sulfophenylgruppe und dgl., bedeuten. Diese
Verbindungen sind den Fachleuten beispielsweise aus J. Kosar, Light-Sensitive Systems, Seite 330 bis 336,
Supra, bekannt, beispielsweise 4,4'-Azidostilben-2,2ldisulfonsäure,
4'Azido-4-azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 4-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure,
4,4'-Azidochalcon und dgl. Auch Verbindungen, die nicht
unter den Bereich der-Formel N,-R-CH=CH-R^ fallen, wie
2,6-Di-(4'-azidobenzal)-cyclohexanon, 2,6-Di-(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon
und dgl. können verwendet werden.
Brauchbare Azidverbindungen einer weiteren Klasse sind die auf den Seiten 93 bis 97 von Photo-Sensitive Resins,
Revised Edition, von Takahiro Tsunoda, Verleger Publishing Department of the Japanese Society of Pringting,
1975i W.S. DeForest, Photoresist: Materials and Processes,
Seite 19 bis 62 (1975), McGraw-Hill Book Co., Jtfew York,
beschriebenen Verbindungen. Spezifische Beispiele hiervon umfassen 2,6-Dichlor-4-nitro-azidobenzol, Azidodiphenylamin,
3,3*-Dimethoxy-4,41-diazidodiphenyl, 4'-Methoxy-4-azidodiphenylamin,
4,4'-Diazidodiphenylamin, 4,4'-Diazidodiphenylmethan,
4'-Nitrophenylazobenzol-4-azid, 1-Azidopyren,
3,3'-Dimethyl-4,4'-diazidodiphenyl, 4,4!-Diazidophenylazonaphthalin,
p-Phenylenbisazid, p-Azidobenzophenon, 4,4'-Diazidobenzophenon, 4,4'-Diazidochalcon,
2,6-Di-(4l-azidobenzal)-cyclohexan und 2,6-Di-(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon.
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Verschiedene filmbildende Verbindungen können als Binder zur Anwendung in der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse eingesetzt werden. Insbesondere Polymere
mit guter Pilmbildungseignung sind brauchbar. Wie nachfolgend
ausgeführt, liegt ein Merkmal des erfindungsgemässen Verfahrens darin, dass ein sehr breiter Bereich
von Verbindungen verwendet werden kann. Jedoch ist es notwendig, die besten Binder zur Ausbildung der Bildausbildungsmaterialien
unter Anwendung der Verträglichkeit mit den Diazoniumverbindungen oder aromatischen Azidverbindungen
als lichtempfindlichen Verbindungen, der Stabilität der lichtempfindlichen Schicht, der Haftung am
Träger und anderen Eigenschaften als Kriterien auszuwählen. ^
Beispiele für geeignete polymere Binder umfassen thermoplastische lineare Polymere, wie Polyvinylbutyral,
Polyvinylformal, Polystyrol, Poly-(methylmethacrylat),
Polyvinylacetat, Polyester, Polyamine, Polyurethans und Polyamide, binäre Copolymere, wie Vinyliden/Acrylnitril-Copolymere,
Styrol/Acrylnitril-Copolymere, Vinylmethyläther/Maleinsäureanhydrid-Copolymere,
Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid-Copolymere,
Vinylchlorid/Vinylacetat- . Copolymere oder Vinylchlorid/Styrol-Copolymere und ternäre
oder quaternäre Copolymere, die dritte und vierte Comonomere enthalten. Teilweise vernetzte wasserlösliche Polymere,
wie Gelatine, Polyvinylalkohol oder Polyvinylpyrrolidon und Verbindungen, die von sich aus nicht thermoplastisch
sind, wie Epoxyharze, können verwendet werden, falls sie durch Vermischen derselben mit thermoplastischen
Bindern oder anderen Zusätzen verbessert werden, um praktisch Wärmeerweiehbarkeit an die Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse zu erteilen.
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Polyäthylenglykol, Kolophonium oder Naturwachse und Wachse, die eine schlechte Filmbildungseignung besitzen,
können als Binder verwendet werden, jedoch sollten sie vorzugsweise zusammen mit anderen polymeren Bindern zur
Erhöhung der Wärmeerweichbarkeit der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse verwendet werden. Diese polymeren Substanzen können auf einen Träger dispergiert in einem
wässrigen oder organischen Lösungsmittel als Latex aufgezogen werden.
Beispiele für thermoplastische Polymere, die besonders geeignet als Binder in den lichtempfindlichen Masse gemäss
der Erfindung sind, umfassen Vinylidenchlorid, Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copo.lymere,
Polyvinylbutyral und dgl. Wenn die Haftkraft der Binder an bogenartigen Abschälentwicklungsträger
bei der angewandten Abschälentwicklungsbehandlungstemperatur
zu schwach ist, können gute Ergebnisse erhalten werden, wenn weiterhin auf der Schicht aus
der lichtempfindlichen Masse ein Material, welches bei relativ niedriger Temperatur thermoplastisch ist und
Klebrigkeit oder Haftung zeigt, angebracht wird, beispielsweise Polyvinylbutyral.
Weiterhin kann Polyvinylalkohol, der einen hydrophilen Binder darstellt, vorteilhaft verwendet werden, wenn die
eingesetzte lichtempfindliche Substanz hydrophil ist. In einem derartigen Fall kann ein hydrophobes Polymeres
zum Aufziehen in Latexform eingesetzt werden.
Plastifizieren die bei Raumtemperatur flüssig öder
viskos sind, können in Mengen zugesetzt werden, die die Form der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse nicht
verschle chtern.
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Der Absclaälentwicklungseffekt gemäss der Erfindung kann auch durch Zusatz organischer oder anorganischer
feiner Pulver, wie kolloidaler Kieselsäure, Stärke, Russ, Glaspulver und Metallpulvern erhöht werden.
Im Hinblick auf den Zweck, wofür die Eeliefbilder
verwendet werden sollen, kann die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auch Pigmente oder Farbstoffe, feine
Metallpulver und magnetische Materialien oder fluoreszierende
Substanzen im molekülardispergierten Zustand oder
als Kristalle oder feine Pulver enthalten.
Die Stärke der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse beträgt allgemein 0,5/um bis 500 /um, vorzugsweise
1/Um bis 100/um.
Als Träger zum Tragen der lichtempfindlichen Masse
beim erfindungsgemässen·Verfahren können sämtliche flachen
Materialien, beispielsweise Metallbleche, z. B. aus Aluminium, Stahl, Zink, Eisen, rostfreiem Stahl und Messing,
und harte, nicht flexible Materialien, wie Glas, Keramik, Holz oder Kunststoffe, sowie flexible Materialien, wie
Papier, Künststoffilme, Fasermaterialien und vakuumabgeschiedene
Filme verwendet werden. Die Oberflächen sämtlicher derartiger Träger können weiterhin durch Überziehen, Vakuumabscheidung,
Beschichtung, Polieren, Aufrauhen, Elektrodenreaktion, elektrische Entladung, Erhitzen oder
andere bekannte Massnahmen behandelt sein.
Der Träger kann transparent, nicht-transparent oder mit Farbstoffen oder Pigmenten in Abhängigkeit davon gefärbt
sein, ob das lichtempfindliche Material als trans-
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parentes sichtbares Bild, als Reflexionsbild oder als Widerstand verwendet wird.
Es besteht keine spezielle Beschränkung hinsichtlich der Stärke oder Gestalt des Trägers. Im Pail eines Filmes
oder Bogens liegt dessen Stärke im allgemeinen zwischen etwa 10/ura bis einigen Zentimetern. Solche, mit Stärken
ausserhalb dieses Bereiches können gleichfalls eingesetzt werden, falls sie ein Aufziehen und Verbinden und Abschälen
zum Zeitpunkt des Erhitzens ermöglichen.
Das beim erfindungsgemassen Verfahren eingesetzte
Abschälentwicklungsträgerblatt sollte flexibel sein und
eine geeignete Haftung an der lichtempfindlichen Massenschicht und Zeitpunkt der engen Kontaktauf ηahme mit der
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse besitzen. Materialien, die dieses Erfordernis erfüllen, lassen sich aus
Kunststoffilmen von thermoplastischen Polymeren und Copolymeren, wie Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polystyrol,
Polyäthylen, Polypropylen, Polyamiden, Polyestern, Celluloseacetat, Polyurethan und Polyharnstoff, Papieren,
Metallfolien und Tüchern, beispielsweise auswählen. Zum Zweck der Einstellung der Oberflächeneigenschaften derartiger
Materialien können sie wärraebehandelt werden oder einer elektrischen Entladung unterzogen werden oder eine
zweite Komponente kann auf sie durch Aufziehen, Vakuumabscheidung, Pressverbindung, Färbung und dgl. aufgeschichtet
werden.
Von diesen Materialien sind solche mit Schichtstruktur
besonders wertvoll. Papiere, worauf Polyäthylen, Polypropylen oder Saran aufgeschichtet ist, und Polyesterträger
mit einem hierauf aufgeschichteten Polymeren mit einer
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niedrigen Wärmeerweichungstemperatur, d. h. sogenannte
Warmelaminatfilme oder Warmeklebfilme, sind sehr brauchbar.
Ein bahnartiger Abschälentwicklungsträger, der besonders wirksam für die praktische Ausführung des erfindungsgemassen
Verfahrens ist, ist ein unter der Bezeichnung Fuji Laminate Film durch die Fuji Photo Film Co., Ltd.
im Handel befindlicher Film, der aus einem Polyethylenterephthalat
film und einem Ionomeren (Surlyn A der E. I. du Pont de Hemours & Co., Inc.}, das hierauf aufgeschichtet
ist, besteht. Dieser kann in weitem Umfang bei verschiedenen Schichten aus lichtempfindlichen Massen
eingesetzt werden. Hiervon können Kompositionsfilme mit einer dünnen Schicht aus einem Ionomeren, beispielsweise
Surlyn A, oder einem thermoplastischen polymeren Material, beispielsweise Polyäthylen,'aufgeschichtet auf einem Polyesterfilm,
beispielsweise einem Polyäthylenterephthalatfilm,
oder der Oberfläche von Papier, Polyvinylchloridfilme und Polystyrolfilme als Beispiele für geeignete Abschälentwicklungsträger
aufgeführt werden. Ferner sind Polyesterfilme, beispielsweise aus Polyalkylenterephthalat,
oder Celluloseacetatfilme, beispielsweise Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat und dgl., Beispiele für geeignete
Abschälentwicklungsträger, falls eine hohe Temperatur
als Erhitzungstemperatur gewählt wird. Falls weiterhin das thermoplastische Binderpolymeres als solche, welches
in der lichtempfindlichen Masse enthalten ist, eine starke Klebkraft bei der angewandten Erhitzungstemperatur besitzt
und eine schwache Kohäsionskraft in der Schicht aus
der lichtempfindlichen Masse hat, Papier als Abschälentwicklungsträger
gemäss der Erfindung eingesetzt werden.
Beim erfindungsgemässen Verfahren wird das Abschäl-
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-je.
entwicklungsträgerblatt nach der bildweisen Belichtung
der lichtempfindlichen Schicht aufgebracht und infolgedessen kann der Abschälentwicklungsträger transparent oder
nicht transparent, gefärbt oder mit organischen oder anorganischen Pigmenten oder festen Pulvern gefüllt sein. Beispielsweise
ist eine durch Aufschichten eines TiC^-Pulvers auf einen Polyesterfilm unter Anwendung von Cellulosetriacetat
als Binder erhaltene Struktur ein sehr guter Träger für die Abschälentwicklung.
Die Stärke des Trägers sollte so sein, dass die erforderliche Festigkeit zum Abschälen des belichteten oder
unbelichteten Bereiches der lichtempfindlichen Masse ohne Bruch zum Zeitpunkt der Abschälentwicklung erhalten wird.
Ein Einzelfilm oder ein beschichteter Kunststoffilm oder ein derartiges Papier hat im allgemeinen eine Stärke von
10/um bis 2mm, vorzugsweise 15/um bis 0,5 mm.
Beim Wärmeschichtungsarbeitsgang beim erfindungsgemässen
Verfahren variiert die erforderliche Temperatur in Abhängigkeit von dem Aufbau der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse und des Abschälentwicklungsblattes, der Wärmeerweichungstemperatur der lichtempfindlichen
Schicht des Entwicklungsblattes, der Kombination der
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem Entwicklungsblatt und dgl. Wenn die Temperatur zu niedrig ist,,
haftet die lichtempfindliche Schicht nicht ausreichend an dem Entwicklungsblatt an, selbst wenn sie durch Walzen
und dgl. pressverbunden werden und die erforderliche. Haftungsfestigkeit für ein wirksamen Abschälen kann nicht
erhalten werden. Falls die Temperatur zu hoch ist, werden die lichtempfindliche Schicht und das Abschälentwicklungsblatt
markant wärmeerweicht und können schliesslich Fliessfähigkeit annehmen. Somit können normale Abschälbilder
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nicht erhalten werden und es werden Bilder mit verringerter Qualität erreicht.
Wie sich klar aus der vorstehenden Beschreibung ergibt,
sind zur Bildausbildung durch Abschälen die Materialien und
der Aufbau von Träger, lichtempfindlicher Schicht und Abschälentwicklungsblatt und die Kombination hiervon sehr
wichtig, und die Entwicklungsbedingungen können nicht einfach definiert werden, lassen sich jedoch leicht ohne
übermässige "Versuche ermitteln. Im allgemeinen liegt jedoch die Wärmebeschichtungstemperatur von 60 bis 300° C, vorzugsweise 80 bis 200° C.
/ickl
Das Abschälentwicklungsblatt und das lichtempfindliche
Bildausbildungsmaterial, die in dieser Weise wärmebeschichtet wurden, werden durch den Ab schälarbeitsgang
getrennt. Die Temperatur zum Zeitpunkt der Abschälung ist gleichfalls sehr wichtig. Im allgemeinen liegt die
Temperatur zum Zeitpunkt der Abschälung unterhalb derjenigen
Temperatur, die 50 G oder höher ist, bei der das
lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial und das Abschälen twicklungsbild innig aneinander anhaften und erhitzt
werden.
Allgemein tritt, falls die Abschältemperatur höher
als die Erweichungstemperatur der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse ist, eine Kohasionszerstörung der
lichtempfindlichen Schicht auf, wodurch ein Teil des Bereiches der lichtempfindlichen Schicht, der durch die Abschälentwicklung abzutrennen ist, auf dem Träger verbleibt
und ein Teil des Bereiches, der auf dem Träger verbleiben
soll, an dem Abschälentwicklungsträgerblatt haften bleibt. Somit wird das erhaltene Reliefbild unvollständig.
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Wenn die Abschältemperatur höher als die Erweichungstemperatur
der klebenden Oberfläche des Abschälentwicklungsblattes ist, bricht das Abschälentwicklungsblatt oder
erleidet eine Kohäsionszerstörung an seiner klebenden Oberfläche. Dadurch können Reliefbilder von guter Qualität
nicht erhalten werden.
Selbstverständlich beeinflusst die Haftungsfestigkeit
zwischen der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem Träger die Ausbildung des Eeliefbildes bei der Abschälung.
Die Abschältemperatur, die optimal für das erfindungsgemässe
Verfahren ist, variiert auch im weiten Umfang in Abhängigkeit von der Kombination des Trägers, der
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem Abschälentwicklungsblatt.
Allgemein liegt die Abschältemperatur zwischen Raumtemperatur und 200° C, vorzugsweise Raumtemperatur
und 150 C.
Ausführungsformen des Aufbaus der lichtempfindlichen
Bildausbildungsmaterialien im Rahmen der Erfindung und des Verfahrens zur Bildausbildung gemäss der Erfindung
sind unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen erläutert, worin dLe Fig. 1 bis 3 eine Ausführungsform
des Verfahrens zur Bildausbildung gemäss der Erfindung und die Fig. 4 und 5 eine weitere Ausführungsform des
erfindungsgemässen Verfahrens zeigen.
In Fig. 1 ist das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial
gemäss der Erfindung bei der Aussetzung durch ein Originalbilddia gezeigt. Das lichtempfindliche BiId-
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ausbildungsmaterial aus dem Träger 1 und der darauf ausgebildeten
Schicht 2 aus der lichtempfindlichen Masse wird
bildweise durch das Originalbilddia $ belichtet.
Fig. 2 zeigt das belichtete Bildausbildungsmaterial in innigem Kontakt mit dem Abschälentwicklungsträger 4
unter Erhitzen.
Fig. 3 zeigt die Trennung des Abschälentwicklungsträgerblattes
von dem Bildausbildungsmaterial. Der belichtete Bereich 2' der lichtempfindlichen Schicht wird
übertragen und haftet an dem Abschälentwicklungsträger an und der nicht belichtete Bereich 2 verbleibt auf dem
Träger, wobei jeweils ein Reliefbild gebildet wird.
Die Fig. 4 .und 5 zeigen eine weitere Ausführungsforra
des erfindungsgemässen Verfahrens. Das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial aus der Schicht 2 aus der
lichtempfindlichen Masse und dem Träger 1 wird bildweise belichtet und in innigem Kontakt mit einem Abschälentwicklungsträger mit einer wärmeerweichbaren Schicht 41 unter
Erhitzen gebracht (Fig. 4). Dann werden sie voneinander getrennt, wobei der belichtete Bereich 21 der lichtempfindlichen
Schicht übertragen wird und an dem Abschälentwicklungsträger anhaftet, während der nicht belichtete
Bereich 2 auf dem Träger hinterbleibt, wobei jeweils ein Reliefbild gebildet wird (Fig. 5).
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung im
einzelnen. Es ist jedoch selbstverständlich, dass die Erfindung in keiner Weise auf diese Beispiele beschränkt
i st.
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2 g 2,5-Dibutoxy-4-N,N-dimethylaminobenzoldiazoniumzinkchlorid-Doppelsalz
und 2 g Novolakharz (PR 50904-,
Bezeichnung eines Produktes der Arakawa Rinsan Co., Ltd.)
wurden in einem Mischlösungsmittel aus 20 ml N,ir-Dimethylformamid
und 20 ml Tetrahydrofuran zur Bildung einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. Die lichtempfindliche
Lösung wurde einheitlich auf ein Aluminiumsubstrat unter Anwendung eines AufStreichers zur Bildung einer Schicht
aus der lichtempfindlichen Masse mit einer Trockenfilmstärke von etwa 4/um aufgezogen. Das erhaltene lichtempfindliche
Bildausbildungsmaterial wurde während 100 Sekunden durch ein positives Dia,das innig hieran
anhaftete, mit Licht aus einer Hochdruckquecksilberlampe (100 W) im Abstand von 20 cm belichtet. Dann wurde ein
Wärmelaminatfilm (Fuji Laminate Film- Produkt der Fuji
Photo Film Co., Ltd.) auf das belichtete Bildausbildungsmaterial gelegt und die Anordnung wurde zwischen erhitzten
Walzen, die bei einer Walzentemperatur von 130° C gehalten wurden, zur Warmebeschichtung hindurchgeführt. Unmittelbar
anschliessend wurde der Laminatfilm von dem Bildausbildungsmaterial abgetrennt.
Ein positives Reliefbild von guter Qualität, das aus dem unbelichteten Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse bestand, wurde auf dem Aluminiumsubstrat
erhalten. Andererseits wurde einn negatives Reliefbild, das aus dem belichteten Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse bestand, auf dem abgeschälten Laminatfilm erhalten.
909823/0880
2 g ^-Morpholinobenzoldiazonium-Bortetrafluorid-Doppelsalz
und 2 g eines Copolymeren aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril (Saran F-220, Bezeichnung eines Produktes
der Asahi-Dow Co., Ltd.) wurden in 20 ml N,N-Dimethylformamid
zur Bildung einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. Die lichtempfindliche Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat
aufgezogen, welches gekörnt und anodisiert worden war, so dass ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial
erhalten wurde. Das Bildausbildungsmaterial wurde während 100 Sekunden durch ein unmittelbar anliegendes
positives photographisches Dia an Licht aus einer 100 W-Hochdruckquecksilberlampe
im Abstand von 20 cm ausgesetzt. Der gleiche Wärmelamiriatfilm wie in Beispiel 1 wurde auf
das belichtete Bildausbildungsmaterial aufgelegt und die
Anordnung wurde zwischen erhitzten Walzen, die bei einer Walzentemperatur von 150° C gehalten wurden, hindurchgeführt.
Die Passierzeit betrug etwa 7 Sekunden. Unmittelbar nach dem Durchgang zwischen den Walzen wurde das Bildausbildungsmaterial
von dem Abschälentwicklungsfilm abgetrennt. Ein positives Heliefbild von guter Qualität
wurde auf dem Aluminiumsubstr.at und ein negatives Eelief-
bild wurde auf dem Laminatfilm ausgebildet.
Polyvinylbutyral (Denka Butyral 4002, Bezeichnung eines Produktes der Denki Kagaku Kabushiki Kaisha) wurde
als Binder anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Sarans verwendet. Die Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt,
wobei ein positives Bild von guter Qualität auf dem AIuminiumsubstrat
ausgebildet wurde.
909823/088Ö
Das Verfahren nach. Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei
jedoch ein Styrol/Acrylnitril-Copolymeres als Binder anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Sarans verwendet
wurde. Ein positives Bild wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Novolakharz vom m-Cresol-Typ (EP 50804, Bezeichnung
eines Produktes der Arakawa Rinsan Co., Ltd.) anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Sarans verwendet
wurde. Ein positives Bild wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch das 4-N,N-Dimethylaminobenzoldiazonium/Bortetrafluorid-Doppelsalz
anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten lichtempfindlichen Bestandteils verwendet wurde. Ein
negatives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat und das entsprechende positive Bild auf dem Abschälbiatt
erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt,wobei jedoch
2g2-Diazo-1-naphthol-5-sülfonsäureäthyläther· anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten lichtempfindlichen Bestandteils
verwendet wurden. Ein positives Bild von guter
909823/0880
Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei
jedoch das ^^,N-Diäthylaminobenzoldiazonium-Bortetrafluorid-Doppelsalz
anstelle des in Beispiel 2 verwendeten lichtempfindlichen Bestandteils verwendet wurde. Ein
negatives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei Jedoch eine nicht anodisierte glatte Aluminiumplatte anstelle
des in Beispiel 2 verwendeten Träger eingesetzt wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde
auf der Aluminiumplatte erhalten.
Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein aus einem Polyäthylenterephthalatbogen und
einer hierauf vakuumabgeschiedenen Schicht aus Aluminium mit einer Stärke von etwa 1000 S anstelle des in Beispiel 2
eingesetzten Trägers verwendet wurde. Ein positives Eeliefbild
von guter Qualität wurde auf der vakuuraabgeschiedenen
Aluminiumschicht erhalten.
Beispiel 11 Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei
909823/0880
jedoch ein aus einem Polyäthylenterephthalatfilra und einer
hierauf ausgebildeten Grundierschicht aus Gelatine aufgebauter Träger anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten AIuminiumsubstrats
verwendet wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf dem Träger erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein aus einem Aluminiumsubstrat und einer 1 um
dicken Polyvinylalkoholschicht aufgebauter Träger anstelle
des in Beispiel 2 eingesetzten Aluminiumsubstrats verwendet wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde
auf dem Träger erhalten.
Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein photographisches Barytpapier mit einer Gelatineschicht
anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Aluminiumsubstrats verwendet wurde. Ein positives Bild von guter
Qualität wurde auf dem Barytpapier erhalten.-
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Papier mittlerer Qualität zum Druck als Abschälblatt
anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Wärmelaminatfilmes verwendet wurde. Ein gutes Bild wurde auf dem Aluminiumsubstrat
erhalten.
909823/0880
Beispiel 15 ■ .
Das Verfahren nach. Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei
jedoch ein Pölyäthylenterephthalatfilm als Abschälblatt anstelle des in Beispiel 2 verwendete Wärmelaminatfilmes
verwendet wurde. Ein positives Bild wurde auf dem Aluminiumsubstrat
erhalten.
Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Papier mit einem auf seiner Oberfläche aufgeschichteten
Polyäthylenfilm als Abschälblatt anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Wärmelaminatfilmes verwendet
wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
1 g Ah-NiN-Dimethylaminobenzoldiazonium-Bortetrafluorid-Doppelsalz
und 3 g Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymeres
(SaranE-220, Produkt der Asahi Chemical Industry Co., Ltd.)
wurden in 45 ml N,N-Dimethylformamid zur Bildung einer
lichtempfindlichen Lösung gelöst. Ein Aluminiumsubstrat
mit einer Breite von 23 cm und einer Länge von 46 cm,
welches gekörnt und anodisiert worden war, wurde auf einen Aufstreicher befestigt und bei einer Drehgeschwindigkeit
von 100 U/min wurden 50 ml der erhaltenen lichtempfindlichen
Lösung auf das Aluminiumsubstrat gegossen. Dann wurde der Überzug mit Heissluft getrocknet und während
100 Sekunden in einem Tank von konstanter Temperatur bei 100° C zur Bildung eines lichtempfindlichen Druckmaterials
909823/0 880
wärmegetrocknet. Die Filmstärke der lichtempfindlichen
Schicht dieses lichtempfindlichen Druckmaterials betrug
etwa 4/um. Das Druckmaterial wurde eng mit einem positiven
Testkartenoriginal, das verschiedene Halbtonkeile
enthielt unter Vakuum kontaktiert und während 20 Sekunden an Licht aus einer 2 KW-Ultrahochdruckquecksilberlampe
(Jet Light, Bezeichnung eines Produktes der Ore Manufacturing Co., Ltd.) in einem Abstand von 50 cm ausgesetzt.
Dann wurde das belichtete Material in innigem Kontakt mit der BeSchichtungsschicht eines Wärmelaminatfilmes
gehalten, der durch Aufschichten eines thermoplastischen Ionomeren auf einem Polyäthylenterephthalatfilmes erhalten
worden war (Fuji Laminat-Film, Produkt der Fuji
Photo Film Co., Ltd.) und die Anordnung wurde durch einen kleinen Warmebeschichter (Fuji Laminater D-13» Produkt
der Fuji Photo Film Co., Ltd.), der bei einer Walzentemperatur
von 150° C gehalten wurde, zur Wärmeverbindung
des lichtempfindlichen Materials und des Laminatfilmes auf dem Laminator geführt. Unmittelbar nach dem Durchgang
des Materials durch den Beschichter wurde der Laminatfilm von dem lichtempfindlichen Material abgeschält.
Auf dem Aluminiumsubstrat verblieb lediglich der unbelichtete Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse und bildete ein positives Reliefbild von guter Qualität. Andererseits war der gesamte belichtete Bereich
der lichtempfindlichen Schicht auf dem Laminatfilm überführt und bildete ein negatives Eeliefbild von guter
Qualität.
Die dabei erhaltene Druckplatte wurde mit einer Gummi-
909823/0880
lösung (Fu ji PS plate gum Solution GU, Produkt der Fuji
Photo Film Co., Ltd.) gummiert und dann wurde ein Testdruck auf einer Offset-Druckpresse (Hamada Star 600 CD)
durchgeführt. Sehr gute Kopien wurden vom Beginn des Drucks bis zu dem Zeitpunkt, wo die 5000. Kopie erhalten
wurde, erreicht. Unter Anwendung einer Halbtonmessvorrichtung Veuvac,(Produkt der Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.)
wurde die Reproduzierbarkeit der Halbtöne untersucht. Es wurde festgestellt, dass ein Original mit 175 Linien/
2,5 cm auf der Druckplatte und auf den gedruckten Kopien über einen Halbtonbereich von 5 % bis 95 % wiedergegeben
wurde.
Eine durch Auftragung des Halbtonprozentsatzes der
gedruckten Kopie gegen den Halbtonproζentsatz des Originals
erhaltene Tonreproduktionsgraphik ergab praktisch die
gleiche Art von Kurve wie diejenige eines Vergleichstestdruckarbeitsganges,
welcher unter den gleichen Bedingungen wie vorstehend unter Anwendung einer Druckplatte mittels
Lösungsentwicklung mittels einer handelsüblichen Diazo-PS-Platte (PS Plate GAP, Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd.)
in der angegebenen Weise ausgeführt wurde.
Die gleichen Verfahren wie in Beispiel 17 wurden ausgeführt, wobei jedoch die Diazoniumsalze, entsprechend
der folgenden Formel:
9098 2 3/0880
HZ
9 V
/ Y
als lichtempfindliche Verbindung verwendet wurden und
ähnliche Ergebnisse wie in Beispiel 17 erhalten wurden
| Beispiel Nr. |
• ( | H | j |
| 18 | H3CO | H3CCH2O | |
| 19 | H,C0 | H3CO | |
| 20 | H | H3CO | |
| 21 | H | H3CO | |
| 22 | H3CO | H3CO | |
| 23 | H3CO | H5CCH2O | |
| 24 | H3CCH2O | H3CCH2O | |
| 25 | H3CCH2O | H3CO | |
| 26 | H3CCH2O | ||
| * Q bedeutet | =/ η >=/ 0 /' |
' S03Ö | |
| K OCH3 |
Q*
Q*
BF? BF^
BF,
OH
Von den vorstehend aufgeführten Diazoniumsalzen wurden
in dem Fall, wo das 4-(4-Methoxybenzamido)-2,5-diäthoxybenzoldiazonium-Hexafluorphosphat-Doppelsalz
verwendet wurde, d. h. Beispiel 23, besonders ausgezeichnete Ergebnisse erhalten.
909823/0880
Die gleichen Verfahren wie in Beispiel 17 wurden angewandt, wobei jedoch eine Verbindung der Formel
angewandt wurde und ähnliche Ergebnisse wie in Beispiel erhalten wurden.
1 g p-Anilinobenzoldiazoniumhexafluorphosphat, 2 g
Polyurethan und 0,1 gct-Naphthol wurden in 30 ml N,N-Dimethylformamid
zur Bildung einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. In der gleichen Weise wie in Beispiel 1
wurde die lichtempfindliche Lösung auf ein gekörntes
Aluminiumsubstrat aufgezogen und getrocknet. Das erhaltene lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial wurde durch
ein positives Dia in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 belichtet und dann unter Anwendung..eines Wärmelaminatfilmes (Fuji Laminat-Film, Produkt der Fuji Photo Film
Co.",- Ltd.) entwickelt, wobei ein positives Reliefbild
auf dem Aluminiumsubstrat erhalten wurde. Das Aluminiumsubstrat wurde während 1 Minute mit einer 10,5%igen
Ammoniaklösung behandelt. Das das Reliefbild auf dem Substrat bildende unzersetzte Diazoniumsalz wurde mit dem
909823/0880
α-Naphthol unter Bildung eines rotbraunen Bildes gekuppelt.
Das erhaltene Bild wurde fixiert und hatte infolgedessen keine Lichtempfindlichkeit mehr. Es war gegenüber Licht
stabil und die physikalische Festigkeit des Reliefbildes selbst wurde gleichs£alls erhöht.
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne dass die Erfindung
hierauf begrenzt ist.
909823/0880
Leerseite
Claims (17)
- PatentansprücheVerfahren zur Ausbildung eines Bildes, dadurch gekennzeichnet, dass bildweise ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, welches einen Träger mit einer darauf ausgebildeten Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse mit dem Gehalt einer Diazoniumverbindung, einer o-Chinondiazidverbindung oder einer aromatischen Azidverbindung und einem thermoplastischen Binder umfasst, belichtet wird, das belichtete lichtempfindliche Material in innigem Kontakt mit einem Abschälentwicklungsträgerblatt, welches bei gewöhnlicher Temperatur bis zu einer Temperatur oberhalb der Erweichungstemperatur der lichtempfindlichen Masse nicht klebrig ist, erhitzt wird und das Trägerblatt und das Bildausbildungsmaterial voneinander bei einer Temperatur unterhalb dieser Erhitzungstemperatur abgeschält werden, so dass der belichtete oder unbelichtete Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auf das Trägerblatt übertragen wird und sich gleichzeitig ein Reliefbild auf dem Trägerblatt und ein Reliefbild entsprechend dem nicht übertragenen Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auf- dem Träger bilden.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine lichtempfindliche Masse verwendet wird, die ein Diazoniumsalz enthält.
- 3· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine lichtempfindliche Masse verwendet wird, die eine o-Chinondiazidverbindung enthält.
- 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine lichtempfindliche Masse verwendet wird, die eine aromatische Azidverbindung enthält.009823/0880
- 5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Diazoniumsalz ein aromatisches Diazoniumsalz verwendet wird.
- 6·. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Diazoniumsalz verwendet wird, welches weniger hydrophil gemacht ist.
- 7- Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass eine thermoplastische lichtempfindliche Masse verwendet wird, welche als thermoplastischen Binder Vinylidenchlorid, Vinylidenchlorid-Acrylnitril-Copolymere und/oder Polyvinylbutyral enthält.
- 8. Verfahren nach Anspruch 1 bis 7> dadurch gekennzeichnet, dass als Abschälentwicklungsträgerblatt ein Schichtgebilde aus einem Ionomeren oder einem thermoplastischen Polymeren auf einem Polyesterträger verwendet wird.
- 9. Verfahren nach Anspruch 1 bis 7t dadurch gekennzeichnet, dass als Abschälentwicklungsträgerblatt ein Polyvinylchloridfiim,ein Polystyrolfilm, ein Polyesterfilm oder ein Celluloseacetatfilm verwendet wird.
- 10. Verfahren nach Anspruch 1 bis 9» dadurch gekennzeichnet, dass das Erhitzen bei einer ausreichend hohen Temperatur, um eine ausreichende Haftung zwischen der lichtempfindlichen Hasse und dem Abschälentwicklungsträgerblatt, so dass Bilder guter Qualität von dem Träger abgeschält werden, erhalten wird, jedoch ausreichend niedrigeren, so dass die lichtempfindliche Masse und das Abschäl-909823/0880ent-wicklungsträgerblatt nickt bis zu einem Ausmass erweicht werden, bei dem eine gute Bildqualität nicht erhalten wird, durchgeführt wird. ■
- 11. Verfahren nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennnet, dass ι
angewandt wird.zeichnet, dass eine Erhitzungstemperatur von 60 bis 300° C - 12. Verfahren nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Abschälen bei einer Temperatur unterhalb der Erhitzungstemperatur durchgeführt wird.
- 13* Verfahren nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet , dass eine Abschältemperatur unterhalb des Erweichungspunktes der lichtempfindlichen Masse und des Abschälentwicklungsträgerblattes angewandt wird.
- 14. Verfahren nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass eine Abschältemperatur zwischen Raumtemperatur und 200° C angev-mdt wird.
- 15· Verfahren nach Anspruch 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass eine lichtempfindliche Masse mit einem Erweichungspunkt um mindestens 10° C höher als Raumtemperatur oder gewöhnlicher Temperatur angewandt wird.
- 16» Verfahren nach Anspruch 1 bis 15* dadurch gekennzeichnet, dass eine Schicht aus der lichempfindlichen Masse und das Abschälentwicklungsträgerblatt einen Erweichungspunkt gleich oder hoher als 50° G besitzen.
- 17. Verfahren nach Anspruch 1 bis 16, dadurch gekenn-909823/0880zeichnet, dass der innige Kontakt zwischen der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem Abschälentwicklungsträgerblatt erreicht wird, indem das Bildausbildungsmaterial und das Trägerblatt im übereinandergelegten Zustand zwischen einer Mehrzahl von erhitzten Walzen unter Druck hindurchgeführt werden.909823/08 8
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-
1980
- 1980-04-14 US US06/139,623 patent/US4334006A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4334006A (en) | 1982-06-08 |
| JPS5479033A (en) | 1979-06-23 |
| GB2009436A (en) | 1979-06-13 |
| JPS6049301B2 (ja) | 1985-11-01 |
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