DE1953094U - Photographische entwicklungsmaschine. - Google Patents

Photographische entwicklungsmaschine.

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DE1953094U
DE1953094U DE1966K0055469 DEK0055469U DE1953094U DE 1953094 U DE1953094 U DE 1953094U DE 1966K0055469 DE1966K0055469 DE 1966K0055469 DE K0055469 U DEK0055469 U DE K0055469U DE 1953094 U DE1953094 U DE 1953094U
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Germany
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DE1966K0055469
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Description

RA. 47 7.5 6 8 ·ϊ α.9.61
PATENTANWALT
dipl.-ing. AMTHOK FKANKFUKT AM MAIN
6 FBAÜJKFTJBT A. M. 8.9.1
552023 9155 Ill/Sche
3HITTEIiWEG 19 tOSTSOHEXESSFACH HOSS
Fa. Klinisch & Co., 6 Frankfurt/M., Schmittstr. 12
Einrichtung an photographischen Entwicklungsmaschinen
Die Neuerung betrifft eine Einrichtung an photographischen Entwicklungsmaschinen und bezieht sich insbesondere auf die Ausbildung der Behälterabdeckung hinsichtlich eines gasdichten Verschlusses.
Photographische Entwicklungsmaschinen dienen dazus daß Entwicklungsgut nach einem vorgegebenen Programm in verschiedenen Bädern zu behandeln. Es handelt sich bei diesen meist um eine Entwicklerlösung, die das Halogensilber der photographischen Schicht reduzierende Substanzen zusammen mit Stabilisatoren, Alkalien und einem Verzögerer enthält, eine Fixierlösung, die Halogensilber komplex löst und um ein Wässerungsbad. Für besondere Entwicklungsprozesse sind nach Bedarf ggf. noch weitere Behandlungsbäder vorgesehen. Derartige Apparate sind mit Transportsystemen zum Überführen des Entwieklungsgutes in die einzelnen Behandlungslösungen in vorgegebener Reihenfolge ausgerüstet. Bekannt sind mechanische
Überhebeeinrichtungen für das Entwicklungsgut tragende Spannrahmen, sowie Band- und/oder Rollentransportsysteme für sog. Durchlaufentwicklungsmaschinen, die sich außer für Blattfilm auch für lange Filmbahnen eignen.
Es ist bekannt, daß Entwicklerlösungen auch bei Nichtbenutzung durch Einwirkung des Luftsauerstoffs auf die reduzierenden Komponenten an der Oberfläche der Bäder oxydiert werden können, die somit in ihrer Wirksamkeit nachlassen. Man kann zwar bei den für Halbtonprozesse üblichen Entwicklern durch Zusatz von Stabilisatoren dieser nachteiligen Erscheinung weitgehend entgegenwirken, es ist jedoch z.Zt. keine Möglichkeit bekannt, gewisse Spezialentwickler, insbesondere die in der Reproduktionstechnik unentbehrlichen Lith-Entwickler, die u.a. Paraformaldehyd oder verwandte Stoffe enthalten, gegen den Einfluß des Luftsauerstoffs an der Badoberfläche oder an den mit Badflüssigkeit benetzten Teilen des Transportsystems, soweit diese in das Bad zurückkehren, unempfindlich zu machen.
Der vorliegenden Neuerung liegt somit die Aufgabe zugrunde, Entwicklungsmaschinen derart auszubilden, daß der Raum über den gegen Luft empfindlichen Badlösungen gasdicht abschließbar ist und daß Mittel vorgesehen sind, um das Entwicklungsgut in
diesen Raum so einzuführen und nach der Badbehandlung aus diesem so herauszuführen, daß auch beim Transportvorgang der gasdichte Abschluß unverändert erhalten bleibt.
Diese Aufgabe ist mit einer Einrichtung an photographischen Entwicklungsmaschinen gelöst, die dadurch gekennzeichnet ist, daß dem/den eine luftempfindliche Flüssigkeit enthaltenden Badebehälter/n (2) je ein Behälter (1,3) mit nicht luftempfindlicher Flüssigkeit vor- und nachgeschaltet ist, in deren Füllung gasdichte Sperren (4»5) eintauchend angeordnet sind, wobei die Transportvorrichtung die Sperren unterlaufend angeordnet ist und der von den Sperren begrenzte Raum über dem mit luftempfindlicher Flüssigkeit gefüllten Bereich sowie benachbarten Teilbereiche der vor- und nachgeschalteten Behälter nach außen gasdicht abgeschlossen ist.
Der untere Rand dieser neuartigen Luftabschlußsperre muß dabei mindestens 10 mm unter den Flüssigkeitsstand des vor- und des nachgeschalteten Behälters eintauchen. Der beispielsweise durch das Transportsystem einzuführende Film tritt zunächst außerhalb der Luftabschlußsperre in das vorgeschaltete Bad ein, unterläuft den eingetauchten Rand dieser ersten Sperre, wird dann innerhalb der Luftabschlußsperre wieder aus dem Vorbad herausgeführt und läuft dann innerhalb der Luftabschlußzone in das luftempfindliche Bad, wie Lith-Entwicklerbad od.dgl., ein. Nach Abschluß des Behandlungsprozesses tritt der Film ebenfalls noch innerhalb der Luftabschlußzone wieder aus, und dann in ein anschließendes Bad, z.B. ein
ein Stoppbad oder ein Fixierbad, eingeführt zu werden. Hier wird dann die zweite Luftabschlußsperre vom Film wiederum untertaucht und der Film nach Beendigung der Behandlung außerhalb der Luftabschlußsperre erfaßt und weitergeführt.
Das Vorbad und das Nachbad dürfen also nicht selbst luftempfindlich sein. Bei diesen beiden Bädern steht ein Teil des Badspiegels in Berührung mit der Außenluft, während ein Teil innerhalb der Luftabsperrzone liegt. Das Vorbad kann man z.H. als Netzmittelbad oder Alkalibad ansetzen. Es können aber auch organische Flüssigkeiten benutzt werden, die keine Quellung der lichtempfindlichen Schicht bewirken. Das Nachbad ist bei allen photographischen Prozessen ohnehin erforderlich, d.h. die neuartige Einrichtung der Luftabschlußsperre kann daher ohne Schwierigkeiten angebracht werden. Vorteilhaft werden die Sperren mit dem Behälterdeckel zu einer Einheit zusammengefaßt.
Um die Schutzwirkung der neuartigen Luftabschlußsperre noch zu steigern ist es insbesondere bei empfindlichen Entwicklern vorteilhaft, die Luft, die beim Schließen der Sperrzone bzw. beim Neufüllen des Entwicklungsbehälters in dieser vorhanden ist, zu verdrängen und durch ein inertes Gas, beispielsweise durch Stickstoff, zu ersetzen. Hierfür kann vorteilhaft eine
entsprechende Zuleitung von einer Gasflasche über ein geeignetes Reduzierventil vorgesehen sein. Der obere Abschluß der Luftabsperrzone kann die Form einer Haube haben oder, bei ent-
sprechender Ausbildung der Behälter einfach aus einer planen Deckplatte bestehen. Die Platte liegt unter Zwischenlage eines elastischen Wulstes auf den seitlichen Behälterrändern und den oberen Rändern der beiden Abschlußsperren auf. Die AbSchlußsperren sind ebenfalls in elastischen Wulsten beidseitig in den Trögen gelagert. Zwecks Reinigung und Wartung der Maschine sind Deckplatte und Abschlußsperren abnehmbar bzw. herausnehmbar ausgebildet.
Weitere Einzelheiten werden nachfolgend anhand einer zeichnerischen Darstellung eines Ausführungsbeispieles näher erläutert.
In dieser Darstellung zeigt
Fig. 1 schematisch eine Entwiclclungsmaschine mit drei Badbehältern im Schnitt und
Pig, 2 perspektivisch Einzelheiten der Sperrenausbildung.
Fig. 1 zeigt schematisch den Mittelteil einer Durchlaufentwicklungsmaschine mit dem Vorbadbehälter 1, dem Behälter 2 für die luftempfindliche Entwicklerflüssigkeit und dem Fixierbadbehälter 3. Der zu entwickelnde Film wird durch eine Vielzahl von Rollenpaaren in Pfeilrichtung transportiert. In den Behälter 1 ragt von oben die erste Luftabschlußsperre 4 bis unter den Flüssigkeitsspiegel 7, während in den Behälter 3 die
zweite Luftabschlußsperre 5 hineinragt. Beide Sperren 4, 5 werden vom Film untertaucht, so daß dieser in den von der Außenluft hermetisch abgeschlossenen Raum unter der Deckplatte ί gelangen und aus diesem auch wieder herausgeführt werden kann, ohne daß Außenluft eindringen kann.
Fig. 2 zeigt einen Ausschnitt aus Behälter 3 ohne das Transportrollensystem und mit teilweise aufgebrochenem Deckel, um die Anbringung der Abschlußsperre 5 zu verdeutlichen, die aus den beiden an der Gehäusewand 8 befestigten Winkeln 9 und 10 besteht, welche an den einander zugekehrten Seiten mit einer elastischen, hier nicht dargestellten Auflage, wie Schaumstoff od. dgl., zur Abdichtung der Sperre 5 versehen sind. Der obere Gehäuserand 11 liegt genau in der gleichen Ebene wie der obere Rand der Sperre 5· Alle Ränder sind mit elastischer Dichtungsauflage versehen, so daß das Gewicht der aufliegenden Deckplatte eine sichere Abdichtung bewirkt. Verschließbare Anschlüsse 13,13'ermöglichen die Abfuhr zunächst eingeschlossener Luft und die Zufuhr eines Inertgases.

Claims (2)

RA. if 77 568*10:9.66 S chut zansprüehe
1. Einrichtung an photographisehen Entwieklungsmaschinen mit mehreren Behandlungsbädernund einer ^rapportvorrichtung für das durch die Bäderfolge zu befördernde Entwieklungsgut, d.g., daß dem/den eine luftempfindliehe flüssigkeitenthaltenden Badebehältern (2) je ein Behälter (1,3) mit nicht luftempfindlicher Flüssigkeit vor- und naehgesehaltet ist, in deren füllung gasdichte Sperren (4,5) eintauchend angeordnet sind, wobei die Transportvorrichtung die Sperren unterlaufend angeordnet ist und der von den Sperren begrenzte Raum über dem mit luftempfindlieherFlüssigkeit gefüllten Bereieh sowie benachbarten Teilbereiche der vor- und naehgesehalteten Behälter nach außen gasdicht abgeschlossen ist·
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadureh gekennzeichnet, daß die Sperren (4,5) mit einem Deckel (6) eine Einheit bilden.
3· Einrichtung nach Anspruch 1 und / öder 2, dadureh gekennzeichnet, daß der gasdicht abgeschlossene Raum mit mindestens einem verschließbaren Einlassorgan (13) für die Einführung eines gegenüber der luftempfindlichen Badflüssigkeit inerten Grases ausgestattet ist, - - "" ; ■", ν ._
DE1966K0055469 1966-09-10 1966-09-10 Photographische entwicklungsmaschine. Expired DE1953094U (de)

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DE1953094U true DE1953094U (de) 1967-01-05

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DE (1) DE1953094U (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2739542A1 (de) * 1975-10-31 1978-03-23 Heimerdinger & Staebler Vorrichtung zum behandeln von photographischem entwicklungsgut

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2739542A1 (de) * 1975-10-31 1978-03-23 Heimerdinger & Staebler Vorrichtung zum behandeln von photographischem entwicklungsgut

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