CN1530329A - 超纯水制造系统 - Google Patents

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Abstract

本发明是关于一种超纯水制造系统,可以使系统内的杀菌处理后且超纯水制造系统再次开始运转时,超纯水中的金属浓度显著降低,并在刚开始再次运转后即得到高纯度且水质稳定的超纯水。次储槽2内的水依次通过热交换装置10、配管12、UV氧化装置20、配管22、离子交换装置30、配管32及膜分离装置40被处理,形成超纯水。在装置10、20、30、40中设有分别绕过各装置的旁通管路11、21、31、41。在进行杀菌时,利用管路11、21、31最先只在膜分离装置40中流过杀菌水。在其后的热交换装置10和UV氧化装置20的杀菌时,杀菌水绕过膜分离装置40而流过管路41。

Description

超纯水制造系统
技术领域
本发明涉及一种超纯水制造系统,特别是涉及一种将超纯水制造器主体所制造的超纯水送至使用点的超纯水制造系统。
背景技术
在半导体制造等领域的洗净工程中,使用超纯水作为洗净水。作为超纯水,要求不含有成为洗净故障原因的微粒、有机物和无机物,例如在电阻率:18.2MΩ·cm以上、微粒:1个/mL以上、活细菌:1个/L以下、TOC(Total Organic Carbon,总有机碳):1μg/L以下、氧化硅:1μg/L以下、金属类:1ng/L以下、离子类:10ng/L以下时可达到要求水质。
超纯水的使用场所(使用点)藉由利用配管(流路)与超纯水制造装置进行连接,并使在该使用点未被使用的残余的超纯水通过另外的流路返回前述超纯水制造装置,从而形成循环系统,并在整体上构成超纯水制造系统。
请参阅图18所示,是现有习知的超纯水制造系统的系统示意图。在该超纯水制造系统中,一次纯水贮水用的次储槽71内的水在配备有泵72、热交换装置73、紫外线(UV)氧化装置74、离子交换装置75及超滤(UF)膜分离装置76的超纯水制造器主体中被处理,并形成超纯水。所制造的超纯水通过配管(供给管路)86被送至使用点77,并在该使用点77使用其中的一部分,且使未使用的超纯水经过配管(返回管路)87返回次储槽71。
一次纯水可藉由在将工业用水、井水、城市用水等原水进行凝聚沉淀等前期处理后,依次进行反渗透膜分离处理、利用阴离子性及阳离子性的离子交换树脂的处理,然后再进行反渗透膜处理而得到。
使用点77表示超纯水的使用场所,除了用于洗净对象物(例如半导体)的洗净装置以外,也可包括适当的配管和喷嘴类等。
在超纯水制造系统中,这样不断地进行超纯水循环的目的,是为了除去构成超纯水制造系统的泵、热交换装置、配管等材料所产生的洗脱成分,保持系统内部的高纯度。另外,一般是采用SUS材料作为超纯水制造系统的泵、热交换装置、部分配管等的构成材料。
在超纯水制造系统中,为了使供给至使用点77的超纯水中的活细菌数达到上述要求水质的水平,要定期地流入含有杀菌剂的水(以下有时称作杀菌水),进行系统内的杀菌。在现有习知技术中,使用过氧化氢作为超纯水制造系统的杀菌剂,且一般按照如下程序进行杀菌处理。为了防止因过氧化氢造成的离子交换树脂的劣化,设有旁通管路84A以绕过离子交换装置75,可不使过氧化氢通过离子交换装置。
1、停止超纯水制造系统的运转后,将过氧化氢浓水溶液利用配管88加入次储槽71中,使次储槽71及整个配管内的水成为由浓度0.1~3%左右的过氧化氢水溶液构成的杀菌水。将该杀菌水利用泵72在整个超纯水制造系统中进行循环。即,按照次储槽71、配管82及泵72、热交换装置73、配管83、UV氧化装置74、配管84、离子交换装置75的旁通配管84A、配管85、UF膜分离装置76、配管86、使用点77、配管87、次储槽71的顺序使杀菌水进行循环(循环工程)。另外,作为杀菌剂的添加方法,有利用次储槽71的进入孔进行投料的方法,利用喷射器或药液泵进行添加的方法。
2、停止泵72,将杀菌水在系统内保持一定时间(浸渍工程)。
3、将系统内的杀菌水利用次储槽排水配管89进行排出,并对次储槽71进行水洗处理,再起动泵72,将超纯水制造系统的系统内部以超纯水进行冲洗(挤压洗净)直至检测不到杀菌剂为止。
在上述1~3的操作以后,重新开始超纯水制造系统的运转。
目前,半导体的集成度越来越高,要求其洗净中所使用的超纯水也更加高纯度,所以,在超纯水制造系统中,当杀菌处理后重新开始运转时,最好能在刚开始运转之后即能够维持高纯度且稳定的水质。
但是,本发明者们对杀菌处理后的超纯水水质进行调查后发现,杀菌处理后超纯水中的金属浓度上升,且运转再次开始后,在相当长的时间内一直保持一种金属浓度高的状态。即,杀菌处理后,当再次开始超纯水制造系统的运转时,在所制造的超纯水中检测出0.1~1ng/L左右的Fe、Cr、Ni等金属,特别是Fe在运转开始后经过一周时间,在超纯水中仍能检测到。
本发明者对在现有习知的超纯水制造系统中,当杀菌处理后再次开始运转时,超纯水中的金属浓度上升,且持续保持金属浓度高的状态的原因进行了调查,结果发现其原因在于,在循环杀菌洗净中,由超纯水制造系统的泵、热交换装置、配管等的构成材料所洗脱的金属,和在停止中的预备泵等的内部所滞留的金属,因过氧化氢等杀菌剂被氧化并洗脱后,形成氢氧化物微粒,且该微粒被在超纯水制造装置的最后段所设置的膜分离装置的分离膜捕捉,之后当由挤压洗净使系统内的过氧化氢被排出后,再次溶解于超纯水中。
由此可见,上述现有的超纯水制造系统仍存在有诸多的缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决超纯水制造系统存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。
有鉴于上述现有的超纯水制造系统存在的缺陷,本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识,积极加以研究创新,以期创设一种新型的超纯水制造系统,能够改进一般现有的超纯水制造系统,使其更具有实用性。经过不断的研究、设计,并经反复试作样品及改进后,终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的目的在于,克服现有的超纯水制造系统存在的缺陷,而提供一种新的超纯水制造系统,所要解决的技术问题是使其系统内进行杀菌处理后并再次开始超纯水制造系统运转时的超纯水中的金属浓度显著降低,且从刚开始运转时即得到高纯度且水质稳定,从而更加适于实用,且具有产业上的利用价值。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的超纯水制造系统,其包括:一次纯水的贮水用次储槽;超纯水制造器主体,导入前述次储槽内的水以制造超纯水,且至少具有依次配置的紫外线氧化装置、离子交换装置及膜分离装置;供给管路,将前述超纯水制造器主体所制造的超纯水送至使用点;返回管路,将通过了前述使用点的未使用的超纯水返回至前述次储槽;流通单元,绕过较前述膜分离装置靠前段侧的装置,并在前述膜分离装置中使杀菌水流通;以及绕道流通单元,使杀菌水流通较前述离子交换装置靠前段侧的装置,且使来自前述前段侧的装置的杀菌水绕道流通过前述离子交换装置及前述膜分离装置。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的超纯水制造系统,其还包括:杀菌水形成单元,向前述次储槽内供给杀菌剂,并使该次储槽内的水形成杀菌水;以及替换单元,将该次储槽内的水从杀菌水替换为一次纯水;其中,从前述次储槽内送出的杀菌水用于前述装置的洗净。
前述的超纯水制造系统,其中所述的次储槽内送出杀菌水的杀菌专用泵与次储槽内的水的送出用泵个别设置。
前述的超纯水制造系统,其具有:排出单元,从用于送出次储槽内的水的送出用泵的排出侧将水排出系统外部。
前述的超纯水制造系统,其设置有:环形管路,使前述杀菌专用泵的排出水不供给至前述各装置,而返回前述次储槽;以及杀菌剂添加单元,设置在该环形管路中。
前述的超纯水制造系统,其中所述的超纯水制造器主体还具有配置于较前述紫外线氧化装置靠前段侧的位置的热交换装置。
前述的超纯水制造系统,其中所述的各装置中个别设置用于分别只绕过各装置的旁通管路。
前述的超纯水制造系统,其设置有:膜分离装置用旁通管路,只绕过所述的膜分离装置;离子交换装置用旁通管路,只绕过所述的离子交换装置;以及前段用旁通管路,将所述的离子交换装置及较其靠前段侧的所述的各装置作为一体而绕过。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上技术方案可知,为了达到前述发明目的,本发明的主要技术内容如下:
本发明提出的超纯水制造系统,具有一次纯水的贮水用次储槽、导入该次储槽内的水制造超纯水且至少具有依次配置的UV氧化装置,离子交换装置及膜分离装置的超纯水制造器主体、将该超纯水制造器主体所制造的超纯水送至使用点的供给管路、将通过了该使用点的未使用的超纯水返回至前述次储槽的返回管路的超纯水制造系统,其具有:绕过较该膜分离装置靠前段侧的装置并在该膜分离装置中使杀菌水流通的流通单元、使杀菌水流通较该离子交换装置靠前段侧的装置且使来自该前段侧装置的杀菌水绕过该离子交换装置及膜分离装置进行流通的绕道流通单元。
如利用本发明的这种超纯水制造系统,洗净了较离子交换装置靠前段侧的装置的洗净水绕过膜分离装置进行流通,所以因前段侧装置的洗净所产生的微粒不会被膜分离装置捕捉。因此,可防止再次开始运转后因该微粒的再次溶解而造成金属离子浓度的上升。
在本发明中,也可采用配备有为了供给杀菌水而向次储槽内供给杀菌剂并使该次储槽内的水形成杀菌水的杀菌水形成单元、将该次储槽内的水从杀菌水转换为一次纯水的替换单元,并从该次储槽内使杀菌水被送出用于前述装置的洗净的构成。
在这种情况下,也可将用于从次储槽内送出杀菌水的杀菌专用泵与一次纯水的送出用泵(以下有时称作辅助泵)个别设置,并设置用于从该辅助泵的排出侧将水向系统外部排出的排出单元。而且,也可采用设有不将杀菌专用泵的排出水供至前述各装置而返回次储槽的环形管路,并在该环形管路中设置杀菌剂添加单元的构成。
在本发明中,超纯水制造器主体也可在较UV氧化装置靠前段侧的位置设置热交换装置,或再加上其它装置。
在本发明的一形态中,也可在膜分离装置、离子交换装置及较它们靠近前段侧的各装置上,个别设置用于分别只绕过各装置的旁通管路。
在本发明的另一形态中,也可设置只绕过膜分离装置的膜分离装置用旁通管路、只绕过该离子交换装置的离子交换装置用旁通管路、将该离子交换装置及较其靠前段侧的前述各装置作为一体而绕过的前段用旁通管路。
经由上述可知,本发明超纯水制造系统,可以使系统内的杀菌处理后且超纯水制造系统再次开始运转时,超纯水中的金属浓度显着降低,并在刚开始再次运转后即得到高纯度且水质稳定的超纯水。次储槽内的水依次通过热交换装置、配管、UV氧化装置、配管、离子交换装置、配管及膜分离装置被处理,形成超纯水。在装置中设有绕过各装置的旁通管路。在进行杀菌时,利用管路最先只在膜分离装置中流过杀菌水。在其后的热交换装置和UV氧化装置的杀菌时,杀菌水绕过膜分离装置而流过管路。
借由上述技术方案,本发明至少具有下述优点:本发明超纯水制造系统可使系统内的杀菌处理后且超纯水制造系统再次开始运转时,超纯水中的金属浓度显著降低,并在刚开始再次运转后即得到高纯度且水质稳定的超纯水,从而更加适于实用。
综上所述,本发明特殊结构的超纯水制造系统,其具有上述的优点及实用价值,并在同类产品中未见有类似的结构设计公开发表或使用而确属创新,其不论在结构上或功能上皆有较大的改进,在技术上有较大的进步,并产生了好用及实用的效果,且较现有的超纯水制造系统具有增进的功效,从而更加适于实用,而具有产业的广泛利用价值,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
图1是本发明超纯水制造系统的实施形态的系统示意图。
图2是超纯水制造系统的超纯水制造运转时的流程图。
图3是超纯水制造系统的杀菌时的流程图。
图4是超纯水制造系统的杀菌时的流程图。
图5是超纯水制造系统的杀菌时的流程图。
图6是超纯水制造系统的杀菌时的流程图。
图7是超纯水制造系统的杀菌时的流程图。
图8是超纯水制造系统的杀菌时的流程图。
图9是超纯水制造系统的杀菌时的流程图。
图10是超纯水制造系统的杀菌时的流程图。
图11是另一实施形态的构成示意图。
图12是超纯水制造系统实施形态的杀菌时的流程图。
图13是超纯水制造系统实施形态的杀菌时的流程图。
图14是超纯水制造系统实施形态的冲洗时的流程图。
图15是超纯水制造系统实施形态的冲洗时的流程图。
图16是超纯水制造系统实施形态的冲洗时的流程图。
图17是超纯水制造系统实施形态的冲洗时的流程图。
图18是现有习知的超纯水制造系统的系统示意图。
1: 配管                      2:次储槽
2a:放水管路                  3、4:泵
5: 杀菌专用泵                6a:管路
6b:喷射器                    6c:管路
6d:杀菌剂储槽                6e:放水管路
8: 配管                      10:热交换器
11:旁通管路                  12:配管
20:UV氧化装置                21:旁通管路
22:配管                      30:离子交换树脂塔
31:旁通管路                  32:配管
40:UF膜分离装置              41:旁通管路
42:盐水流出管路              50:管路
51:使用点                    52、53:返回管路
54:放水管路                  71:次储槽
72:泵                        73:热交换装置
74:紫外线氧化装置            75:离子交换装置
76:超滤膜分离装置            77:使用点
81、82、83、84:配管          84A:旁通管路
85:配管                      86:配管(供给管路)
87:配管(返回管路)            88:配管
89:排水配管
具体实施方式
以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的超纯水制造系统其具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。
请参阅图1所示,是本发明的超纯水制造系统的实施形态的系统示意图。一次纯水由配管1被供至次储槽2,并被贮存。该次储槽2内的水由泵3被送出。泵4为预备泵,与泵3并列设置。与泵3、4并列设置有杀菌专用泵5。
另外,从泵3、4的排出口侧分支出在从次储槽2将水排出时所使用的放水管路6e。
由泵3或4通过配管8被送出的水,依次通过构成超纯水制造器主体的热交换装置10、配管12、低压紫外线氧化装置等UV氧化装置20、配管22、离子交换(DI:Deionization)装置30、配管32及膜分离装置40而被处理,形成超纯水。该超纯水经过供给管路50被送至使用点51,且未使用的超纯水通过返回管路52、53返回至次储槽2。另外,膜分离装置40被连接在盐水(brine)流出管路42上。而且,在各配管8、12、22、32及管路50、52、53、54上设有阀。在第1图中只记入代表性的阀。后述的管路2a、6a、6c、6e、11、21、31、41等也是同样的。
为了使杀菌水在各装置10~40等中进行流通,设有向次储槽2内的水中添加杀菌剂的单元。该杀菌剂添加单元由从杀菌专用泵5的排出侧分支出并返回次储槽2的管路6a,6c、从管路6a接收水并使水向管路6c流出的喷射器6b、用于向该喷射器6b供给作为杀菌剂含有液的过氧化氢水的杀菌剂储槽6d构成。杀菌剂储槽6d是用于保管、移送过氧化氢水的储槽,在对超纯水系统进行杀菌处理时搬来使用。
另外,在将杀菌专用泵5内的水转换为一次纯水时所用的放水管路6e,被连接在该杀菌专用泵5的排出口侧。而且,在次储槽2中,连接有将次储槽2内的水恢复为一次纯水(进行替换)时所用的放水管路2a。
在各装置10、20、30、40上设有分别绕过各装置的旁通管路11、21、31、41。热交换装置用旁通管路11将配管8、12间进行连接,UV氧化装置用旁通管路21将配管12、22间进行连接,离子交换装置用旁通管路31将配管22、32间进行连接,膜分离装置用旁通管路41将配管32和供给管路50间进行连接。
从返回管路52将冲洗时所使用的放水管路54分支出来。
下面对采用这种构成的超纯水制造系统的动作进行说明。
I.超纯水制造运转
请参阅图2所示,是超纯水制造系统的超纯水制造运转时的流程图。在超纯水制造运转时,次储槽2内的水依次流过泵3、热交换装置10、UV氧化装置20、离子交换装置30、膜分离装置40、供给管路50、使用点51、返回管路52,53。当然,泵5是停止的,而且旁通管路11、21、31、41中也没有水流过。
II.杀菌运转
杀菌运转依照以下的程序进行。
(i)向次储槽内添加杀菌剂(过氧化氢)
首先,从次储槽2内放出水,使次储槽2内的水位减少到约1/3~1/4左右。在进行该放水处理时,使泵3及4动作,使一次纯水从前述一次纯水放水管路6e流出,且从返回管路所分支出的放水管路54流出。藉此,使包含有预备泵等中所残留的重金属的水被排出系统外。
接着,请参阅图3所示,使杀菌专用泵5动作,使水流过管路6a、6c,并将杀菌剂储槽6d内的过氧化氢水通过喷射器6b添加到次储槽2内的一次纯水中。在次储槽2内及配管内水中的过氧化氢浓度达到规定浓度(例如0.1~5%)后,停止泵5。
通过该工程,次储槽2所存储的杀菌水为不含有金属离子的清净的杀菌水。
(ii)膜分离装置40的杀菌
请参阅图4所示,在各装置中,最先在膜分离装置40中流通杀菌水,进行膜分离装置40的杀菌。次储槽2内的杀菌水依次流通杀菌专用泵5、配管8、旁通管路11,21,31、膜分离装置40、管路50、52、53,进行膜分离装置40的杀菌。来自管路53的返回杀菌水被收纳在次储槽2中。该流水处理在膜分离装置40的流出水中检测到过氧化氢后开始,进行10~15分钟。
在该膜分离装置40的杀菌工程中,使次储槽2内清净的杀菌水绕过装置10、20、30而直接流通至膜分离装置40,所以在膜分离装置40完全不会捕捉到金属氧化物的微粒。另外,由于在离子交换装置30中也不流通杀菌水(过氧化氢水),所以离子交换树脂也不会劣化。
(iii)热交换装置10及UV氧化装置20的杀菌
接着,请参阅图5所示,使次储槽2内的杀菌水流通配管8、热交换装置10、UV氧化装置20、旁通管路31,41、管路50、52、53,而进行热交换装置10及UV氧化装置20的杀菌。该流水处理一直持续到在从管路53流入次储槽2的水中检测到过氧化氢为止。
在该工程中,由于热交换装置10及UV氧化装置20的杀菌用水不通过膜分离装置40,所以膜分离装置40不会被微粒污染。另外,由于在离子交换装置30中也不流过杀菌水(过氧化氢水),所以离子交换树脂也不会劣化。
(iv)杀菌水保持和次储槽向一次纯水的转换
在上述(iii)中,如果可在来自管路53的返回水中检测到过氧化氢,则停止杀菌专用泵5,并在该状态下保持1~3小时左右,例如约2小时左右(所谓的浸渍工程)。在该工程的进行期间,各装置10、20、40及配管、管路内充满杀菌水,进行杀菌。
而且,在该浸渍工程进行期间,在次储槽2内进行一次纯水的替换。即从放水管路2a使次储槽2内的水被完全排出后,利用配管1向次储槽2内供给一次纯水,对次储槽2进行冲洗。反复进行3次该冲洗处理。另外,在进行该冲洗处理时,只需在次储槽2内将一次纯水供给至原来的过氧化氢水的水位即可,没有必要将储槽充满。
3次冲洗结束后,将次储槽2内充满一次纯水。接着,一面从配管1补充一次纯水,一面通过放水管路6e使一定量的一次纯水在杀菌专用泵5中流通,对该泵5进行冲洗。图6表示对该泵5进行冲洗后的状态。而且,泵3、4也同样进行先进行冲洗为佳。
(v)旁通管路11、21、31、41的冲洗
请参阅图7所示,接着,同样一面从配管1补充一次纯水,一面使次储槽2内的水依次流过泵3、配管8、旁通管路11,21,31,41、管路50,52,54,对旁通管路11~41进行冲洗。该冲洗排水不返回次储槽2,而从放水管路54排出。该流水处理一直持续到在放水管路54的流出水中或在膜分离装置40的出口检测不到过氧化氢为止。
(vi)热交换装置10及UV氧化装置20的冲洗
请参阅图8所示,接着,同样一面从配管1补充一次纯水,一面使次储槽2内的水依次流过泵3、配管8、热交换装置10、UV氧化装置20、旁通管路31,41、管路50,52,54,对热交换装置10、UV氧化装置20进行冲洗。该冲洗排水不返回次储槽2,而从放水管路54排出。该流水处理一直持续到在放水管路54的流出水中或在膜分离装置40的出口检测不到过氧化氢为止。
(vii)对离子交换装置30的流水处理
请参阅图9所示,接着,一面从配管1补充一次纯水,一面使次储槽2内的水依次流过泵3、配管8、热交换装置10、UV氧化装置20、离子交换装置30、旁通管路41、管路50,52,54,并进行该流水处理一直到在放水管路54的流出水中或在膜分离装置40的出口检测不到过氧化氢为止。
(viii)膜分离装置40的冲洗
请参阅图10所示,最后,使次储槽2内的一次纯水从配管8、装置10,20,30流至膜分离装置40,并通过管路50、52、54排出。该流水处理一直持续到在管路54的排出水中检测不到过氧化氢为止。
如果在管路54的排出水中检测不到过氧化氢,则关闭放水管路54的阀门且打开返回管路53的阀门,恢复至图2的通常运转。由于在膜分离装置40上不会捕捉到金属氧化物的微粒,所以从该再次运转刚一开始,超纯水的水质就是良好的。
在上述实施形态中,在各装置10、20、30、40上分别个别地设置有旁通管路11~41,但是也可如图11所示,设置将较膜分离装置40靠前段侧的热交换装置10、UV氧化装置20及离子交换装置30作为一体而绕过之旁通管路60,并省略装置10、20的个别的旁通管路11、21。而且,设置有旁通管路31、41。
此实施形态在通常运转与图2同样地进行,而且向次储槽2的杀菌剂添加与图3同样地进行这些方面,与前述实施形态是相同的,但杀菌及冲洗工程则取代图4~图10而按照图12~图17进行。
即,当进行杀菌处理时,在向次储槽2内添加杀菌剂之后,如图12所示,使次储槽2内清净的杀菌水由杀菌专用泵5依次流过旁通管路60、膜分离装置40、管路50,52,53。
请参阅图13所示,接着,使次储槽2内的杀菌水依次流过热交换装置10、UV氧化装置20、旁通管路31,41、管路50,52,53。
然后,虽然未有图示,但可与前述图6同样地进行约2小时的浸渍工程,期间将次储槽2内的杀菌水转换为一次纯水,然后对杀菌剂专用泵5进行冲洗。
请参阅图14所示,接着,一面从配管1向次储槽2补给一次纯水,一面使次储槽2内的水依次流过泵3、旁通管路60,41、管路50,52,54,并对旁通管路60、41进行冲洗。
请参阅图15所示,接着,使次储槽2内的水依次流过泵3、热交换装置10、UV氧化装置20、旁通管路31,41、管路50,52,54,以对热交换装置10及UV氧化装置20进行冲洗。
请参阅图16所示,接着,使次储槽2内的水依次流过泵3、装置10,20,30、旁通管路41、管路50,52,54,并确认在放水管路54的流出水中或膜分离装置40的出口检测不到过氧化氢。
请参阅图17所示,最后,使次储槽2内的水依次流过装置10,20,30,40、管路30,52,54。如果在放水管路54的流出水中检测不到过氧化氢,则恢复为通常运转。
另外,在实际装置中适用本发明并进行杀菌的场合与在习知装置中进行杀菌的场合,对杀菌后超纯水水质恢复至运转停止前的水平所需的时间进行测定发现,在习知装置中平均7~14日左右的,如利用本发明只需0.25~1日即可。
上述实施形态是本发明的一个例子,本发明也可采用图示以外的其他形态。例如,也可在离子交换装置的前段侧再设置其它的机器。而且,作为膜分离装置,除了UF膜分离装置以外,也可使用精密过滤膜分离装置、反渗透膜分离装置等,或将它们组合使用。
在离子交换装置的前段侧或后段侧设置有膜脱气装置的情况下,其与膜分离膜装置同样,可设置绕过膜脱气装置的旁通管路。膜脱气装置的杀菌也会产生因前述膜分离装置的分离膜而造成问题的现象。膜脱气装置的杀菌也可以进行与前述膜分离装置40同样的杀菌工程(ii)。在工程(ii)中,也可以在进行膜分离装置的杀菌的同时,进行膜脱气装置的杀菌。亦即,使杀菌水绕过其它装置,在膜分离装置流通杀菌水的同时,于膜脱气装置流通杀菌水,也使膜脱气装置杀菌。另外,在工程(ii)中,也可以个别进行膜分离装置的杀菌与膜脱气装置的杀菌。在膜分离装置的杀菌后进行膜脱气装置的杀菌,也可以反过来进行。膜脱气装置与膜分离装置的杀菌之后的各工程,膜脱气装置是与膜分离装置同时进行。
作为离子交换装置,也可以是筒式超纯水精制机(非再生型离子交换树脂装置)或电气式脱离子水制造装置。
如以上所详细说明的,如利用本发明的超纯水制造系统,可使系统内的杀菌处理后且超纯水制造系统再次开始运转时,超纯水中的金属浓度显著降低,并在刚开始再次运转后即得到高纯度且水质稳定的超纯水。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (8)

1、一种超纯水制造系统,其特征在于,其包括:
一次纯水的贮水用次储槽;
超纯水制造器主体,导入前述次储槽内的水以制造超纯水,且至少具有依次配置的紫外线氧化装置、离子交换装置及膜分离装置;
供给管路,将前述超纯水制造器主体所制造的超纯水送至使用点;
返回管路,将通过了前述使用点的未使用的超纯水返回至前述次储槽;
流通单元,绕过较前述膜分离装置靠前段侧的装置,并在前述膜分离装置中使杀菌水流通;以及
绕道流通单元,使杀菌水流通较前述离子交换装置靠前段侧的装置,且使来自前述前段侧的装置的杀菌水绕道流通过前述离子交换装置及前述膜分离装置。
2、根据权利要求1所述的超纯水制造系统,其特征在于其还包括:
杀菌水形成单元,向前述次储槽内供给杀菌剂,并使该次储槽内的水形成杀菌水;以及
替换单元,将该次储槽内的水从杀菌水替换为一次纯水;
其中,从前述次储槽内送出的杀菌水用于前述装置的洗净。
3、根据权利要求2所述的超纯水制造系统,其特征在于将其中所述的次储槽内送出杀菌水的杀菌专用泵与次储槽内的水的送出用泵个别设置。
4、根据权利要求3所述的超纯水制造系统,其特征在于其具有:排出单元,从用于送出次储槽内的水的送出用泵的排出侧将水排出系统外部。
5、根据权利要求3或4所述的超纯水制造系统,其特征在于其设置有:
环形管路,使前述杀菌专用泵的排出水不供给至前述各装置,而返回前述次储槽;以及
杀菌剂添加单元,设置在该环形管路中。
6、根据权利要求1~5中的任一项所述的超纯水制造系统,其特征在于其中所述的超纯水制造器主体还具有配置于较前述紫外线氧化装置靠前段侧的位置的热交换装置。
7、根据权利要求1~6中的任一项所述的超纯水制造系统,其特征在于其中所述的各装置中个别设置用于分别只绕过各装置的旁通管路。
8、根据权利要求1~6中的任一项所述的超纯水制造系统,其特征在于其设置有:
膜分离装置用旁通管路,只绕过所述的膜分离装置;
离子交换装置用旁通管路,只绕过所述的离子交换装置;以及
前段用旁通管路,将所述的离子交换装置及较其靠前段侧的所述的各装置作为一体而绕过。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1987457B (zh) * 2005-12-19 2012-05-23 栗田工业株式会社 水质评价方法、用该方法的超纯水评价装置及制造系统
CN101730577B (zh) * 2007-07-06 2012-11-21 三菱丽阳株式会社 净水装置的运行方法
CN104058482A (zh) * 2013-03-22 2014-09-24 苏州鑫泽雅节能设备有限公司 一种净水器
CN105283422A (zh) * 2013-07-24 2016-01-27 栗田工业株式会社 超纯水制造系统、超纯水制造供给系统及其洗涤方法
CN105381482A (zh) * 2007-03-30 2016-03-09 栗田工业株式会社 超纯水制备系统的清洗灭菌方法
CN111359294A (zh) * 2020-03-23 2020-07-03 无锡轻大建筑设计研究院有限公司 耗能少的海绵城市雨水收集净化系统

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4747659B2 (ja) * 2005-04-25 2011-08-17 オルガノ株式会社 超純水製造供給装置の洗浄方法
WO2007037002A1 (ja) * 2005-09-28 2007-04-05 Shinryo Corporation 抗原曝露室及びその洗浄・乾燥方法
DK176362B1 (da) * 2005-12-23 2007-10-01 Tetra Laval Holdings & Finance Fremgangsmåde til opstart af et filtreringsanlæg samt et filtreringsanlæg indrettet til at kunne opstartes tilsvarende
US9227852B2 (en) * 2008-03-21 2016-01-05 Mcwong Environmental Technology Apparatus, systems, and methods for water treatment
JP5093679B2 (ja) * 2008-06-19 2012-12-12 日本ウォーターシステム株式会社 精製水製造装置の殺菌方法
WO2010132859A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-18 Omni Water Solutions Llc Self-contained portable multi-mode water treatment system and methods
JP5305243B2 (ja) * 2009-08-11 2013-10-02 三浦工業株式会社 水処理システム
DE102009051489A1 (de) * 2009-10-30 2011-05-12 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zum Betrieb eines Wasseraufbereitungssystems sowie zur Durchführung des Verfahrens geeignetes Wasseraufbereitungssystem
JP5573605B2 (ja) * 2010-11-04 2014-08-20 住友金属鉱山株式会社 超純水製造システムおよびその洗浄方法、ならびにそれを用いた超純水の製造方法
JP6056476B2 (ja) * 2012-12-28 2017-01-11 栗田工業株式会社 純水製造システム
JP6225487B2 (ja) * 2013-04-11 2017-11-08 栗田工業株式会社 超純水製造システム及び超純水製造供給システム
JP6788334B2 (ja) * 2014-08-01 2020-11-25 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 浄水システムおよび方法
JP6107987B1 (ja) * 2016-02-22 2017-04-05 栗田工業株式会社 超純水製造システムの洗浄方法
DE102016004612A1 (de) * 2016-04-19 2017-10-19 Merck Patent Gmbh Verfahren und Befüllungsvorrichtung zum Befüllen eines Transportbehälters mit einem Fluid
JP6897392B2 (ja) * 2017-07-26 2021-06-30 栗田工業株式会社 超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置
WO2019126428A1 (en) * 2017-12-20 2019-06-27 Evoqua Water Technologies Llc Hot water cart conditioning system and method
GB2585176B (en) * 2019-04-03 2023-12-06 Vws Uk Ltd Apparatus and method for providing purified water
EP3946766A1 (en) * 2019-04-05 2022-02-09 Ecolab USA Inc. Clean-in-place using ultrasoft water
JP7466999B2 (ja) * 2020-07-06 2024-04-15 株式会社ディスコ 純水生成装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4808287A (en) * 1987-12-21 1989-02-28 Hark Ernst F Water purification process
JPH0630764B2 (ja) * 1989-03-06 1994-04-27 森田化学工業株式会社 超純水ラインの滅菌方法
US5133854A (en) * 1990-07-13 1992-07-28 Tibor Horvath Skimmer with self-adjusting floating collector
JP2754925B2 (ja) * 1991-01-14 1998-05-20 オルガノ株式会社 プリント基板洗浄希薄排水からの水の回収方法
JPH0720597B2 (ja) * 1992-04-17 1995-03-08 文夫 傳法 水処理方法およびその水処理装置
JP3237222B2 (ja) 1992-08-26 2001-12-10 栗田工業株式会社 殺菌方法
JP3078146B2 (ja) * 1993-04-28 2000-08-21 オルガノ株式会社 超純水製造装置
US5935441A (en) * 1996-09-05 1999-08-10 Millipore Corporation Water purification process
JP3856558B2 (ja) * 1997-03-31 2006-12-13 忠弘 大見 超純水の殺菌方法及び殺菌超純水供給システム
KR100251649B1 (ko) * 1997-04-22 2000-04-15 윤종용 반도체장치제조공정용초순수의제조를위한살균조성물 및 이를이용한초순수제조장치의살균방법
US6183637B1 (en) * 1998-07-23 2001-02-06 Seh America, Inc. Resin trap device for use in ultrapure water systems and method of purifying water using same
US6416668B1 (en) * 1999-09-01 2002-07-09 Riad A. Al-Samadi Water treatment process for membranes
JP2001170630A (ja) * 1999-12-15 2001-06-26 Japan Organo Co Ltd 純水製造装置
US7048857B2 (en) * 2000-01-03 2006-05-23 The Boc Group, Inc. Method and apparatus for metal removal ion exchange
JP4072323B2 (ja) * 2001-04-27 2008-04-09 シャープ株式会社 ガリウム砒素含有排水の処理方法およびガリウム砒素含有排水の処理装置
JP5135654B2 (ja) * 2001-07-02 2013-02-06 栗田工業株式会社 二次純水製造装置
JP3480458B2 (ja) 2001-08-10 2003-12-22 栗田工業株式会社 殺菌方法
JP4661009B2 (ja) * 2001-09-04 2011-03-30 栗田工業株式会社 超純水製造システム
US6679988B2 (en) * 2002-01-09 2004-01-20 Mechanical Equipment Company, Inc. Apparatus for producing USP or WFI purified water

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1987457B (zh) * 2005-12-19 2012-05-23 栗田工业株式会社 水质评价方法、用该方法的超纯水评价装置及制造系统
CN105381482A (zh) * 2007-03-30 2016-03-09 栗田工业株式会社 超纯水制备系统的清洗灭菌方法
CN105381482B (zh) * 2007-03-30 2021-02-02 栗田工业株式会社 超纯水制备系统的清洗灭菌方法
CN101730577B (zh) * 2007-07-06 2012-11-21 三菱丽阳株式会社 净水装置的运行方法
CN104058482A (zh) * 2013-03-22 2014-09-24 苏州鑫泽雅节能设备有限公司 一种净水器
CN105283422A (zh) * 2013-07-24 2016-01-27 栗田工业株式会社 超纯水制造系统、超纯水制造供给系统及其洗涤方法
CN105283422B (zh) * 2013-07-24 2017-09-22 栗田工业株式会社 超纯水制造系统、超纯水制造供给系统及其洗涤方法
CN111359294A (zh) * 2020-03-23 2020-07-03 无锡轻大建筑设计研究院有限公司 耗能少的海绵城市雨水收集净化系统

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Publication number Publication date
JP4228732B2 (ja) 2009-02-25
US20040182764A1 (en) 2004-09-23
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