exposure meterとは 意味・読み方・使い方

SELF-CLEANING METHOD AND TRANSPARENT BOARD FOR SELF-CLEANING OF SEMICONDUCTOR EXPOSURE METER例文帳に追加

半導体露光装置の自己洗浄方法と自己洗浄用透過板 - 特許庁

To eliminate exposure from a clearance between a meter cover and a meter device, after eliminating staying of foreign matter between the meter cover and the meter device, in a meter cover structure in a saddle-riding type vehicle.例文帳に追加

鞍乗り型車両におけるメータカバー構造において、メータカバーとメータ装置との間の異物の滞留を無くした上で、メータカバーとメータ装置との間の隙間からの露光を無くすことを提供する。 - 特許庁

EXPOSURE COMPENSATION METHOD, AND SYSTEM EMPLOYING METER MATRIX AND FLASH例文帳に追加

計量マトリクスおよびフラッシュを用いる露出補償方法およびシステム - 特許庁

To provide an exposure meter exactly measuring exposure and a digital camera capable of realizing efficient photographing operation.例文帳に追加

露出を正確に測定する露出計と、効率的な撮影動作を可能にするデジタルカメラを提供する。 - 特許庁

LENS FOR LARGE-SIZED CAMERA UNDER EXPOSURE CONTROL (STOP AND SHUTTER SPEED CONTROL) OF EXPOSURE METER, AND SINGLE-LENS REFLEX CAMERA例文帳に追加

露出計により露出制御（絞りとシャッター速度制御）される大判カメラ用レンズと一眼レフカメラ - 特許庁

CALIBRATION METHOD AND DEVICE FOR POLARIZATION METER, THE POLARIZATION METER AND EXPOSURE DEVICE EQUIPPED WITH THE POLARIZATION METER, AND MEASURING METHOD OF PHASE DELAY AMOUNT AND WAVELENGTH PLATE例文帳に追加

偏光計測装置の校正方法及び装置、偏光計測装置及び該装置を備えた露光装置、並びに位相遅れ量の計測方法及び波長板 - 特許庁

CALCULATION METHOD AND CALCULATION APPARATUS FOR CALCULATING NONLINEAR ERROR IN LENGTH MEASUREMENT METER, LENGTH MEASUREMENT METER WITH CALCULATION APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS WITH CALCULATION APPARATUS OR LENGTH MEASUREMENT METER, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

測長計の非線形誤差を算出する算出方法及び算出装置、該算出装置を備える測長計、該算出装置又は該測長計を備える露光装置、及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

To efficiently self clean by optical cleaning a contaminant adhering to places other than a regular exposure course in a semiconductor exposure meter using ultraviolet rays for exposure.例文帳に追加

露光用に紫外線を用いる半導体露光装置において、通常の露光経路以外の箇所に付着した汚染物質を、光洗浄によって効率良く自己洗浄する。 - 特許庁